《沉积设备.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《沉积设备.pdf（9页珍藏版）》请在专利查询网上搜索。
1、10申请公布号CN104109845A43申请公布日20141022CN104109845A21申请号201410150441X22申请日20140415102013004304020130418KRC23C16/44200601C23C16/5220060171申请人三星显示有限公司地址韩国京畿道龙仁市72发明人程相慜黄正宇74专利代理机构北京铭硕知识产权代理有限公司11286代理人刘灿强谭昌驰54发明名称沉积设备57摘要本发明公开了一种沉积设备，该沉积设备包括沉积室；沉积源，在沉积室中；膜固定部，被构造为固定膜，膜设置有沉积材料沉积到的沉积表面；以及保护板，在沉积室中，以防止沉积材料沉积到。
2、沉积室中的侧壁和上壁，从而控制沉积材料仅沉积到有效膜形成区域。尺寸与沉积表面的有效膜形成区域对应的第一开口以及形成在有效膜形成区域的外部区域中的至少一个第二开口形成在保护板上，并且当沉积材料通过沉积源沉积到沉积表面时，通过第二开口的沉积材料在沉积表面上形成对准标记。30优先权数据51INTCL权利要求书1页说明书5页附图2页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书5页附图2页10申请公布号CN104109845ACN104109845A1/1页21一种沉积设备，所述沉积设备被构造为将沉积材料沉积在膜上，所述沉积设备包括沉积室；沉积源，在沉积室中；膜固定部，被构造为固。
3、定膜，膜包括沉积材料沉积到的沉积表面；以及保护板，在沉积室中，被构造为防止沉积材料沉积到沉积室中的侧壁和上壁，其中，尺寸与沉积表面上的有效膜形成区域对应的第一开口以及形成在有效膜形成区域的外部区域中的至少一个第二开口形成在保护板上，其中，通过所述至少一个第二开口的沉积材料被构造为在沉积表面上形成对准标记。2根据权利要求1所述的沉积设备，其中，所述至少一个第二开口包括多个第二开口，所述多个第二开口邻近第一开口的周边设置。3根据权利要求2所述的沉积设备，其中，第一开口以四边形的形状形成，所述多个第二开口邻近第一开口的角部设置。4根据权利要求3所述的沉积设备，其中，第二开口中的每个以十字的形状形成。。
4、5根据权利要求1所述的沉积设备，其中，膜固定部包括框架，支撑膜；以及支撑体，将框架固定到沉积室。6根据权利要求5所述的沉积设备，其中，尺寸比沉积表面的有效膜形成区域宽的第三开口形成在框架中，并且当从沉积源观察时，第一开口和所述多个第二开口设置在第三开口中。7根据权利要求1所述的沉积设备，其中，沉积源设置在沉积室的底表面上。8根据权利要求1所述的沉积设备，其中，膜固定部被设置在沉积室的上侧，其中，保护板包括第一保护板，设置在膜固定部的下侧；以及第二保护板，被构造为保护沉积室中的侧表面。9根据权利要求8所述的沉积设备，其中，第一开口设置在沉积室的中心。10根据权利要求1所述的沉积设备，其中，沉积材。
5、料为有机材料。权利要求书CN104109845A1/5页3沉积设备0001与本申请一起提交的申请数据表中标明的外国或本国优先权要求的任何和所有申请通过引用包含于此。0002本申请要求于2013年4月18日在韩国知识产权局提交的第1020130043040号韩国专利申请的优先权和权益，该申请的全部内容通过引用包含于此。技术领域0003描述的技术总体上涉及一种可将沉积材料沉积在膜上的沉积设备。背景技术0004在显示装置中，有机发光显示器具有宽的视角、优异的对比度和快速的响应速度，因此，它已经作为下一代显示装置引人注目。0005有机发光二极管（OLED）显示器典型地包括第一电极、第二电极、设置在第一。
