在环境气体下存储物品的方法和装置 本发明涉及的领域是在受控环境气体下存储物品的装置。
我们知道目前在许多工业部门(例如电子工业，还有食品工业或医药工业)中，在等待使用或正在加工的过程中，要求临时或长或短地在受控环境气体下存储物品。
用于存储的环境气体主要是干燥空气，也可以是不超过规定剩余氧含量或剩余水蒸气含量的氮气。
这样，如果考虑以电子工业作为例子，则通常发现在加工过程中存储装置是在氮气或干燥空气的环境气体下存储电子器件的，例如：
-在印刷电路板组装以前对它们进行存储；
-在裸芯片尚未组装到电子卡上以前对它们进行存储；
-某些无源敏感部件，例如压电石英或继电器；
-存储某些器件的新产品，例如容易受潮的QFPs或BGAs，不仅它们的金属接线端容易受潮，而且它们的塑料盒也容易受潮。
而且还发现这种在干燥空气或氮气下存储电子器件的装置的工业中，可以将这些器件当作不用的器件或战略器件，用户不能确定在今后若干年中是否能够得到这些器件，所以自己要用简单的方法长期存储这些器件(可以等待若干年)。
因而在工业中，根据相关用途已经发现它们的存储方式很不相同，从存储每天打开多次，甚至每小时一次，到存储每月打开一次，甚至更长时间打开一次。
显然，为了防止器件与大气之间地相互作用就应当进行这些存储工作，但主要危险在于器件吸收了大气中的水分，器件或印刷电路的部分印刷线金属氧化，塑料密封盒子受潮(“爆玉米花”效应)，另外也可以是大气中的某些污染颗粒的反应，例如氧化硫或卤化物。
这些使某些塑料密封盒子受潮的问题迫使用户必须将要用的电子器件在一定温度下烘烤24到48小时，这些烘烤的负面影响是经济问题和电导率问题。
如上所述，当这些存储装置用于短期存储时，则根据用户场所需要将器件放入存储设备或将其从该存储设备中取出，因而存储组件经常处于打开或关闭状态，而且通常是每小时开闭好几次。
当然在长期存储的储柜中也存在受潮的问题。
储柜或存储组件的体积均不相同，估计相差一般为100升到2000升，但连续注入的流量通常很小，约为50到150升/小时。其中有一种容易更好地检测这类储柜操作问题的方法，该方法在于计算门开以后重新调节环境气体的时间。
为此所用的是称作“稀释清洗”的传统算式：
Vp=Vo×log(Xo/XF)
Vp为注入气体的体积，Vo为腔室体积，Xo为腔室最初含有的所考虑的元素含量(例如，当打开门使空气进入时具有21％的氧)，XF为最终希望的所考虑的元素含量。
为了确定构思，更好地理解可能出现的问题，下面介绍两个工业储柜的例子：
a)储柜的第一个例子具有体积Vo=0.22m3，它用于在氮气下以流动(croisiere)环境气体(理想状态)存储电子器件，该氮气中不应该含有100ppm以上的剩余氧(XF=100ppm)。
因此Xo对应于开门以后的空气(21％的剩余氧)。
这里对于第一个例子来讲注入氮气的流量一直都是0.25m3/小时。
因而得到的所需氮气体积Vp等于1.683m3，这样在打开储柜以后要花1.683/0.25=6.73小时的时间重新调节，也就是6小时43分钟的时间。
b)现在考虑大尺寸的储柜的第二个例子，其体积Vo=1.4m3，它仍然用于在氮气下存储电子器件，需要用的流动环境气体为氮气环境气体，其剩余氧的含量不超过100ppm(XF=100ppm)。
注入氮气的流量一直都与第一个例子的相同(0.25m3/小时)。
因而得到所需的氮气体积Vp等于10.7m3，这样在打开储柜以后估计要花10.7/0.25=42.8小时的时间重新调节，也就是42小时48分钟的时间！
因此发现，在两种情况下，重新调节的时间均不适合于临时存储，实际上在这些储柜每小时平均开4到5次的存储是无效的，上述情况不能将器件保持在所探讨的期望的有效剩余氧含量的环境气体中，即氧含量低于或等于100ppm。在该基础上，这种做法也变成一种想要控制和调节环境气体的假象。
