《一种高性能存储器化学抛光物.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《一种高性能存储器化学抛光物.pdf（3页珍藏版）》请在专利查询网上搜索。
1、10申请公布号CN104073172A43申请公布日20141001CN104073172A21申请号201410296799322申请日20140628C09G1/0220060171申请人青岛宝泰新能源科技有限公司地址266000山东省青岛市李沧区郑佛路17号8室72发明人范向奎54发明名称一种高性能存储器化学抛光物57摘要本发明公开了一种高性能存储器化学抛光物，其特征在于，包括下列重量份数的物质表面活性剂13份，有机添加剂25份，纳米碳酸钙910份，二氯甲烷713份，苯甲醇510份，正戊烷19份，三氯甲烷13份，多聚甲醛23份，乙醛13份，乙二醛39份，乙酸乙酯份，助溶剂1份，润湿剂1份。
2、，甲基三乙氧基硅烷1419份，钛酸酯偶联剂12份，纳米银05份。本发明的有益效果是制备简单，抛光效果明显，性能稳定。51INTCL权利要求书1页说明书1页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书1页10申请公布号CN104073172ACN104073172A1/1页21一种高性能存储器化学抛光物，其特征在于，包括下列重量份数的物质表面活性剂13份，有机添加剂25份，纳米碳酸钙910份，二氯甲烷713份，苯甲醇510份，正戊烷19份，三氯甲烷13份，多聚甲醛23份，乙醛13份，乙二醛39份，乙酸乙酯份，助溶剂1份，润湿剂1份，甲基三乙氧基硅烷1419份，钛酸酯偶联剂。
3、12份，纳米银05份。权利要求书CN104073172A1/1页3一种高性能存储器化学抛光物技术领域0001本发明涉及一种高性能存储器化学抛光物。背景技术0002对增加内存或硬盘容量的需求以及内存或硬盘小型化的趋势因为计算机设备中需要更小磁盘驱动器持续不断，强调内存或硬盘片制造方法的重要性，包括这类盘片的平坦化或抛光，以确保性能最佳。尽管存在几种用于与半导体装置制造相关的化学机械抛光CMP组合物及方法，但是几乎没有常规的CMP方法或商购的CMP组合物非常适于内存或硬盘片的平坦化或抛光。发明内容0003本发明所要解决的技术问题是提供一种高性能存储器化学抛光物。0004为解决上述技术问题，本发明采。
4、用的技术方案是一种高性能存储器化学抛光物，其特征在于，包括下列重量份数的物质表面活性剂13份，有机添加剂25份，纳米碳酸钙910份，二氯甲烷713份，苯甲醇510份，正戊烷19份，三氯甲烷13份，多聚甲醛23份，乙醛13份，乙二醛39份，乙酸乙酯份，助溶剂1份，润湿剂1份，甲基三乙氧基硅烷1419份，钛酸酯偶联剂12份，纳米银05份。0005本发明的有益效果是制备简单，抛光效果明显，性能稳定。具体实施方式0006实施例1一种高性能存储器化学抛光物，其特征在于，包括下列重量份数的物质表面活性剂13份，有机添加剂25份，纳米碳酸钙910份，二氯甲烷713份，苯甲醇510份，正戊烷19份，三氯甲烷13份，多聚甲醛23份，乙醛13份，乙二醛39份，乙酸乙酯份，助溶剂1份，润湿剂1份，甲基三乙氧基硅烷1419份，钛酸酯偶联剂12份，纳米银05份。说明书CN104073172A。