6、电极和第二电极之间的发射层以及包括该发射层的中间层。可使用各种方法形成第一电极、第二电极和中间层，在各种方法中，独立的沉积方法可被使用。0006为了使用独立的沉积方法制造OLED显示器，将图案与薄膜的图案相同的精细金属掩模（FMM）紧密附着到期望形成薄膜的基底，并且沉积诸如薄膜的材料，从而形成具有预定图案的膜。0007直到最近，通常使用精细金属掩模（FMM）形成有机薄膜，但是，如果玻璃基底的尺寸大于第六代基底的尺寸，则不能沉积精确的图案形状。0008因此，激光诱导热成像（LITI）方法通过设置面对玻璃基底的供体膜并且照射激光束而作为比FMM更精确的形成有机材料的方法出现，最近，采用FMM方法和。
7、LITI方法二者的混合图案化系统（HPS）方法已经被研究和开发。0009该背景技术部分中公开的以上信息只是为了增强对所描述的技术的背景的理解，因此以上信息可能包含不形成本领域普通技术人员在本国已经知道的现有技术的信息。发明内容0010根据本发明的一方面，提供了一种被构造为将沉积材料沉积在膜上的沉积设备。所述沉积设备包括沉积室；沉积源，在沉积室中；膜固定部，被构造为固定膜，膜包括沉积材料沉积到的沉积表面；以及保护板，在沉积室中，被构造为防止沉积材料沉积到沉积室中的侧壁和上壁。尺寸与沉积表面上的有效膜形成区域对应的第一开口以及形成在有效膜形成区域的外部区域中的至少一个第二开口形成在保护板上，并且，。
8、通过所述至少一个第二开口的沉积材料在沉积表面上形成对准标记。0011所述至少一个第二开口包括多个第二开口，所述多个第二开口可以邻近第一开口的外围周边设置。0012第一开口可以以四边形的形状形成，所述多个第二开口可以邻近第一开口的角部设置。说明书CN104109845A2/5页40013第二开口中的每个可以以十字的形状形成。0014膜固定部可以包括支撑膜的框架和将框架固定到沉积室的支撑体。0015尺寸比沉积表面的有效膜形成区域宽的第三开口可以形成在框架中，并且当从沉积源观察时，第一开口和所述多个第二开口可以设置在第三开口中。0016在这种情况下，沉积源可以设置在沉积室的底表面上。0017膜固定部。
9、可以被设置在沉积室的上侧，保护板可以包括设置在膜固定部的下侧的第一保护板以及被构造为保护沉积室中的侧表面的第二保护板。0018第一开口可以设置在沉积室的中心。0019根据本发明的另一方面，公开了一种在膜上沉积沉积材料的方法。所述方法包括在沉积室中放置沉积源；将膜固定在膜固定部上；通过沉积室中的保护板的第一开口将沉积材料沉积到膜的沉积表面上的有效膜形成区域上，而不将沉积材料沉积到沉积室中的侧壁和上壁；以及通过保护板的第二开口沉积沉积材料，以在有效膜形成区域的外部的沉积表面上形成对准标记。0020所述方法可以包括通过邻近第一开口的周边设置的多个第二开口沉积沉积材料。0021第一开口可以以四边形的形。
10、状形成，可以通过邻近第一开口的角部设置的多个第二开口来沉积沉积材料。0022第二开口中的每个可以以十字的形状形成。0023膜固定部可以包括支撑膜的框架和将框架固定到沉积室的支撑体。0024所述方法还可以包括通过形成在框架中的尺寸比沉积表面的有效膜形成区域宽的第三开口来沉积沉积材料，并且当从沉积源观察时，第一开口和所述多个第二开口设置在第三开口中。0025可以将沉积源设置在沉积室的底表面上。0026可以在沉积室的上侧设置膜固定部，保护板可以包括设置在膜固定部的下侧的第一保护板以及被构造为保护沉积室中的侧表面的第二保护板。0027第一开口可以设置在沉积室的中心。0028沉积材料可以为有机材料。00。
