一种NI基结合剂的超薄金刚石切割片制作工艺.pdf

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摘要
申请专利号:

CN200910028445.X

申请日:

2009.01.20

公开号:

CN101474778A

公开日:

2009.07.08

当前法律状态:

终止

有效性:

无权

法律详情:

未缴年费专利权终止IPC(主分类):B24D 18/00申请日:20090120授权公告日:20100908终止日期:20110120|||授权|||实质审查的生效|||公开

IPC分类号:

B24D18/00; B24D3/10

主分类号:

B24D18/00

申请人:

常州华中集团有限责任公司

发明人:

何昌耀

地址:

213000江苏省常州市钟楼区大仓路258-1号

优先权:

专利代理机构:

常州市维益专利事务所

代理人:

王凌霄

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内容摘要

本发明涉及一种Ni基结合剂的超薄金刚石切割片制作工艺。采用电解沉积法,步骤为选用镀膜塑料作阴极,且镀膜塑料表面预置一层金刚石;高纯Ni板作阳极;选用镍盐、钠盐、钴以及酸溶液混合制成电解液;将阴极基板和阳极基板放入电解液中,阴极基板接电源负极,阳极基板接电源正极,接通电源,则阳极的Ni离子沉积在阴极基板的金刚石表面,得到电铸层;将附有电铸层的阴极基板放入配置好的溶解液中,将镀膜塑料溶解掉;将电铸层进行后加工,制成所需规格尺寸的切割片。采用电解沉积法可形成厚度为0.02-1mm厚度的金刚石超薄片,选用镀膜塑料作阴极,方便金刚石与镀膜塑料分离,只需将镀膜塑料溶解即可,工艺简单,成本低。

权利要求书

1.  一种Ni基结合剂的超薄金刚石切割片制作工艺,其特征是采用电解沉积法,具体工艺步骤为:(1)选用镀膜塑料作阴极基板,且镀膜塑料表面用沉淀法预置有一层金刚石;(2)选用高纯Ni板作阳极基板;(3)选用镍盐、钠盐、钴以及酸溶液混合制成电解液;(4)将阴极基板和阳极基板放入上述电解液中,并将阴极基板接电源负极,阳极基板接电源正极,接通电源,则阳极的Ni离子沉积在阴极基板的金刚石表面,固结金刚石,得到电铸层;(5)将附有电铸层的阴极基板放入配置好的溶解液中,将镀膜塑料溶解掉,则电铸层与镀膜塑料分开;(6)将所得的电铸层进行后加工,制成所需规格尺寸的切割片。

2.
  根据权利要求1所述的一种Ni基结合剂的超薄金刚石切割片制作工艺,其特征是:所述的镀膜塑料为聚甲基丙烯酸甲酯。

3.
  根据权利要求1所述的一种Ni基结合剂的超薄金刚石切割片制作工艺,其特征是:所述的电解液的配方为18-25%的镍盐,1-3%的钴,1-2%的钠盐,2-4%的酸。