因而，由此发现的方法在工业中的真正要求是在受控环境气体条件下更好地存储物体，一方面能够达到所需要的存储环境气体(例如氮气中的剩余氧含量或水蒸气很少)，而且与存储机构根据需要每小时打开多次的运行相比，还能在打开以后使环境气体迅速得到调节。
所以本发明的在环境气体下存储物体的装置包括：
i)至少一个用于收集待存储物品的存储组件；
j)将存储环境气体装到存储组件内的设备；
其特征在于至少一个所述的存储组件基本为平行六面体形状，它具有两个相对的基本垂直的壁；其特征还在于建立存储环境气体的设备，其包括一个第一气体输送系统，该系统位于所述存储组件的两个基本垂直壁中的一个壁的附近，第一输送系统用于使基本沿横向的层流气体流向基本垂直的第二壁，该壁与第一壁对置。
本发明装置还可以具有下面的一个或多个特征：
-至少所述的存储组件中的一个包括从存储组件内部向存储组件外部排气的排气设备，该设备将气体从装置上方排出；
-至少所述的存储组件中的一个包括一个第二气体扩散系统，该系统位于所述存储组件基本垂直的第二壁的附近，它与该第二壁一起限定出一个第二腔室，第一输送系统与第二扩散系统之间限定出一个存储物品的空间；
-所述存储组件中的至少一个的第二基本垂直壁由第二气体扩散系统构成，它可以使存储组件的气体流向与其并置的存储组件；
-第一气体输送系统与所述第一壁一起限定出一个第一腔室，它包括将气体注入该第一腔室中的注射设备；
-该装置包括若干叠置的存储组件，以便使物品具有所希望的总存储体积，每一个存储组件均包括从存储组件中向存储组件外排气的排气设备，所述排气设备包括至少一个管道/通道系统，所述管道/通道系统中的一个位于两个叠置存储组件的两个第二腔室之间，所述排气设备使所考虑的两个叠置存储组件的下存储组件的第二腔室中的气体向上存储组件的第二腔室排放；
-每一个存储组件本身包括一个第一气体输送系统，各第一气体输送系统分别供应气体，而与其它存储组件无关；
-该装置包括若干并置的存储组件，以便使物品具有所希望的总存储体积，并且每一个存储组件本身均带有第一气体输送系统，各第一气体输送系统分别供应气体，与其它存储组件无关，而且每一个存储组件本身还带有一个第二腔室，该装置还包括从各存储组件内部向存储组件外部排气的排气设备，每一个排气设备与各个考虑的存储组件的第二腔室连接；
-该装置包括若干并置且相互连通的存储组件，以便使物品具有所希望的总存储体积，这样就限定出一个并置的第一存储组件和并置的最后一个存储组件，只有并置的第一个存储组件上带有第一气体输送系统，该系统位于形成并置件外壁的两个基本垂直壁中的一个壁的附近，它使基本沿横向以层流气体流向基本垂直的二个壁中的另一个壁，该壁与第一壁对置，然后由此流到下面并置件的存储组件中；
-并置的最后一个存储组件包括一个第二气体扩散系统，它位于基本垂直的二个壁中的形成并置件外壁的一个壁的附近，它与该壁一起形成一个第二腔室，所述第二腔室带有一个气体排放设备，该设备将气体排放到外面，所述气体是从前一个存储组件到达该并置件的最后一个存储组件的；
-并置的最后一个存储组件的两个基本垂直壁中的一个形成并置件外壁的壁由一个第二气体扩散系统构成，它能够将气体排放到外面，所述气体是从前一个存储组件到达并置件的最后一个存储组件的；
-所述装置包括至少平行的两组并置且连通的存储组件，只有每一个并置件的第一存储组件带有一个第一气体输送系统，各个并置件的最后一个存储组件带有一个位于其形成并置件外壁的垂直壁附近的第二气体扩散系统，该第二气体扩散系统与该外壁形成一个第二腔室，第二腔室带有气体排放设备，该设备将气体排放到外面，所述气体是从所考虑的并置件中的前一个存储组件到达并置件的最后一个存储组件的；
