一种气体冷却设备及高温操作系统.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201410330365.0

申请日:

2014.07.11

公开号:

CN104110969A

公开日:

2014.10.22

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法律详情:

授权|||实质审查的生效IPC(主分类):F27D 17/00申请日:20140711|||公开

IPC分类号:

F27D17/00; F23J15/06; H01L51/56

主分类号:

F27D17/00

申请人:

深圳市华星光电技术有限公司

发明人:

余威

地址:

518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号

优先权:

专利代理机构:

深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300

代理人:

黄威

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内容摘要

本发明提供一种气体冷却设备,其包括:冷媒介存储装置,其内设置有预设温度的冷媒介;冷却处理装置,设置在所述冷媒介存储装置内,通过所述冷媒介对高温气体进行冷却处理;其中所述冷却处理装置包括进气端和出气端;以及脱水装置,设置在所述冷却处理装置的进气端,用于对所述高温气体进行脱水处理。本发明通过在气体冷却设备上增加一脱水装置,能够对高温气体进行脱水处理,解决了现有的高温炉排出的较低温度的高温气体中的水进入冷却处理装置,导致压力升高以及石英卡夹易破碎的技术问题,从而提高生产效率、降低生产成本。

权利要求书

1.  一种气体冷却设备,其特征在于,包括:
冷媒介存储装置,其内设置有预设温度的冷媒介;
冷却处理装置,设置在所述冷媒介存储装置内,通过所述冷媒介对高温气体进行冷却处理;其中所述冷却处理装置包括进气端和出气端;以及
脱水装置,设置在所述冷却处理装置的进气端,用于对所述高温气体进行脱水处理。

2.
  根据权利要求1所述的气体冷却设备,其特征在于:所述脱水装置为分子筛脱水装置,用于对设定温度范围内的所述高温气体进行脱水处理。

3.
  根据权利要求2所述的气体冷却设备,其特征在于:当所述高温气体的温度高于所述设定温度范围时,所述分子筛脱水装置进行水气排出操作。

4.
  根据权利要求1所述的气体冷却设备,其特征在于:所述设定温度范围为60度-80度,所述冷媒介的预设温度为-40度到-30度。

5.
  根据权利要求1所述的气体冷却设备,其特征在于:所述冷却处理装置包括输入管、输出管以及密闭容器;
其中所述密闭容器放置在所述冷媒介存储装置内;
所述输入管的一端伸出所述密闭容器外,所述输入管的另一端伸入所述密闭容器内且靠近所述密闭容器底部位置;
所述输出管的一端伸入所述密闭容器内且靠近所述密闭容器顶部位置,所述输出管的另一端伸出所述密闭容器外。

6.
  根据权利要求1所述的气体冷却设备,其特征在于:所述脱水装置为干燥盒。

7.
  一种高温操作系统,其特征在于,包括:
高温处理设备,用于对待操作物品进行高温操作,并产生高温气体,以及通过高温气体输出端排出所述高温气体;
气体冷却设备,与所述高温处理设备的高温气体输出端连接,其包括:
冷媒介存储装置,其内设置有预设温度的冷媒介;
冷却处理装置,设置在所述冷媒介存储装置内,通过所述冷媒介对所述高温气体进行冷却处理;其中所述冷却处理装置包括进气端和出气端;以及
脱水装置,设置在所述冷却处理装置的进气端,用于对所述高温气体进行脱水处理。

