马铃薯栽培系统.pdf

本发明涉及马铃薯种植技术领域，尤其涉及一种马铃薯栽培系统，包括温室大棚、置于所述温室大棚中的若干个培养槽，所述相邻的两个培养槽通过水管连通，所述培养槽的进水管通过水泵与设置在培养槽底部的养料池连通，所述培养槽的内侧四周设有限位台阶，所述台阶上搭接有过滤盒，所述过滤盒环周和底部设有圆孔，所述培养槽中设有液位传感器，所述液位传感器与控制器连接电信号连接，所述控制器与水泵的电磁阀电信号连接，用于控制所述水泵开合。本发明结构简单，培养槽中设有过滤盒，并且向过滤盒中通入营养液，便于马铃薯生长一段时间可以可拔出多余的须根，控制器可以控制培养槽中的液位高度，满足马铃薯在不同生长阶段的液位高度要求。

1.  一种马铃薯栽培系统，其特征在于：包括温室大棚、置于所述温室大棚中的若干个培养槽，所述相邻的两个培养槽通过水管连通，所述培养槽的进水管通过水泵与设置在培养槽底部的养料池连通，所述培养槽的内侧四周设有限位台阶，所述台阶上搭接有过滤盒，所述过滤盒环周和底部设有圆孔，所述培养槽中设有液位传感器，所述液位传感器与控制器连接电信号连接，所述控制器与水泵的电磁阀电信号连接，用于控制所述水泵开合。

2.  根据权利要求1所述的马铃薯栽培系统，其特征在于：所述温室大棚的棚顶上设有喷头，所述喷头与所述养料池连通。

3.  根据权利要求2所述的马铃薯栽培系统，其特征在于：所述培养槽处于同一水平面。

4.  根据权利要求2所述的马铃薯栽培系统，其特征在于：所述培养槽中设有温度传感器，所述温度传感器与所述控制器连接，所述温室大棚内设有加热装置，所述加热装置与所述控制器电信号连接。

马铃薯栽培系统
技术领域
本发明涉及马铃薯栽培技术领域，尤其涉及一种马铃薯栽培系统。
背景技术
马铃薯原原种一般是基质栽培，在植株定植以后用营养液进行灌溉的栽培方法。长期以来这种栽培方式的局限越来越突出：1、不能工厂化生产，受季节限制；2、室外生产，受气温限制；3、频繁浇灌营养液，劳动强度大；4、产量低；5 营养液消耗大，生产成本高。
发明内容
本发明的目的在于克服上述技术的不足，而提供一种马铃薯栽培系统，便于安装，降低劳动强度和生产成本。
本发明为实现上述目的，采用以下技术方案：一种马铃薯栽培系统，其特征在于：包括温室大棚、置于所述温室大棚中的若干个培养槽，所述相邻的两个培养槽通过水管连通，所述培养槽的进水管通过水泵与设置在培养槽底部的养料池连通，所述培养槽的内侧四周设有限位台阶，所述台阶上搭接有过滤盒，所述过滤盒环周和底部设有圆孔，所述培养槽中设有液位传感器，所述液位传感器与控制器连接电信号连接，所述控制器与水泵的电磁阀电信号连接，用于控制所述水泵开合。
优选地，所述温室大棚的棚顶上设有喷头，所述喷头与所述养料池连通。
优选地，所述培养槽处于同一水平面。
优选地，所述培养槽中设有温度传感器，所述温度传感器与所述控制器连接，所述温室大棚内设有加热装置，所述加热装置与所述控制器电信号连接。
本发明的有益效果是: 本发明结构简单，培养槽中设有过滤盒，并且向过滤盒中通入营养液，便于马铃薯生长一段时间可以可拔出多余的须根，控制器可以控制培养槽中的液位高度，满足马铃薯在不同生长阶段的液位高度要求，温室大棚内的喷头能够使大棚内具有一定的湿度，促进马铃薯生长，温度传感器和加热装置能够保证温室大棚内具有一个恒定的室温。
附图说明
图1是本发明的结构示意图；
图中：1、温室大棚；2、培养槽；3、水管；4、水泵；5、养料池；6、过滤盒；7、圆孔；8、喷头；9、加热装置。
具体实施方式
下面结合附图及较佳实施例详细说明本发明的具体实施方式。如图1所示，一种马铃薯栽培系统，包括温室大棚1、置于所述温室大棚中的若干个培养槽2，所述相邻的两个培养槽通过水管3连通，所述培养槽的进水管通过水泵4与设置在培养槽底部的养料池5连通，所述培养槽的内侧四周设有限位台阶，所述台阶上搭接有过滤盒6，所述过滤盒环周和底部设有圆孔7，所述培养槽中设有液位传感器，所述液位传感器与控制器连接电信号连接，所述控制器与水泵的电磁阀电信号连接，用于控制所述水泵开合。所述温室大棚的棚顶上设有喷头8，所述喷头与所述养料池连通。所述培养槽处于同一水平面。所述培养槽中设有温度传感器，所述温度传感器与所述控制器连接，所述温室大棚内设有加热装置9，所述加热装置与所述控制器电信号连接。本发明结构简单，培养槽中设有过滤盒，并且向过滤盒中通入营养液，便于马铃薯生长一段时间可以可拔出多余的须根，控制器可以控制培养槽中的液位高度，满足马铃薯在不同生长阶段的液位高度要求，温室大棚内的喷头能够使大棚内具有一定的湿度，促进马铃薯生长，温度传感器和加热装置能够保证温室大棚内具有一个恒定的室温。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。