-所述装置包括至少两组平行的并置且连通的存储组件，只有并置件的第一存储组件带有一个第一气体输送系统，各个并置件的最后一个存储组件的垂直壁形成所考虑的并置件的外壁，该存储组件由一个第二气体扩散系统形成，它将气体排放到外面，所述气体是从所考虑的并置件中的前一个存储组件到达并置件的最后一个存储组件的；
-所述装置由至少两组并置且连通的存储组件的叠置件组成的设备构成，该设备可以使一组存储组件的最后一个存储组件的气体流向叠置在它上面一个存储组件中，然后一直到达叠置在上面一组的最后一个存储组件中，带有气体排放设备的最后一个存储组件用于将气体排放到外面，所述气体是从所考虑的前一个存储组件到达该叠置件的最后一个存储组件的，该两组并置且连通的存储组件的叠置件组成的设备只在一个气体输送系统处供应气体，考虑到气体的流动方向，气体输送系统将气体供应给该设备的第一存储组件；
-在两个并置存储组件之间的连通由一个形成这两个并置存储组件之间的公共壁构成的气体扩散系统实现；
-所述第一气体输送系统包括一个第一气体扩散系统，该气体扩散系统与所述第一壁一起限定了一个第一腔室，并包括一个位于该第一腔室中的气体注射设备；
-所述第一气体输送系统由一个或多个带有细孔的管道构成，这些管道通到存储组件中，并且沿所述第一垂直壁延伸；
-装置的气体扩散系统中的至少一个由多孔材料板构成；
-装置的气体扩散系统中的至少一个由陶瓷板、热压金属板、聚合材料板或纺织品板构成；
-装置的气体扩散系统中的至少一个由金属网构成；
-所述存储组件中的至少一个存储组件的两个气体扩散系统由多孔材料板构成，第二气体扩散系统的厚度比第一气体扩散系统的厚度厚；
-所述存储组件中的至少一个存储组件的两个气体扩散系统由多孔材料板构成，第二气体扩散系统的孔率比第一气体扩散系统的孔率小；
-第一腔室中的气体注射设备由存储组件的其中一个壁上的孔构成；
-第一腔室中的注射设备由通到第一腔室中的一根或多根管道构成，这些管道上带有气体注射孔，所述孔对着存储组件的基本垂直的第一壁；
-第一腔室中的气体注射设备由通到第一腔室中的一根或多根带有孔的管道构成；
本发明还涉及在环境气体下存储物品的方法，物品存储在具有至少一个存储组件的设备中，该设备收集待存储的物品，其形状基本为平行六面体，它具有两个相对的基本垂直的壁，并使用将存储气体装到所述至少一个存储组件中的设备，所述设备用于使气体从两个基本垂直的壁中的一个壁的横向以层流方式流向这两个壁中的与前述壁相对的另一个壁，而进行循环。
根据上面描述的组件将会理解到，本发明方法可以使用具有若干叠置和/或并置的存储组件构成的设备，从而使物品具有所需要的总存储体积，并使气体连通或不连通。
在这种使用若干存储组件的情况下，最好使装置保持平行，也就是说与专用于各个存储组件的气体入口平行，从而就会理解到在打开时只要对已经打开的存储组件进行清扫和重新调节(快速有效，不会对其它未涉及的存储组件造成污染...)。
但是在某些特殊情况下，特别是在考虑到所做的存储组件的数量时，在本发明的范围内可以对所述装置串联供料，只在一个入口位置给该设备供应气体，气体从一个存储组件循环到另一个存储组件。根据本发明的一个实施方式，所述设定好的设备包括一个位于存储组件两个基本垂直壁中的一个壁附近的第一气体输送系统和一个位于存储组件两个基本垂直壁中的另一个壁附近的第二气体扩散系统，该第二气体扩散系统与该另一个壁一起构成一个第二腔室，利用至少一个管道系统将气体从该设备的上方排出，所述管道系统中的一个管道系统位于两个叠置的存储组件的两个第二腔室之间，以便将下存储组件的第二腔室的气体向所考虑的两个叠置存储组件的上存储组件的第二腔室排放。