8.
  根据权利要求7所述的高温操作系统,其特征在于:所述脱水装置为分子筛脱水装置,用于对设定温度范围内的所述高温气体进行脱水处理。

9.
  根据权利要求8所述的高温操作系统,其特征在于:当所述高温气体的温度高于所述设定温度范围时,所述分子筛脱水装置进行水气排出操作。

10.
  根据权利要求7所述的高温操作系统,其特征在于:所 述脱水装置为干燥盒。

说明书

一种气体冷却设备及高温操作系统
技术领域
本发明涉及有机发光显示器封装领域,特别是涉及一种气体冷却设备及高温操作系统。
背景技术
OLED(Organic Light Emitting Display,有机发光显示器)作为新一代的显示器,其制程过程是在基板上制作有机薄膜,其中有机薄膜放置在阴极和阳极金属之间,给两电极加电压,则使有机薄膜会发光。由于有机薄膜对水和氧气很敏感,容易因水氧发生老化变性,从而降低显示器的亮度和寿命,所以需要对OLED器件进行封装制程。
封装盖板与OLED基板一种方式是通过UV(Ultraviolet Rays,紫外光线)胶封装,另外一种封装方式为玻璃胶封,其装封装效果更好。由于玻璃胶阻隔水氧的能力远强于UV胶。玻璃胶封装过程是在封装盖板上涂布玻璃胶,将涂有玻璃胶的封装盖板在OLED高温炉进行高温烘烤(温度在500度-600度),将烘烤后的涂有玻璃胶的封装盖板再涂布UV胶,然后与OLED基板对组贴合,通过UV灯照射固化UV胶(UV胶的作用为暂时粘合两张玻璃以及起到临时密封的效果),最终用镭射将烘干的玻璃胶融化后 再凝结,将封装盖板与OLED基板粘合达到封装效果。
由于OLED高温炉的洁净度及温度的需求,将玻璃盖板放置在石英卡夹的各层上进行烘烤。通常将高温炉中的高温气体降温后再排出,由于高温气体中含有水,因此较低温度的高温气体进行降温处理时,其中的水容易结冰,导致管道堵塞,使得高温气体不能及时排出,从而使得压力升高,迫使制程停止或使得石英卡夹震动,容易发生破裂。
发明内容
本发明的目的在于提供一种气体冷却设备,以防止高温炉排出的较低温度的高温气体中的水进入冷却处理装置,导致压力升高以及石英卡夹易破碎的技术问题,从而提高生产效率、降低生产成本。
为解决上述技术问题,本发明构造了一种气体冷却设备,所述气体冷却设备包括:
冷媒介存储装置,其内设置有预设温度的冷媒介;
冷却处理装置,设置在所述冷媒介存储装置内,通过所述冷媒介对高温气体进行冷却处理;其中所述冷却处理装置包括进气端和出气端;以及
脱水装置,设置在所述冷却处理装置的进气端,用于对所述高温气体进行脱水处理。
在本发明的气体冷却设备中,所述脱水装置为分子筛脱水装置,用于对设定温度范围内的所述高温气体进行脱水处理。
在本发明的气体冷却设备中,当所述高温气体的温度高于所述设定温度范围时,所述分子筛脱水装置进行水气排出操作。
在本发明的气体冷却设备中,所述设定温度范围为60度-80度,所述冷媒介的预设温度为-40度到-30度。
在本发明的气体冷却设备中,所述冷却处理装置包括输入管、输出管以及密闭容器;
其中所述密闭容器放置在所述冷媒介存储装置内;
所述输入管的一端伸出所述密闭容器外,所述输入管的另一端伸入所述密闭容器内且靠近所述密闭容器底部位置;
所述输出管的一端伸入所述密闭容器内且靠近所述密闭容器顶部位置,所述输出管的另一端伸出所述密闭容器外。
在本发明的气体冷却设备中,所述脱水装置为干燥盒。
本发明的另一个目的在于提供一种高温操作系统,所述高温操作系统包括:
高温处理设备,用于对待操作物品进行高温操作,并产生高温气体,以及通过高温气体输出端排出所述高温气体;
气体冷却设备,与所述高温处理设备的高温气体输出端连接,其包括:
冷媒介存储装置,其内设置有预设温度的冷媒介;
冷却处理装置,设置在所述冷媒介存储装置内,通过所述冷媒介对所述高温气体进行冷却处理;其中所述冷却处理装置包括进气端和出气端;以及
脱水装置,设置在所述冷却处理装置的进气端,用于对所述 高温气体进行脱水处理。
在本发明的高温操作系统中,所述脱水装置为分子筛脱水装置,用于对设定温度范围内的所述高温气体进行脱水处理。
在本发明的高温操作系统中,当所述高温气体的温度高于所述设定温度范围时,所述分子筛脱水装置进行水气排出操作。
