一种抗干扰的触控膜及其布局方法.pdf

本案为一种抗干扰的触控膜及其布局方法，触控膜（屏）上的每一个交叉测量点由通过同一个焊盘的多根发射线、接收线共同构成，所述同一焊盘上焊接有多根导线，其中，所述多根为两根及两根以上。本案的增强触控膜（屏）抗干扰性能的布局方式为触控膜上的每一个交叉测量点由通过同一个焊盘的多根发射线、接收线共同构成，也就是通过在同一个焊盘上增加导线数量的布局方式，达到了不增加线宽的同时，增加了触控膜（屏）的感应信号的有益效果。

1.  一种抗干扰的触控膜，其特征在于，所述触控膜上的每一个交叉测量点由通过同一个焊盘的多根发射线、接收线共同构成，所述同一焊盘上焊接有多根导线，其中，所述多根为两根及两根以上。

2.  如权利要求1所述的抗干扰的触控膜，其特征在于，所述多根发射线在膜的边缘端需要裁减的区域可裁减。

3.  如权利要求1所述的抗干扰的触控膜，其特征在于，所述多根发射线在膜的边缘端需要裁减的区域不裁剪。

4.  一种抗干扰的触控膜布局方法，其特征在于，两根及以上的发射线和一根接收线交叉构成一组交叉点，此组交叉点成为一个测量点；两根及以上发射线只在焊盘和甩尾走线等不可触控区域交叠，而在膜的可触控区域两根及以上发射线保持一定距离并不重叠。

5.  如权利要求4所述的抗干扰的触控膜布局方法，其特征在于，一根发射线和两根及以上接收线交叉构成一组交叉点，此组交叉点成为一个测量点；两根及以上接收线只在焊盘和甩尾走线等不可触控区域交叠，而在膜的可触控区域两根及以上接收线保持一定距离并不重叠。

6.  如权利要求4所述的抗干扰的触控膜布局方法，其特征在于，两根及以上的发射线和两根及以上接收线交叉构成一组交叉点，此组交叉点成为一个测量点；两根及以上发射线只在焊盘和甩尾走线等不可触控区域交叠，而在膜的可触控区域两根及以上发射线保持一定距离并不重叠；两根及以上接收线只在焊盘和甩尾走线等不可触控区域交叠，而在膜的可触控区域两根及以上接收线保持一定距离并不重叠。

7.  如权利要求4所述的抗干扰的触控膜布局方法，其特征在于，还包括：每个焊盘上都有多根导线。

8.  如权利要求4所述的抗干扰的触控膜布局方法，其特征在于，还包括：两个焊盘处均有两条导线伸出，通过两根发射线焊接在同一个焊盘处，使所述两根发射线以同时被测量两个交叉点的信号的方式和接收线相交叉。