最好给存储组件或若干存储组件构成的设备供气，以便根据下面的其中一种速率设定所述环境气体：
-当打开该设备的存储组件的门时，等待关闭所考虑的门，然后开始将气体注入所用的存储组件或若干存储组件构成的设备中，在调节时间为tc的过程中，调节流量为Qc；
-当过了调节时间tc以后，再回到保持状态，此时将气体注入所用的存储组件或若干存储组件构成的设备中，并保持流量为Qm,Qm小于Qc；
-只要系统给定存储组件的门没有打开，则根据上面所述的保持速率继续注入气体；
-根据所探讨的环境气体的规定，用外部机构能很好地调节和控制时间tc，所述外部机构例如是编程的自动控制装置。
根据一个优选实施方式，就是将存储组件的门关闭(在上一次打开以后)，这样就转换到调节速率(例如起动一个延时继电器，该继电器本身也带动气路上的电磁阀)。
本发明的其它特征和优点将通过下面结合附图对非限定的实施方案描述以后得到理解，其中：
图1是本发明装置的示意图，该装置做成由若干叠置存储组件构成的设备，分别向叠置的每一个存储组件供气；
图2是本发明另一个装置的示意图，该装置做成由若干叠置存储组件构成的设备，只在一个入口部位向所述装置供气；
图3和4是本发明装置的示意图，所述装置做成由若干并置存储组件构成的设备；
图5是本发明装置的示意图，该装置做成两组由若干并置的并且相通的存储组件叠置构成的设备，考虑到气流方向，该设备只在一个气体输送系统处向该设备的第一存储组件供气；
图6是本发明装置的示意图，该装置做成四组由若干并置的并且相通的存储组件平行(叠置)构成的设备，只有各个并置的第一存储组件上带有气体输送系统；
图7是总的系统示意图，它包括本发明的存储装置，其性能可以得到调节控制。
在图1所示的实施例中，若干叠置的存储组件表示成(X,Y,Z...)，图中只有存储组件X得到详细表示。
如下所述，图1实施例表示的是气体通过一个存储组件进入的情况，气体通过叠置存储组件的各第二腔室(管道或通道系统)排出。
存储组件X(叠置在其上的其它存储组件均一样)基本为平行六面体，因而它限定出一个基本垂直的第一壁Px1和一个基本垂直的第二壁Px2。
此外该存储组件X还包括一个第一气体扩散系统5和一个第二气体扩散系统6，在这两个系统之间限定出一个存储物品的空间1，在该存储空间中设置一个搁板2。
这里所示的两块板由热压聚合材料制成，在热压聚乙烯的情况下，板5的厚度约为2mm，而板6的厚度约为4mm。
也可以放置其它材料的板，例如多孔陶瓷，热压金属，也可以是纺织品(帆布，毛毡，无纺布...)，甚至还可以是金属网。
第一气体扩散系统5与第一壁Px1限定出一个第一腔室3，而第二气体扩散系统6与第二壁Px2限定出一个第二腔室4。
一个带有气体注入孔的管道7进入第一腔室3内，它可以将图中未示出的外部气源的气体供应到腔室3内。
可以理解，根据在存储组件中需要进行调配的环境气体规格，气源可以变化很大。例如，对于就地要将其物品在氮气环境气体下进行存储，而在存储时使氮气中的剩余氧含量一定的情况下，可以使致冷源的氮气或通过分离空气得到的氮气具有一定的氧含量，所述氧含量满足上述规定。上述分离空气的方法例如通过吸收或通过渗透。
应注意的是，此处管道7的注入孔朝着存储组件的第一壁Px1，这样就如图中的箭头8所示，所述孔迫使注入气体朝第一气体扩散系统5来回运动。
因而管道7注入的气体通过第一气体扩散系统5，沿存储空间1到达需要通过的第二气体扩散系统6，从而进入第二腔室4。
如图中的箭头9所示，存储组件X的第二腔室4中的气体通过管道/通道10排到存储组件Y(叠置在存储组件X上的)的第二腔室12中，然后从该腔室通过管道/通道11排到存储组件Z的第二腔室，管道11将存储组件Y的第二腔室与存储组件Z的第二腔室连通，等等...