在本发明的高温操作系统中,所述脱水装置为干燥盒。
本发明通过提供一种气体冷却设备及高温操作系统,通过在气体冷却设备上增加一脱水装置,能够对高温气体进行脱水处理,解决了现有的高温炉排出的较低温度的高温气体中的水进入冷却处理装置,导致压力升高以及石英卡夹易破碎的技术问题,从而提高生产效率、降低生产成本。
附图说明
图1是本发明实施例中气体冷却设备的结构示意图;
图2是本发明实施例中高温操作系统的结构示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图式,用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语,例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以限制本发明。在图中,结构相似的单元是以相同标号表示。
请参照图1,图1为本发明实施例中气体冷却设备的结构示意图。
如图1所示,气体冷却设备包括:冷媒介存储装置10、冷却处理装置11、脱水装置12。其中,冷媒介存储装置10内设置有预设温度的冷媒介;预设温度譬如为-40度到-30度。
所述冷却处理装置11包括进气端和出气端;所述进气端通有高温气体,所述冷却处理装置11放置在所述冷媒介存储装置10内,通过所述冷媒介存储装置10内的所述冷媒介对所述高温气体进行冷却处理;以及
所述冷却处理装置11包括输入管111和输出管112以及密闭容器113;其中所述密闭容器113放置在所述冷媒介存储装置10内;
其中所述输入管的一端1111伸出所述密闭容器113外,所述输入管的另一端1112伸入所述密闭容器113内且靠近所述密闭容器113底部位置;
所述输出管的一端1121伸入所述密闭容器113内且靠近所述密闭容器113顶部位置,所述输出管的另一端1122伸出所述密闭容器113外,所述高温气体通过所述输入管111进入所述密闭容器113中,由于所述密闭容器113放置在所述冷媒介存储装置10内,因而所述高温气体进入所述密闭容器113时可以被冷却,由于所述输入管的另一端1112靠近所述密闭容器113底部位置且所述输出管的一端1121靠近所述密闭容器113顶部位置,使得所述高温气体在所述密闭容器113流动的时间增加,相应增 加了冷却时间,因而具有更好的冷却效果。
所述密闭容器113譬如为具有带瓶塞的集气瓶,所述瓶塞上有分别供所述输入管111和输出管112伸入所述集气瓶内的孔,所述瓶塞上孔的孔径略大于所述输入管111和输出管112的孔径。
最终经过冷却处理后的所述高温气体由所述输出管112排出,所述输出管112连接外部的废气处理装置。
脱水装置12,设置在所述冷却处理装置11的进气端(与所述输入管的一端1111相同),在所述冷却处理装置11对所述高温气体冷却处理之前,所述脱水装置12对输入所述冷却处理装置11的所述高温气体进行脱水处理。
所述脱水装置12可以为分子筛脱水装置,当所述高温气体的温度处于设定温度范围内时,所述分子筛脱水装置能够吸收所述高温气体中的水;当所述高温气体的温度高于所述设定温度范围时,所述高温气体的温度能够使所述分子筛脱水装置之前吸收的水气化并排出,即所述分子筛脱水装置进行水气排出操作,采用这种脱水装置,由于其自身能够将吸收的水排出,因而不需要定期更换。所述设定温度范围譬如为60度-80度。
所述脱水装置12可以为干燥盒,所述干燥盒内装有干燥剂,所述干燥盒将输入的所述高温气体中的水吸收,将经过干燥后的高温气体通入所述冷却处理装置11,由于所述干燥盒的吸收的水达到一定量后,吸水能力下降,因此为了使得所述干燥盒有更好的脱水效果,需要定期更换所述干燥盒。
所述气体冷却设备的工作过程为:首先向所述气体冷却设备输入高温气体,所述脱水装置12对所述高温气体进行脱水处理,经过脱水处理后的高温气体经过所述输入管111进入所述密闭容器113,所述密闭容器113通过所述冷媒介存储装置10内的冷媒介对经过脱水处理后的高温气体进行冷却,最后将经过冷却后的高温气体经过所述输出管112排出。
本发明通过提供一种气体冷却设备,通过在气体冷却设备上增加一脱水装置,能够对高温气体进行脱水处理,解决了现有的高温炉排出的较低温度的高温气体中的水进入冷却处理装置,导致压力升高以及石英卡夹易破碎的技术问题,从而提高生产效率、降低生产成本。
