一种精确控制离子注入分布均匀的方法.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201010243088.1

申请日:

2010.08.02

公开号:

CN102347194A

公开日:

2012.02.08

当前法律状态:

撤回

有效性:

无权

法律详情:

发明专利申请公布后的视为撤回IPC(主分类):H01J 37/317申请公布日:20120208|||实质审查的生效IPC(主分类):H01J 37/317申请日:20100802|||公开

IPC分类号:

H01J37/317; G05B19/04

主分类号:

H01J37/317

申请人:

北京中科信电子装备有限公司

发明人:

伍三忠; 唐景庭; 孙勇; 钟新华

地址:

101111 北京市中关村科技园通州园光机电一体化产业基地兴光二街六号

优先权:

专利代理机构:

代理人:

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内容摘要

本发明公开了一种精确控制离子注入分布均匀的方法,涉及离子注入机,属于半导体制造领域。该方法包括高精度多通道束流与剂量采集、W扫描波形产生、水平方向束分布密度的检测与修正、束平行度检测、水平扫描与垂直扫描同步。系统主要由移动法拉第杯、闭环法拉第杯、采样法拉第杯、剂量控制器、位置同步板、直线电机和NI PXI实时测控系统构成。本发明能够自动实现离子注入离子的剂量的精确检测、自动实现注入离子分布的均匀性和剂量的准确性控制。

权利要求书

1: 一种离子注入机均匀性控制系统包括 : 移动法拉第杯、 闭环法拉第杯、 采样法拉第 杯、 剂量控制器、 位置同步板、 直线电机和 NI PXI 测控系统, 其相互连结情况见图 1。
2: 权利 1 所述的移动法拉第杯、 闭环法拉第杯和采样法拉第杯通过同轴电缆与剂量控 制器相连, 其中移动法拉第杯用于测量离子束剖面和水平方向束分布密度检测, 移动法拉 第杯每移动一个等距离产生一个同步脉冲, 此同步脉冲信号 P.E.Q2 通过位置同步板处理 后送到剂量控制器, 当剂量控制器检测到此同步信号后, 实时响应束流采集中断, 采集移动 法拉第杯的束流。
3: 权利 1 所述位置同步板用于两路位置同步信号 P.E.Q1 和 P.E.Q2 自动分时采集, 产 生一路同步脉冲输出, 当 P.E.Q1 或 P.E.Q2 出现一个上升沿信号, 位置同步板产一个 50us 宽的脉冲输出信号 P.E.Q。P.E.Q1 为直线电机垂直扫描移动距离同步信号, 即直线电机每 移动一个等距离, P.E.Q1 输出电平发生一次翻转, 当 P.E.Q1 出现上升沿时, P.E.Q 产生一个 脉冲, 触发剂量控制器输出一个 “W” 扫描波形, 用于水平扫描与垂直扫描之间的同步。