一种抗干扰的触控膜及其布局方法
技术领域
本发明属于用于电子技术的纳米材料领域，具体为一种抗干扰的触控膜及其布局方法。
背景技术
触控的互电容技术是指用一组发射电极和一组接收电极构成一张交叉的网络，其中每根发射线和每根接收线之间交叉的地方形成电容，当人的手指靠近交叉点时，交叉点处电容改变，依靠检测到电容改变从而确定触控位置。
触控膜（屏）横纵两个方向上，其中一个方向平行排列发射导线，另一个方向平行排列接收导线，这些导线最终通过焊接，连接到柔性电路板上，现有的触控膜（屏）柔性电路板布线方式，请参阅附图1和2，图2为图1在A处的放大图，A所指向为第一个焊盘，图2中展示了柔性电路板的局部共有从左到右11个焊盘，每个焊盘都连接一根导线，从而实现对整张膜发射和接收信号，在图1中，A右方共有128个焊盘，都需要焊接；传统布线方式为一根发射线和一根交叉线构成一个交叉点，存在如下问题：一根发射线和一根接收线交叉，产生的感应信号较小；如果增加线的宽度，那么信号会增加，但同时使得导线容易被看出，影响实际使用中的视觉效果。
发明内容
为克服现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种增强触控膜抗干扰性能的布局方式，旨在不增加线宽的前提下增强触控膜（屏）的感应信号，降低噪声，并达到增强触控膜（屏）抗干扰性能。
为实现上述目的，本发明通过以下技术方案实现：
一种抗干扰的触控膜，触控膜上的每一个交叉测量点由通过同一个焊盘的多根发射线、接收线共同构成，所述同一焊盘上焊接有多根导线，其中，所述多根为两根及两根以上。
优选的是，所述的抗干扰的触控膜，其中，所述多根发射线在膜的边缘端需要裁减的区域可裁减。
优选的是，所述的抗干扰的触控膜，其中，所述多根发射线在膜的边缘端需要裁减的区域不裁剪。
优选的是，所述的抗干扰的触控膜布局方法，其中，两根及以上的发射线和一根接收线交叉构成一组交叉点此组交叉点成为一个测量点；两根及以上发射线只在焊盘和甩尾走线等不可触控区域可以交叠，而在膜的可触控区域两根及以上发射线保持一定距离并不重叠，可以减少两根及以上线距离近时造成的视觉影响。
优选的是，所述的抗干扰的触控膜布局方法，其中，一根的发射线和两根及以上接收线交叉构成一组交叉点此交叉点成为一个测量点；两根及以上接收线只在焊盘和甩尾走线等不可触控区域可以交叠，而在膜的可触控区域两根及以上接收线保持一定距离并不重叠，可以减少两根及以上线距离近时造成的视觉影响。
优选的是，所述的抗干扰的触控膜布局方法，其中，两根及以上的发射线和两根及以上接收线交叉构成一组交叉点此交叉点成为一个测量点；两根及以上发射线只在焊盘和甩尾走线等不可触控区域可以交叠，而在膜的可触控区域两根及以上发射线保持一定距离并不重叠，可以减少两根及以上线距离近时造成的视觉影响。两根及以上接收线只在焊盘和甩尾走线等不可触控区域可以交叠，而在膜的可触控区域两根及以上接收线保持一定距离并不重叠，可以减少两根及以上线距离近时造成的视觉影响。
优选的是，所述的抗干扰的触控膜布局方法，其中，还包括：每个焊盘上都有多根导线。
优选的是，所述的抗干扰的触控膜布局方法，其中，还包括：两个焊盘处均有两条导线伸出，通过两根发射线焊接在同一个焊盘处，使所述两根发射线以同时被测量两个交叉点的信号的方式和接收线相交叉。
本发明的有益效果：该增强触控膜（屏）抗干扰性能的布局方式为触控膜（屏）上的每一个交叉测量点由通过同一个焊盘的多根发射线、接收线共同构成，也就是通过在同一个焊盘上增加导线数量的布局方式，达到了不增加线宽的同时，增加了触控膜（屏）的感应信号的有益效果，解决了现有技术中抗干扰能力差、或增加线宽的方式提高感应信号而带来的视觉效果差的问题。
附图说明
图1为本发明一实施例所述的抗干扰的触控膜及其布局方法中背景技术中的传统互电容触控膜（屏）布局图；
图2为本发明一实施例所述的抗干扰的触控膜及其布局方法中图1在A处的放大图；
图3为本发明一实施例所述的抗干扰的触控膜及其布局方法中触控膜（屏）导线布局图；
图4为本发明一实施例所述的抗干扰的触控膜及其布局方法中图3在D’处的放大图；
图5为本发明一实施例所述的抗干扰的触控膜及其布局方法中图3在A’处的放大图；
其中，图1-2中，A-焊盘处，B-膜上发射线，C-接收线，D-膜上发射线与接收线的交叉点（一根发射线和一根交叉线构成一个交叉点）；
本图3-5中，A’-焊盘处，B’-膜上发射线，C’-接收线，D’-膜上发射线与接收线的交叉点（两根发射线和一根交叉线构成一个交叉点）。
具体实施方式
下面结合附图对本发明做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
一种抗干扰的触控膜，包括，触控膜上的每一个交叉测量点由通过同一个焊盘的多根发射线、接收线共同构成，所述同一焊盘上焊接有多根导线，其中，所述多根为两根及两根以上。该增强触控膜（屏）抗干扰性能的布局方式为触控膜（屏）上的每一个交叉测量点由通过同一个焊盘的多根发射线、接收线共同构成，也就是通过在同一个焊盘上增加导线数量的布局方式，达到了不增加线宽的同时，增加了触控膜（屏）的感应信号的有益效果，解决了现有技术中抗干扰能力差、或增加线宽的方式提高感应信号而带来的视觉效果差的问题。
进一步的，所述多根发射线在膜的边缘端需要裁减的区域可裁减。
进一步的，所述多根发射线在膜的边缘端需要裁减的区域不裁剪。
进一步的，两根及以上的发射线和一根接收线交叉构成一组交叉点此组交叉点成为一个测量点。两根及以上发射线只在焊盘和甩尾走线等不可触控区域可以交叠，而在膜的可触控区域两根及以上发射线保持一定距离并不重叠，可以减少两根及以上线距离近时造成的视觉影响。图4为图3在D处的放大图，可以看出，触控膜（屏）导线布局上优选为两根线（发射线）与同一根线（接收线）交叉。
进一步的，一根的发射线和两根及以上接收线交叉构成一组交叉点此交叉点成为一个测量点。两根及以上接收线只在焊盘和甩尾走线等不可触控区域可以交叠，而在膜的可触控区域两根及以上接收线保持一定距离并不重叠，可以减少两根及以上线距离近时造成的视觉影响。
进一步的，两根及以上的发射线和两根及以上接收线交叉构成一组交叉点此交叉点成为一个测量点。两根及以上发射线只在焊盘和甩尾走线等不可触控区域可以交叠，而在膜的可触控区域两根及以上发射线保持一定距离并不重叠，可以减少两根及以上线距离近时造成的视觉影响。两根及以上接收线只在焊盘和甩尾走线等不可触控区域可以交叠，而在膜的可触控区域两根及以上接收线保持一定距离并不重叠，可以减少两根及以上线距离近时造成的视觉影响。
进一步的，还包括：每个焊盘上都有多根导线。
进一步的，还包括：两个焊盘处均有两条导线伸出，通过两根发射线焊接在同一个焊盘处，使所述两根发射线以同时被测量两个交叉点的信号的方式和接收线相交叉。图5为图3在A处的放大图，可以看出，图5中两个焊盘，每个焊盘处有两条导线伸出，对应图4中交叉点处的两根发射线，通过两根发射线焊接在同一个焊盘处，使它们和接收线构成的两个交叉点的信号被一起测量，从而增大了信号。
尽管本发明的实施方案已公开如上，但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用，它完全可以被适用于各种适合本发明的领域，对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实现另外的修改，因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本发明并不限于特定的细节和这里示出与描述的图例。