请参照图2,图2为本发明实施例中高温操作系统的结构示意图。
如图2所示,高温操作系统包括高温处理设备2,气体冷却设备1,所述气体冷却设备1与所述高温处理设备2的高温气体输出端21连接。
所述高温处理设备2用于对待操作物品进行高温操作,所述高温处理装置2内设置有保护气体,所述高温处理装置2能够对所述保护气体加热并产生高温气体,其具有一高温气体输出端21,通过所述高温气体输出端21将所述高温气体输入所述气体冷却设备1;所述高温处理设备2譬如为高温炉,所述待操作物品譬如为OLED封装盖板。
所述气体冷却设备1包括:冷媒介存储装置10、冷却处理 装置11、脱水装置12。其中,冷媒介存储装置10内设置有预设温度的冷媒介;预设温度譬如为-40度到-30度。
所述冷却处理装置11包括进气端和出气端;所述进气端通有经过所述脱水装置12脱水处理后的高温气体,所述冷却处理装置11放置在所述冷媒介存储装置10内,通过所述冷媒介存储装置10内的所述冷媒介对所述高温气体进行冷却处理;以及
所述冷却处理装置11包括输入管111和输出管112以及密闭容器113;其中所述密闭容器113放置在所述冷媒介存储装置10内;
优选地,其中所述输入管的一端1111伸出所述密闭容器113外,所述输入管的另一端1112伸入所述密闭容器113内且靠近所述密闭容器113底部位置;
所述输出管的一端1121伸入所述密闭容器113内且靠近所述密闭容器113顶部位置,所述输出管的另一端1122伸出所述密闭容器113外,所述高温气体通过所述输入管111进入所述密闭容器113中,由于所述密闭容器113放置在所述冷媒介存储装置10内,因而所述高温气体进入所述密闭容器113时可以被冷却。由于所述输入管的另一端1112靠近所述密闭容器113底部位置且所述输出管的一端1121靠近所述密闭容器113顶部位置,使得所述高温气体在所述密闭容器113流动的时间增加,相应增加了冷却时间,因而具有更好的冷却效果。
所述密闭容器113譬如为具有带瓶塞的集气瓶,所述瓶塞上有分别供所述输入管111和输出管112伸入所述集气瓶内的孔, 所述瓶塞上孔的孔径略大于所述输入管111和输出管112的孔径。
最终经过冷却处理后的所述高温气体由所述输出管112排出,所述输出管112连接外部的废气处理装置。
脱水装置12,设置在所述冷却处理装置11的进气端(与所述输入管的一端1111相同),在所述冷却处理装置11对所述高温气体冷却处理之前,对输入所述冷却处理装置11的所述高温气体进行脱水处理。
所述脱水装置12可以为分子筛脱水装置,当所述高温气体的温度处于设定温度范围内时,所述分子筛脱水装置能够吸收所述高温气体中的水;当所述高温气体的温度高于所述设定温度范围时,所述高温气体的温度能够使所述分子筛脱水装置之前吸收的水气化并排出,即所述分子筛脱水装置进行水气排出操作,采用这种脱水装置,由于其自身能够将吸收的水排出,因而不需要定期更换。所述设定温度范围譬如为60度-80度。
所述脱水装置12可以为干燥盒,所述干燥盒内装有干燥剂,所述干燥盒将输入的所述高温气体中的水吸收,将经过干燥后的高温气体通入所述冷却处理装置11,由于所述干燥盒的吸水达到一定量后,吸水能力下降,因此为了使得所述干燥盒有更好的脱水效果,需要定期更换所述干燥盒。
所述高温操作系统的工作过程为:首先所述高温处理设备2向所述气体冷却设备1输入高温气体,所述脱水装置12对所述高温气体进行脱水处理,经过脱水处理后的高温气体经过所述输 入管111进入所述密闭容器113,所述密闭容器113通过所述冷媒介存储装置10内的冷媒介对经过脱水处理后的高温气体进行冷却,最后将经过冷却后的高温气体经过所述输出管112排出。
本发明通过提供一种高温操作系统,通过在气体冷却设备上增加一脱水装置,能够对高温气体进行脱水处理,解决了现有的高温炉排出的较低温度的高温气体中的水进入冷却处理装置,导致压力升高以及石英卡夹易破碎的技术问题,从而提高生产效率、降低生产成本。
综上所述,虽然本发明已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