说明书


一种精确控制离子注入分布均匀的方法

    【技术领域】
     本发明涉及离子注入机均匀性控制方法, 涉及离子注入机, 属于半导体装备制造领域。 背景技术 离子注入机均匀性控制技术是离子注入机的关键技术之一, 其工作原理是基于各 种控制与测量方法和装置将离子按设定的剂量均匀地、 精确地注入到整个晶片表面, 如水 平方向与垂直方向都采用电扫描的方式, 通过实时改变水平和垂直方向的扫描电压的大小 来改变束的水平移动速度和垂直移动速度, 从而改变注入离子的分布密度 ; 另一种方式就 是束固定不动, 通过控制晶片的二维机械运动来达到离子均匀地注入到晶片的表面。
     本发明提供了一种机械扫描与电扫描相结合的离子注入机均匀性控制方法, 本控 制方法体系结构简单, 测量与控制精确、 可靠。
     发明内容 本发明涉及一种离子注入机均匀性控制方法。
     一种离子注入机均匀控制系统, 包括多通道、 多档位束流与剂量精确采集功能、 水 平方向电扫描控制, 垂直方向机械扫描运动控制, 水平方向电扫描与垂直方向机械扫描同 步方法。
     附图说明
     下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步介绍, 但不作为对本发明专利的限 定。
     图 1 是离子注入剂量控制系统体系结构图。
     图 2 是位置同步信号时序图。
     图 1 中, 离子注入剂量控制系统包括移动法拉第杯、 闭环法拉第杯、 采样法拉第 杯、 剂量控制器、 位置同步板、 直线电机和 NI PXI 测控系统。
     图 2 中, P.E.Q1/P.E.Q2 为直线电机和移动法拉第杯运动位置同步信号、 P.E.Q 为 位置同步板产生的位置同步脉冲。 具体实施方式
     移动法拉第杯、 闭环法拉第杯和采样法拉第杯通过同轴电缆与剂量控制器相连, 其中移动法拉第用于测量离子束剖面和水平方向束分布密度检测, 移动法拉第杯每移动一 此同步脉冲信号 (P.E.Q2) 通过位置同步板处理后送到剂量 个等距离产生一个同步脉冲, 控制器, 当剂量控制器检测到此同步信号后, 便响应束流采集中断, 采集移动法拉第杯的束 流。两个采样法拉第杯用于测量离子束的角度和平行度。闭环法拉第杯用于注入机注入剂 量的实时测量。剂量控制器通过一个 SPI 接口和三个硬件中断 IRQ1、 IRQ2 和 IRQ3 与 NI 实时测控 系统相连, 其中 SPI 接口用于剂量控制器与 NI 实时测控系统之间数据传送, 三个中断信号 用于三种实时性能要求高的事件触发。
     位置同步板用于两路位置同步信号 (P.E.Q1 和 P.E.Q2) 自动分时采集, 产生一路 同步脉冲输出, 当 P.E.Q1 或 P.E.Q2 出现一个上升沿信号, 产一个 50us 宽的脉冲输出信号 (P.E.Q)。P.E.Q1 为直线电机垂直扫描移动距离同步信号, 即直线电机每移动一个等距离, P.E.Q1 输出电平发生一次翻转, 当 P.E.Q1 出现上升沿时, P.E.Q 产生一个脉冲, 触发剂量控 制器输出一个 “W” 扫描波形。
     以上所述已对本发明的内容做了详尽说明。对本领域一般技术人员而言, 在不背 离本发明精神的前提下对它所做的任何显而易见的改动, 都构成对本发明专利的侵犯, 将 承担相应的法律责任。

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资源描述

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1、10申请公布号CN102347194A43申请公布日20120208CN102347194ACN102347194A21申请号201010243088122申请日20100802H01J37/317200601G05B19/0420060171申请人北京中科信电子装备有限公司地址101111北京市中关村科技园通州园光机电一体化产业基地兴光二街六号72发明人伍三忠唐景庭孙勇钟新华54发明名称一种精确控制离子注入分布均匀的方法57摘要本发明公开了一种精确控制离子注入分布均匀的方法,涉及离子注入机,属于半导体制造领域。该方法包括高精度多通道束流与剂量采集、W扫描波形产生、水平方向束分布密度的检测与修。

2、正、束平行度检测、水平扫描与垂直扫描同步。系统主要由移动法拉第杯、闭环法拉第杯、采样法拉第杯、剂量控制器、位置同步板、直线电机和NIPXI实时测控系统构成。本发明能够自动实现离子注入离子的剂量的精确检测、自动实现注入离子分布的均匀性和剂量的准确性控制。51INTCL19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书2页附图1页CN102347213A1/1页21一种离子注入机均匀性控制系统包括移动法拉第杯、闭环法拉第杯、采样法拉第杯、剂量控制器、位置同步板、直线电机和NIPXI测控系统,其相互连结情况见图1。2权利1所述的移动法拉第杯、闭环法拉第杯和采样法拉第杯通过同轴电缆与。