4.
  根据权利要求3所述的一种Ni基结合剂的超薄金刚石切割片制作工艺,其特征是:所述的电解液的温度为30-40℃,PH值为4.2-4.6。

5.
  根据权利要求1所述的一种Ni基结合剂的超薄金刚石切割片制作工艺,其特征是:所述的溶解液的溶剂为三氯甲烷CHCL3并加入2%乙醇C2H5OH。

6.
  根据权利要求1所述的一种Ni基结合剂的超薄金刚石切割片制作工艺,其特征是:所述的阴极基板可加入不锈钢板或铝合金板作为基体。

说明书

一种Ni基结合剂的超薄金刚石切割片制作工艺
所属技术领域
本发明涉及对硬脆材料的加工领域,尤其是一种Ni基结合剂的超薄金刚石切割片制作工艺。
背景技术
薄型金刚石切割片用于对各种锗、硅、硼、砷化镓、磷化钴、碳化硅等半导体材料,C-MOS青板玻璃、磷酸滤镜玻璃、石英玻璃、光学玻璃、微细玻璃管等玻璃类,Al2O3、ZrO2、Si3N4、CatiO3、铁氧体等陶瓷材料以及电子封装材料的切割。
现有的金刚石切割片一般采用粉末冶金的方法制造,但是只能做厚度为200微米以上的切割片,满足不了市场的需求。也有用电解沉积的方法制造切割片,一般选用金属板作阴极,制成的超薄片需要与金属板剥离,剥离时会产生变形或裂纹,且制作成本较高。
发明内容
本发明要解决的技术问题是:为了克服上述技术问题,本发明提供了一种Ni基结合剂的超薄金刚石切割片制作工艺,选用高纯镍板作阳极,经电解沉积与金刚石结合,可形成厚度为0.02-1mm厚度的金刚石超薄片。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种Ni基结合剂的超薄金刚石切割片制作工艺,其特征是采用电解沉积法,具体工艺步骤为:(1)选用镀膜塑料作阴极基板,且镀膜塑料表面用沉淀法预置有一层金刚石;(2)选用高纯Ni板作阳极基板;(3)选用镍盐、钠盐、钴以及酸溶液混合制成电解液;(4)将阴极基板和阳极基板放入上述电解液中,并将阴极基板接电源负极,阳极基板接电源正极,接通电源,则阳极的Ni离子沉积在阴极基板的金刚石表面,固结金刚石,得到电铸层;(5)将附有电铸层的阴极基板放入配置好的溶解液中,将镀膜塑料溶解掉,则电铸层与镀膜塑料分开;(6)将所得的电铸层进行后加工,制成所需规格尺寸的切割片。
所述的镀膜塑料为聚甲基丙烯酸甲酯。
所述的电解液的配方为18-25%的镍盐,1-3%的钴,1-2%的钠盐,2-4%的酸。
所述的电解液的温度为30-40℃,PH值为4.2-4.6。
所述的溶解液的溶剂为三氯甲烷CHCL3并加入2%乙醇C2H5OH,用以溶解解镀膜塑料。
所述的阴极基板可加入不锈钢板或铝合金板作为基体,选用基体是配合切割机床的需求,有种机床需要有基体才能装上切割片。
本发明的有益效果是:选用高纯镍板作阳极,经电解沉积与金刚石结合,可形成厚度为0.02-1mm厚度的金刚石超薄片,选用镀膜塑料作阴极,方便金刚石与镀膜塑料分离,只需将镀膜塑料溶解即可,整个工艺简单,制作成本低。
具体实施方式
一种Ni基结合剂的超薄金刚石切割片制作工艺,其特征是采用电解沉积法,具体工艺步骤为:(1)选用镀膜塑料作阴极基板,且镀膜塑料表面用沉淀法预置有一层金刚石;(2)选用高纯Ni板作阳极基板;(3)选用镍盐、钠盐、钴以及酸溶液混合制成电解液;(4)将阴极基板和阳极基板放入上述电解液中,并将阴极基板接电源负极,阳极基板接电源正极,接通电源,则阳极的Ni离子沉积在阴极基板的金刚石表面,固结金刚石,得到电铸层;(5)将附有电铸层的阴极基板放入配置好的溶解液中,将镀膜塑料溶解掉,则电铸层与镀膜塑料分开;(6)将所得的电铸层进行后加工,制成所需规格尺寸的切割片。
电解液的配方为18-25%的镍盐,1-3%的钴,1-2%的钠盐,2-4%的酸。电解液的温度为30-40℃,PH值为4.2-4.6。镀膜塑料为聚甲基丙烯酸甲酯,溶解液的溶剂为三氯甲烷CHCL3并加入2%乙醇C2H5OH,用以溶解镀膜塑料。
所述的阴极基板可加入不锈钢板或铝合金板作为基体,选用基体是配合切割机床的需求,有种机床需要有基体才能装上切割片。基体镀前作净化处理,用碱液加热清洗。

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本发明涉及一种Ni基结合剂的超薄金刚石切割片制作工艺。采用电解沉积法,步骤为选用镀膜塑料作阴极,且镀膜塑料表面预置一层金刚石;高纯Ni板作阳极;选用镍盐、钠盐、钴以及酸溶液混合制成电解液;将阴极基板和阳极基板放入电解液中,阴极基板接电源负极,阳极基板接电源正极,接通电源,则阳极的Ni离子沉积在阴极基板的金刚石表面,得到电铸层;将附有电铸层的阴极基板放入配置好的溶解液中,将镀膜塑料溶解掉;将电铸层进。

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