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资源描述

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1、10申请公布号CN104110969A43申请公布日20141022CN104110969A21申请号201410330365022申请日20140711F27D17/00200601F23J15/06200601H01L51/5620060171申请人深圳市华星光电技术有限公司地址518132广东省深圳市光明新区塘明大道92号72发明人余威74专利代理机构深圳翼盛智成知识产权事务所普通合伙44300代理人黄威54发明名称一种气体冷却设备及高温操作系统57摘要本发明提供一种气体冷却设备,其包括冷媒介存储装置,其内设置有预设温度的冷媒介;冷却处理装置,设置在所述冷媒介存储装置内,通过所述冷媒介对。

2、高温气体进行冷却处理;其中所述冷却处理装置包括进气端和出气端;以及脱水装置,设置在所述冷却处理装置的进气端,用于对所述高温气体进行脱水处理。本发明通过在气体冷却设备上增加一脱水装置,能够对高温气体进行脱水处理,解决了现有的高温炉排出的较低温度的高温气体中的水进入冷却处理装置,导致压力升高以及石英卡夹易破碎的技术问题,从而提高生产效率、降低生产成本。51INTCL权利要求书1页说明书5页附图1页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书5页附图1页10申请公布号CN104110969ACN104110969A1/1页21一种气体冷却设备,其特征在于,包括冷媒介存储装置,。

3、其内设置有预设温度的冷媒介;冷却处理装置,设置在所述冷媒介存储装置内,通过所述冷媒介对高温气体进行冷却处理;其中所述冷却处理装置包括进气端和出气端;以及脱水装置,设置在所述冷却处理装置的进气端,用于对所述高温气体进行脱水处理。2根据权利要求1所述的气体冷却设备,其特征在于所述脱水装置为分子筛脱水装置,用于对设定温度范围内的所述高温气体进行脱水处理。3根据权利要求2所述的气体冷却设备,其特征在于当所述高温气体的温度高于所述设定温度范围时,所述分子筛脱水装置进行水气排出操作。4根据权利要求1所述的气体冷却设备,其特征在于所述设定温度范围为60度80度,所述冷媒介的预设温度为40度到30度。5根据权。

4、利要求1所述的气体冷却设备,其特征在于所述冷却处理装置包括输入管、输出管以及密闭容器;其中所述密闭容器放置在所述冷媒介存储装置内;所述输入管的一端伸出所述密闭容器外,所述输入管的另一端伸入所述密闭容器内且靠近所述密闭容器底部位置;所述输出管的一端伸入所述密闭容器内且靠近所述密闭容器顶部位置,所述输出管的另一端伸出所述密闭容器外。6根据权利要求1所述的气体冷却设备,其特征在于所述脱水装置为干燥盒。7一种高温操作系统,其特征在于,包括高温处理设备,用于对待操作物品进行高温操作,并产生高温气体,以及通过高温气体输出端排出所述高温气体;气体冷却设备,与所述高温处理设备的高温气体输出端连接,其包括冷媒介。

5、存储装置,其内设置有预设温度的冷媒介;冷却处理装置,设置在所述冷媒介存储装置内,通过所述冷媒介对所述高温气体进行冷却处理;其中所述冷却处理装置包括进气端和出气端;以及脱水装置,设置在所述冷却处理装置的进气端,用于对所述高温气体进行脱水处理。8根据权利要求7所述的高温操作系统,其特征在于所述脱水装置为分子筛脱水装置,用于对设定温度范围内的所述高温气体进行脱水处理。9根据权利要求8所述的高温操作系统,其特征在于当所述高温气体的温度高于所述设定温度范围时,所述分子筛脱水装置进行水气排出操作。10根据权利要求7所述的高温操作系统,其特征在于所述脱水装置为干燥盒。权利要求书CN104110969A1/5。

6、页3一种气体冷却设备及高温操作系统【技术领域】0001本发明涉及有机发光显示器封装领域,特别是涉及一种气体冷却设备及高温操作系统。【背景技术】0002OLEDORGANICLIGHTEMITTINGDISPLAY,有机发光显示器作为新一代的显示器,其制程过程是在基板上制作有机薄膜,其中有机薄膜放置在阴极和阳极金属之间,给两电极加电压,则使有机薄膜会发光。由于有机薄膜对水和氧气很敏感,容易因水氧发生老化变性,从而降低显示器的亮度和寿命,所以需要对OLED器件进行封装制程。0003封装盖板与OLED基板一种方式是通过UVULTRAVIOLETRAYS,紫外光线胶封装,另外一种封装方式为玻璃胶封,其。