3、剂量控制器相连,其中移动法拉第杯用于测量离子束剖面和水平方向束分布密度检测,移动法拉第杯每移动一个等距离产生一个同步脉冲,此同步脉冲信号PEQ2通过位置同步板处理后送到剂量控制器,当剂量控制器检测到此同步信号后,实时响应束流采集中断,采集移动法拉第杯的束流。3权利1所述位置同步板用于两路位置同步信号PEQ1和PEQ2自动分时采集,产生一路同步脉冲输出,当PEQ1或PEQ2出现一个上升沿信号,位置同步板产一个50US宽的脉冲输出信号PEQ。PEQ1为直线电机垂直扫描移动距离同步信号,即直线电机每移动一个等距离,PEQ1输出电平发生一次翻转,当PEQ1出现上升沿时,PEQ产生一个脉冲,触发剂量控制。

4、器输出一个“W”扫描波形,用于水平扫描与垂直扫描之间的同步。权利要求书CN102347194ACN102347213A1/2页3一种精确控制离子注入分布均匀的方法技术领域0001本发明涉及离子注入机均匀性控制方法,涉及离子注入机,属于半导体装备制造领域。背景技术0002离子注入机均匀性控制技术是离子注入机的关键技术之一,其工作原理是基于各种控制与测量方法和装置将离子按设定的剂量均匀地、精确地注入到整个晶片表面,如水平方向与垂直方向都采用电扫描的方式,通过实时改变水平和垂直方向的扫描电压的大小来改变束的水平移动速度和垂直移动速度,从而改变注入离子的分布密度;另一种方式就是束固定不动,通过控制晶片。

5、的二维机械运动来达到离子均匀地注入到晶片的表面。0003本发明提供了一种机械扫描与电扫描相结合的离子注入机均匀性控制方法,本控制方法体系结构简单,测量与控制精确、可靠。发明内容0004本发明涉及一种离子注入机均匀性控制方法。0005一种离子注入机均匀控制系统,包括多通道、多档位束流与剂量精确采集功能、水平方向电扫描控制,垂直方向机械扫描运动控制,水平方向电扫描与垂直方向机械扫描同步方法。附图说明0006下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步介绍,但不作为对本发明专利的限定。0007图1是离子注入剂量控制系统体系结构图。0008图2是位置同步信号时序图。0009图1中,离子注入剂量控制系统包括。

6、移动法拉第杯、闭环法拉第杯、采样法拉第杯、剂量控制器、位置同步板、直线电机和NIPXI测控系统。0010图2中,PEQ1/PEQ2为直线电机和移动法拉第杯运动位置同步信号、PEQ为位置同步板产生的位置同步脉冲。具体实施方式0011移动法拉第杯、闭环法拉第杯和采样法拉第杯通过同轴电缆与剂量控制器相连,其中移动法拉第用于测量离子束剖面和水平方向束分布密度检测,移动法拉第杯每移动一个等距离产生一个同步脉冲,此同步脉冲信号PEQ2通过位置同步板处理后送到剂量控制器,当剂量控制器检测到此同步信号后,便响应束流采集中断,采集移动法拉第杯的束流。两个采样法拉第杯用于测量离子束的角度和平行度。闭环法拉第杯用于。

7、注入机注入剂量的实时测量。说明书CN102347194ACN102347213A2/2页40012剂量控制器通过一个SPI接口和三个硬件中断IRQ1、IRQ2和IRQ3与NI实时测控系统相连,其中SPI接口用于剂量控制器与NI实时测控系统之间数据传送,三个中断信号用于三种实时性能要求高的事件触发。0013位置同步板用于两路位置同步信号PEQ1和PEQ2自动分时采集,产生一路同步脉冲输出,当PEQ1或PEQ2出现一个上升沿信号,产一个50US宽的脉冲输出信号PEQ。PEQ1为直线电机垂直扫描移动距离同步信号,即直线电机每移动一个等距离,PEQ1输出电平发生一次翻转,当PEQ1出现上升沿时,PEQ产生一个脉冲,触发剂量控制器输出一个“W”扫描波形。0014以上所述已对本发明的内容做了详尽说明。对本领域一般技术人员而言,在不背离本发明精神的前提下对它所做的任何显而易见的改动,都构成对本发明专利的侵犯,将承担相应的法律责任。说明书CN102347194ACN102347213A1/1页5图1图2说明书附图CN102347194A。

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