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1、10申请公布号CN104190662A43申请公布日20141210CN104190662A21申请号201410415331122申请日20140822B08B5/0220060171申请人优德精密工业昆山股份有限公司地址215316江苏省苏州市昆山市城北镇北门路3168号72发明人王仲伟季明其杨加华74专利代理机构南京纵横知识产权代理有限公司32224代理人董建林54发明名称数控水磨配套清洗桌57摘要本发明公开了一种数控水磨配套清洗桌，包括桌体，还包括外封铁板、外封漏斗，所述桌体包括支架、栅格板，所述支架分别与栅格板底部四角相连接；所述栅格板顶部三边垂直设置有三块外封铁板，三块外封铁板顶部。
2、水平密封有一块外封铁板；所述栅格板底部连接有外封漏斗。本发明提供的数控水磨配套清洗桌，结构简单，清洗方便，省时省力，节约耗材；可有效提高工作效率及工作环境整洁度。51INTCL权利要求书1页说明书2页附图1页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书2页附图1页10申请公布号CN104190662ACN104190662A1/1页21一种数控水磨配套清洗桌，包括桌体，其特征在于还包括外封铁板、外封漏斗，所述桌体包括支架、栅格板，所述支架分别与栅格板底部四角相连接；所述栅格板顶部三边垂直设置有三块外封铁板，三块外封铁板顶部水平密封有一块外封铁板；所述栅格板底部连接有外封。
3、漏斗。2根据权利要求1所述的数控水磨配套清洗桌，其特征在于还包括固定板，所述固定板与四根支架下部相连接，用于增加桌体强度。3根据权利要求1所述的数控水磨配套清洗桌，其特征在于还包括气枪、气枪架，所述气枪架设置在栅格板侧面，所述气枪放置在气枪架上。4根据权利要求1所述的数控水磨配套清洗桌，其特征在于还包括切削液回收装置，所述切削液回收装置通过管道与外封漏斗底部相连接。权利要求书CN104190662A1/2页3数控水磨配套清洗桌技术领域0001本发明涉及一种数控水磨配套清洗桌，属于清洗装置技术领域。背景技术0002目前，数控水磨加工后的工件表面残留有切削液及铁屑，以往所使用的方式是用手拿住工件利。
4、用气枪将工件表面的切削液及铁屑对吹干净，这样有如下几方面的问题1、清洗效率低，比如有的工件较大在清洗时需要用手拿着工件，清洗时不够全面，同时加工者也较吃力，劳动负荷增加。00032、在清洗过程中，切削产生的削液及铁屑对工作环境造成一定的污染。00043、切削液无法收集导致的浪费。发明内容0005目的为了克服现有技术中存在的不足，本发明提供一种数控水磨配套清洗桌。0006技术方案为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为一种数控水磨配套清洗桌，包括桌体，还包括外封铁板、外封漏斗，所述桌体包括支架、栅格板，所述支架分别与栅格板底部四角相连接；所述栅格板顶部三边垂直设置有三块外封铁板，三块外封铁板顶。
5、部水平密封有一块外封铁板；所述栅格板底部连接有外封漏斗。0007还包括固定板，所述固定板与四根支架下部相连接，用于增加桌体强度。0008还包括气枪、气枪架，所述气枪架设置在栅格板侧面，所述气枪放置在气枪架上。0009还包括切削液回收装置，所述切削液回收装置通过管道与外封漏斗底部相连接。0010有益效果本发明提供的数控水磨配套清洗桌，结构简单，清洗方便，省时省力，节约耗材；可有效提高工作效率及工作环境整洁度。附图说明0011图1为本发明的结构示意图。具体实施方式0012下面结合附图对本发明作更进一步的说明。0013如图1所示，一种数控水磨配套清洗桌，包括桌体1，还包括外封铁板2、外封漏斗3，所述。
6、桌体1包括支架4、栅格板5，所述支架1分别与栅格板5底部四角相连接；所述栅格板5顶部三边垂直设置有三块外封铁板2，三块外封铁板2顶部水平密封有一块外封铁板2；所述栅格板5底部连接有外封漏斗3。0014还包括固定板6，所述固定板6与四根支架4下部相连接，用于增加桌体强度。0015还包括气枪7、气枪架8，所述气枪架8设置在栅格板5侧面，所述气枪7放置在气枪架8上。0016还包括切削液回收装置，所述切削液回收装置通过管道与外封漏斗3底部相连说明书CN104190662A2/2页4接。0017具体使用方式如下将数控水磨加工后的工件9放置于栅格板5上，使用气枪7将工件9表面的切削液及残留的铁屑清理干净，清理时溅出的切削液及杂质会随外封铁板2内壁流下，并通过栅格板5下外封漏斗3集中流入管道回流至切削液回收装置。0018以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。说明书CN104190662A1/1页5图1说明书附图CN104190662A。