7、装封装效果更好。由于玻璃胶阻隔水氧的能力远强于UV胶。玻璃胶封装过程是在封装盖板上涂布玻璃胶,将涂有玻璃胶的封装盖板在OLED高温炉进行高温烘烤温度在500度600度,将烘烤后的涂有玻璃胶的封装盖板再涂布UV胶,然后与OLED基板对组贴合,通过UV灯照射固化UV胶UV胶的作用为暂时粘合两张玻璃以及起到临时密封的效果,最终用镭射将烘干的玻璃胶融化后再凝结,将封装盖板与OLED基板粘合达到封装效果。0004由于OLED高温炉的洁净度及温度的需求,将玻璃盖板放置在石英卡夹的各层上进行烘烤。通常将高温炉中的高温气体降温后再排出,由于高温气体中含有水,因此较低温度的高温气体进行降温处理时,其中的水容易结。

8、冰,导致管道堵塞,使得高温气体不能及时排出,从而使得压力升高,迫使制程停止或使得石英卡夹震动,容易发生破裂。【发明内容】0005本发明的目的在于提供一种气体冷却设备,以防止高温炉排出的较低温度的高温气体中的水进入冷却处理装置,导致压力升高以及石英卡夹易破碎的技术问题,从而提高生产效率、降低生产成本。0006为解决上述技术问题,本发明构造了一种气体冷却设备,所述气体冷却设备包括0007冷媒介存储装置,其内设置有预设温度的冷媒介;0008冷却处理装置,设置在所述冷媒介存储装置内,通过所述冷媒介对高温气体进行冷却处理;其中所述冷却处理装置包括进气端和出气端;以及0009脱水装置,设置在所述冷却处理装。

9、置的进气端,用于对所述高温气体进行脱水处理。0010在本发明的气体冷却设备中,所述脱水装置为分子筛脱水装置,用于对设定温度范围内的所述高温气体进行脱水处理。0011在本发明的气体冷却设备中,当所述高温气体的温度高于所述设定温度范围时,所述分子筛脱水装置进行水气排出操作。说明书CN104110969A2/5页40012在本发明的气体冷却设备中,所述设定温度范围为60度80度,所述冷媒介的预设温度为40度到30度。0013在本发明的气体冷却设备中,所述冷却处理装置包括输入管、输出管以及密闭容器;0014其中所述密闭容器放置在所述冷媒介存储装置内;0015所述输入管的一端伸出所述密闭容器外,所述输入。

10、管的另一端伸入所述密闭容器内且靠近所述密闭容器底部位置;0016所述输出管的一端伸入所述密闭容器内且靠近所述密闭容器顶部位置,所述输出管的另一端伸出所述密闭容器外。0017在本发明的气体冷却设备中,所述脱水装置为干燥盒。0018本发明的另一个目的在于提供一种高温操作系统,所述高温操作系统包括0019高温处理设备,用于对待操作物品进行高温操作,并产生高温气体,以及通过高温气体输出端排出所述高温气体;0020气体冷却设备,与所述高温处理设备的高温气体输出端连接,其包括0021冷媒介存储装置,其内设置有预设温度的冷媒介;0022冷却处理装置,设置在所述冷媒介存储装置内,通过所述冷媒介对所述高温气体进。

11、行冷却处理;其中所述冷却处理装置包括进气端和出气端;以及0023脱水装置,设置在所述冷却处理装置的进气端,用于对所述高温气体进行脱水处理。0024在本发明的高温操作系统中,所述脱水装置为分子筛脱水装置,用于对设定温度范围内的所述高温气体进行脱水处理。0025在本发明的高温操作系统中,当所述高温气体的温度高于所述设定温度范围时,所述分子筛脱水装置进行水气排出操作。0026在本发明的高温操作系统中,所述脱水装置为干燥盒。0027本发明通过提供一种气体冷却设备及高温操作系统,通过在气体冷却设备上增加一脱水装置,能够对高温气体进行脱水处理,解决了现有的高温炉排出的较低温度的高温气体中的水进入冷却处理装。