可以理解的是，从一个腔室将气体排放到另一个腔室内的管道/通道最好与相关的存储组件密封连接。
因而图1范围内所示的优选实施方案具有下面的一些特征和优点：
-使气体在所示具有多个存储组件的设备中从装置下部流到装置的上部进行循环，并通过该装置上部排出气体；
-第二气体扩散系统6一方面可以使排气通道4与存储空间1隔开，从而防止气体，进而防止空气从该排气通道返回到存储空间(防回系统)；
-而另一方面第二气体扩散系统6还可以使存储空间1中保持在较低的过压；
-“通道7/第一扩散系统5”可以使该扩散系统出口处的气体以低速(最好每秒钟几厘米)基本在侧向扩散；
-“通道7/第一扩散系统5/第二气体扩散系统6”的作用可以看成“活塞”作用，它可以避免注入的气体与腔室内的环境气体混合，这样就可以在打开以后有效地减少重新调节时间。
在不受下列描述限制的情况下，可以考虑在离开气体扩散器5时使层流足够的氮气产生缓冲，气体侧向地以很低的速度流向第二气体扩散系统6，该第二气体扩散系统由于其自身产生的负载损失或压力降，所以堵塞和封闭了气体的流动，由于门是打开的，所以缓冲氮气将原先留在存储组件内的空气推向第二气体扩散系统6，并在空气和缓冲氮气之间形成一个看起来象是中间组分的区域。
这样，空气受到推动，空气的湍流最小，混合现象也最小，此时将空气推向第二腔室4，再从此处推向装置的排放口。
应注意的是，根据本发明选择注射来自存储组件一个侧壁上的气体，在必要时可以将各个用于支承待存储物品的搁板安装在存储组件内，前提是这些搁板不会对气体流动产生明显的改变，如果从存储组件的下部向上或从上部向下注入气体，则情况相反。
图1示出的实施方案中，第一腔室3中的气体注入系统由单个管道7构成，所述管道上开有若干注射孔。但是，在不超出本发明范围的前提下，也可以在腔室3内采用其它比较好的气体注射系统，例如本申请人在文献EP-A-659515和EP-A-686844介绍的系统，这些文献介绍的气体注射系统可以使腔室的所有表面非常均匀，所以适于实施本发明。
同样，如果示出的情况是气体输送系统由沿存储组件第一壁设置的一根管道7和一个气体扩散系统5的组合后构成的话，则可以如前面的说明所述用其它能够使气体沿侧向进行层流循环的气体输送系统，例如在存储组件X的壁Px1的整个或部分尺寸上延伸的多孔管。
图2、3和4示出的是本发明装置的其它实施方案，该装置做成由若干叠置或并置存储组件构成的设备，所述方案是人们所希望的方案，下面将简单介绍：
-根据图2的方案将会发现，叠置的存储组件X,Y和Z只通过一个管道7供气，该管道7进入存储组件X的第一腔室中，因而气体基本沿横向以层流的方式流出存储组件X，以便进入存储组件X的第二腔室，由此通过管道10流入存储组件Y的第二腔室，以便在通过管道11进入存储组件Z以前进入存储组件Y和沿横向流动，依此类推...
这里还有就是使气体在所示的存储组件组成的设备中从装置的下部向装置的上部流动，气体在上部排出。
对于这种实施方式，最好不要很严格地表示“第一腔室”和“第二腔室”，而是根据每一部分的作用来表示：这样管道10就使气体流入同时也可以看作是存储组件Y的第二腔室的部位中，但如果想要使该腔室成为存储组件Y的气体入口，也可以认为是Y的第一腔室。
图3是并置的部分情况，每一个存储组件X,Y和Z均由各自的气体入口供气(各个第一腔室中的管道7)，对于每一个存储组件来讲，气体通过各自的与各个存储组件的第二腔室连通的管道/通道(10,11,.....)排出。
该方案还示出了一种最好将气体通过装置上部排出的情况。
图4示出了这种情况，这里并置的存储组件X,Y和Z相通，所以只通过一个位于存储组件X的第一腔室中的管道7供气，气体基本在横向以层流方式流过存储组件X，以便进入需要通过的Y中，并由此进入Z，两个并置存储组件之间的连通通过一个气体扩散系统完成，该扩散系统形成所考虑的两个并置存储组件(该图中的13和14)之间的公共壁。
这样，气体通过存储组件Z的第二腔室和与之相连的管道10从装置排出。
正如所指出的那要，根据本发明，最好各个存储组件采用各自独立的供气设备，所述方案示于图1和3中。
至于图5和6，它们示出的是两个具有若干本发明存储组件的设备：
-图5装置由两组并置相通的若干存储组件的叠置件的设备构成，该设备只在一个气体输送系统50(图中未详细示出)处供气，考虑到气体流动方向，该输送系统为设备的第一存储组件(50A)供气。