12、置,导致压力升高以及石英卡夹易破碎的技术问题,从而提高生产效率、降低生产成本。【附图说明】0028图1是本发明实施例中气体冷却设备的结构示意图;0029图2是本发明实施例中高温操作系统的结构示意图。【具体实施方式】0030以下各实施例的说明是参考附加的图式,用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语,例如上、下、前、后、左、右、内、外、侧面等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以限制本发明。在图中,结构相似的单元是以相同标号表示。0031请参照图1,图1为本发明实施例中气体冷却设备的结构示意图。说明书CN104110969A3/5页50。

13、032如图1所示,气体冷却设备包括冷媒介存储装置10、冷却处理装置11、脱水装置12。其中,冷媒介存储装置10内设置有预设温度的冷媒介;预设温度譬如为40度到30度。0033所述冷却处理装置11包括进气端和出气端;所述进气端通有高温气体,所述冷却处理装置11放置在所述冷媒介存储装置10内,通过所述冷媒介存储装置10内的所述冷媒介对所述高温气体进行冷却处理;以及0034所述冷却处理装置11包括输入管111和输出管112以及密闭容器113;其中所述密闭容器113放置在所述冷媒介存储装置10内;0035其中所述输入管的一端1111伸出所述密闭容器113外,所述输入管的另一端1112伸入所述密闭容器1。

14、13内且靠近所述密闭容器113底部位置;0036所述输出管的一端1121伸入所述密闭容器113内且靠近所述密闭容器113顶部位置,所述输出管的另一端1122伸出所述密闭容器113外,所述高温气体通过所述输入管111进入所述密闭容器113中,由于所述密闭容器113放置在所述冷媒介存储装置10内,因而所述高温气体进入所述密闭容器113时可以被冷却,由于所述输入管的另一端1112靠近所述密闭容器113底部位置且所述输出管的一端1121靠近所述密闭容器113顶部位置,使得所述高温气体在所述密闭容器113流动的时间增加,相应增加了冷却时间,因而具有更好的冷却效果。0037所述密闭容器113譬如为具有带瓶。

15、塞的集气瓶,所述瓶塞上有分别供所述输入管111和输出管112伸入所述集气瓶内的孔,所述瓶塞上孔的孔径略大于所述输入管111和输出管112的孔径。0038最终经过冷却处理后的所述高温气体由所述输出管112排出,所述输出管112连接外部的废气处理装置。0039脱水装置12,设置在所述冷却处理装置11的进气端与所述输入管的一端1111相同,在所述冷却处理装置11对所述高温气体冷却处理之前,所述脱水装置12对输入所述冷却处理装置11的所述高温气体进行脱水处理。0040所述脱水装置12可以为分子筛脱水装置,当所述高温气体的温度处于设定温度范围内时,所述分子筛脱水装置能够吸收所述高温气体中的水;当所述高温。

16、气体的温度高于所述设定温度范围时,所述高温气体的温度能够使所述分子筛脱水装置之前吸收的水气化并排出,即所述分子筛脱水装置进行水气排出操作,采用这种脱水装置,由于其自身能够将吸收的水排出,因而不需要定期更换。所述设定温度范围譬如为60度80度。0041所述脱水装置12可以为干燥盒,所述干燥盒内装有干燥剂,所述干燥盒将输入的所述高温气体中的水吸收,将经过干燥后的高温气体通入所述冷却处理装置11,由于所述干燥盒的吸收的水达到一定量后,吸水能力下降,因此为了使得所述干燥盒有更好的脱水效果,需要定期更换所述干燥盒。0042所述气体冷却设备的工作过程为首先向所述气体冷却设备输入高温气体,所述脱水装置12对。

17、所述高温气体进行脱水处理,经过脱水处理后的高温气体经过所述输入管111进入所述密闭容器113,所述密闭容器113通过所述冷媒介存储装置10内的冷媒介对经过脱水处理后的高温气体进行冷却,最后将经过冷却后的高温气体经过所述输出管112排出。说明书CN104110969A4/5页60043本发明通过提供一种气体冷却设备,通过在气体冷却设备上增加一脱水装置,能够对高温气体进行脱水处理,解决了现有的高温炉排出的较低温度的高温气体中的水进入冷却处理装置,导致压力升高以及石英卡夹易破碎的技术问题,从而提高生产效率、降低生产成本。0044请参照图2,图2为本发明实施例中高温操作系统的结构示意图。0045如图2。

18、所示,高温操作系统包括高温处理设备2,气体冷却设备1,所述气体冷却设备1与所述高温处理设备2的高温气体输出端21连接。0046所述高温处理设备2用于对待操作物品进行高温操作,所述高温处理装置2内设置有保护气体,所述高温处理装置2能够对所述保护气体加热并产生高温气体,其具有一高温气体输出端21,通过所述高温气体输出端21将所述高温气体输入所述气体冷却设备1;所述高温处理设备2譬如为高温炉,所述待操作物品譬如为OLED封装盖板。0047所述气体冷却设备1包括冷媒介存储装置10、冷却处理装置11、脱水装置12。其中,冷媒介存储装置10内设置有预设温度的冷媒介;预设温度譬如为40度到30度。0048所。

19、述冷却处理装置11包括进气端和出气端;所述进气端通有经过所述脱水装置12脱水处理后的高温气体,所述冷却处理装置11放置在所述冷媒介存储装置10内,通过所述冷媒介存储装置10内的所述冷媒介对所述高温气体进行冷却处理;以及0049所述冷却处理装置11包括输入管111和输出管112以及密闭容器113;其中所述密闭容器113放置在所述冷媒介存储装置10内;0050优选地,其中所述输入管的一端1111伸出所述密闭容器113外,所述输入管的另一端1112伸入所述密闭容器113内且靠近所述密闭容器113底部位置;0051所述输出管的一端1121伸入所述密闭容器113内且靠近所述密闭容器113顶部位置,所述输。

20、出管的另一端1122伸出所述密闭容器113外,所述高温气体通过所述输入管111进入所述密闭容器113中,由于所述密闭容器113放置在所述冷媒介存储装置10内,因而所述高温气体进入所述密闭容器113时可以被冷却。由于所述输入管的另一端1112靠近所述密闭容器113底部位置且所述输出管的一端1121靠近所述密闭容器113顶部位置,使得所述高温气体在所述密闭容器113流动的时间增加,相应增加了冷却时间,因而具有更好的冷却效果。0052所述密闭容器113譬如为具有带瓶塞的集气瓶,所述瓶塞上有分别供所述输入管111和输出管112伸入所述集气瓶内的孔,所述瓶塞上孔的孔径略大于所述输入管111和输出管112。

21、的孔径。0053最终经过冷却处理后的所述高温气体由所述输出管112排出,所述输出管112连接外部的废气处理装置。0054脱水装置12,设置在所述冷却处理装置11的进气端与所述输入管的一端1111相同,在所述冷却处理装置11对所述高温气体冷却处理之前,对输入所述冷却处理装置11的所述高温气体进行脱水处理。0055所述脱水装置12可以为分子筛脱水装置,当所述高温气体的温度处于设定温度范围内时,所述分子筛脱水装置能够吸收所述高温气体中的水;当所述高温气体的温度高于所述设定温度范围时,所述高温气体的温度能够使所述分子筛脱水装置之前吸收的水气化并排出,即所述分子筛脱水装置进行水气排出操作,采用这种脱水装。

22、置,由于其自身能够说明书CN104110969A5/5页7将吸收的水排出,因而不需要定期更换。所述设定温度范围譬如为60度80度。0056所述脱水装置12可以为干燥盒,所述干燥盒内装有干燥剂,所述干燥盒将输入的所述高温气体中的水吸收,将经过干燥后的高温气体通入所述冷却处理装置11,由于所述干燥盒的吸水达到一定量后,吸水能力下降,因此为了使得所述干燥盒有更好的脱水效果,需要定期更换所述干燥盒。0057所述高温操作系统的工作过程为首先所述高温处理设备2向所述气体冷却设备1输入高温气体,所述脱水装置12对所述高温气体进行脱水处理,经过脱水处理后的高温气体经过所述输入管111进入所述密闭容器113,所。

23、述密闭容器113通过所述冷媒介存储装置10内的冷媒介对经过脱水处理后的高温气体进行冷却,最后将经过冷却后的高温气体经过所述输出管112排出。0058本发明通过提供一种高温操作系统,通过在气体冷却设备上增加一脱水装置,能够对高温气体进行脱水处理,解决了现有的高温炉排出的较低温度的高温气体中的水进入冷却处理装置,导致压力升高以及石英卡夹易破碎的技术问题,从而提高生产效率、降低生产成本。0059综上所述,虽然本发明已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。说明书CN104110969A1/1页8图1图2说明书附图CN104110969A。

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