这样，气体从下并置件的一个存储组件到达另一个存储组件，直至到达该下并置件的最后一个存储组件(50F)，再由此到达在其上方的存储组件(50G)，然后顺序到达上面一组叠置件的最后一个存储组件(50L)，最后一个存储组件带有排气设备51，用于将气体排到外面，所述气体是从前一个存储组件到达最后一个存储组件的。
排气设备51最好带有一个阀门。
图6的装置为由4组平行(叠置)的并列布置且相通的存储组件(60A-60F,70A-70F,80A-80F和90A-90F)构成的设备，每一个并置件中只有第一个存储组件带有第一气体输送系统(图中未详细示出，分别为60,70,80和90)，各个并置件的最后一个存储组件的垂直壁形成该并置件的外壁，它由第二扩散系统构成，用于通过管道将气体排到外面，所述气体是从该并置件的前一个存储组件到达该并置件的最后一个存储组件的。
每一个管道最好带有一个阀门。
图7是总的系统示意图，它包括本发明的存储装置，其性能可以得到调节和控制。
图7中具有两个本发明的存储装置20A和20B，它们分别由两个管线21A和21B供气，这两个管线本身通过具有电磁阀24的管线22与气源23相连。
这样，每一个装置20A和20B均包括由一个或多个叠置和/或并置的存储组件组成的设备。
此外该装置还包括一个装在房间或车间里的氧气探测器25，一个数据采集处理系统26(例如编程的自动控制装置)和一个象PC一类的显示系统27，所述存储装置20A和20B也放在该房间或车间中。
为了便于阅读，我们进行如下描述：
-点划线表示提供给自动控制装置26的信息回路(例如来自存储装置的气体中的剩余氧含量30A和30B，也可以是车间里来自探测器25的气体中的剩余氧含量30C)。
-箭头指向一端或两端的虚线表示将信息从自动控制装置反馈到装置的某一元件，也可以是混合情况，自动控制装置接收某一元件的信息，并根据这些信息进行反馈。
例如，自动控制装置对阀门24产生的作用40B可以根据需要停止或改变供气。另外在自动控制装置和气体容器23之间的双向回路40A可以使自动控制装置不仅接收气源的信息(压力，流量，剩余氧含量...)，而且还可以根据需要将信息反馈给该气源，例如改变氮气中的剩余氧含量，所述氮气由渗透或吸收式空分(空气分离)设备生产。同样，自动控制装置26和PC27之间也有这种双向回路，以便定时将选择的信息传送给PC，这样用户就可以定时进行监督(氮气消耗，存储装置中的剩余氧含量的变化时间，重新调节时间等等...)，而且可以反向，以便当发现偏移时，可以向自动控制装置发出警报，由此进行反馈。
因而可以想像，由于本发明存储装置得到的显著性能(重新调节时间等等...)，就可以利用这种装置根据需要考虑控制程序(监督管理)和/或调节存储条件和系统的安全条件，同时使装置具有遥控监测功能(定期或准时向离用户远的鉴定单位传送数据)。
在图1所示范围内的这种装置包括2个叠置的存储组件，这种装置在下列条件下用于实现本发明的实施例：
-每一个存储组件内的容积为27升，所提供的氮气(致冷源的氮气)通过指定的入口供应，其流量约为2Nm3/h；
-各个存储组件带有2个聚乙烯材料制成的多孔扩散系统(图1中为标号5和6)，孔径为40微米，扩散系统5的厚度为2mm，而扩散系统6的厚度为4mm；
-一根管道将存储组件的第二腔室与叠置在其上的存储组件的第二腔室相连；
在这种运行条件下得到的结果简述如下：
-在打开门(例如下部存储组件的门)以后约4分钟多一点时，相关存储组件的环境气体中的氧含量从21％到100ppm以内；
-也是在这次打开门以后约5分钟，相关存储组件的环境气体中的露点(表示水蒸气的含量)为+12℃到-27℃。
这样也就发现，根据本发明得到的这种性能使得存储可以理想地满足短时间的存储功能，也就是说可以频繁地打开门，而且对于中等时间或长时间存储来讲还能保证不结霜。同样还发现，对于不太严格的具体用途来讲(例如规定的氧含量不是100ppm，而是1000到2000ppm)，重新调节的时间更快，此处用约3分钟就能达到重新调节，这样完全可以在一小时内多次打开门。
此外还发现本发明的另一个优点，就是各组件或电路与中性气体在环境温度下接触一段时间，当然这会根据每个组件的特性发生变化(一般为几小时到48小时)，这种接触可以使组件干燥，其具体表现是减少了“爆米花”现象。
虽然结合具体实施例对本发明进行了描述，但本发明并不局限于此，反之，可以进行各种对于本领域技术人员来讲是显而易见的变换和变化。如果在注入中性气体的情况下根据其性能的优点具体对本发明举例说明，则从上面描述的惊人结果可以理解本发明可以有其它应用，例如N2/CO2的混合物作为供气。