11、29根据本发明的实施例，沉积材料通过沉积源沉积到膜的沉积表面。在这种情况下，对准标记可以一起形成在除膜中的有效膜形成区域之外的区域中，从而可使用对准标记来更精确地测量膜的厚度。附图说明0030图1是根据实施例的沉积设备的示意图。0031图2是根据实施例的沉积设备的膜所固定到的膜固定部以及保护板的局部透视图。0032图3示出了通过根据实施例的沉积设备将沉积材料沉积到膜的状态。具体实施方式0033在下面详细的描述中，简单地通过举例说明的方式仅示出和描述某些实施例。如本领域的技术人员将认识到的，在不脱离本发明的精神或范围的情况下，可以用各种方式说明书CN104109845A3/5页5修改所描述的实施。
12、例。附图和描述将被认为在本质上是说明性的而不是限制性的。相同的附图标记在整个说明书中通常指示相同的元件。0034HPS工艺包括在膜沉积设备中在紧固到玻璃基底的单独的托盘的膜上形成有机材料的工艺。类似于玻璃基底，使用椭偏仪作为膜厚度测量器来监控沉积膜的厚度。0035然而，不同于玻璃基底，对准标记没有被提供在膜中，因此，因为在椭偏仪中没有设置用于对准托盘的装置，所以在膜厚度的测量中不能确保关于测量点的位置再现性和重复精度，测量结果的可靠性会降低。0036为了提供可精确测量沉积到膜的有机材料的膜厚度的沉积设备，已经做出了所描述的技术。0037图1是根据实施例的沉积设备的示意图。图2是根据实施例的沉积。
13、设备中的膜所固定到的膜固定部以及保护板的局部透视图。图3示出了通过根据实施例的沉积设备将沉积材料沉积到膜的状态。0038参照图1和图2，根据实施例的沉积设备10将沉积材料沉积在膜上，并且包括沉积室12、沉积源20、膜固定部30和保护板40。0039沉积室12围绕膜50沉积的空间，可被形成为将沉积源20和膜固定部30包含在其中的六面体形状的壳体，如图1中所示。0040尽管没有在图1中示出，但是膜50可通过其进入沉积室的入孔以及膜50可通过其从沉积室12排出到外部的出孔可以形成在沉积室12中。0041还可提供转移装置（未示出）以转移沉积室12中的膜50。0042膜固定部30设置在沉积室12的内上中。
14、心表面。膜固定部30包括框架32和支撑体34。0043框架32以四边形的形状形成，使得可以以四边形形状形成的膜50可被安装到框架32，开口33形成在框架32的内侧。在膜50安装到框架32的状态下，可通过形成在框架32中的开口33将沉积材料沉积到膜50的底表面。0044四边形框架32通过形成在其四角的支撑体34来固定到沉积室12的上表面。0045安装到框架32的膜50可以以四边形形状来形成，根据实施例的膜50通过入孔（未示出）转移到沉积室12内，然后安装到框架32。0046在这种情况下，如图3所示，膜50的尺寸可具有宽度W2和高度L2，膜50的这样的尺寸可比形成在框架32中的开口33的宽度宽。如。
15、描述的，当膜50的尺寸大于形成在框架32中的开口33时，膜50可设置在框架32上，同时完全覆盖开口33。0047框架32以四边形的形状形成以固定膜50，膜50通过四个支撑体34固定到沉积室中的上表面，但是框架和支撑体的形状可以进行各种改变，只要它们可以固定膜50。0048根据实施例，沉积源20设置在沉积室12的内部底表面的中心。0049为了将沉积材料沉积到膜50，沉积源20向着设置在沉积室12上侧的膜的方向供应沉积材料。0050根据实施例，沉积到膜50的沉积材料可以为有机材料。0051根据实施例，保护板40设置在沉积室12中。0052保护板40设置在沉积室12中，用于当用沉积源20在膜50中进。
16、行沉积时控制沉积仅在有效膜形成区域A中执行，并用于控制沉积材料不沉积到沉积室12中的上壁和侧壁。说明书CN104109845A4/5页60053根据实施例，保护板40可包括用于保护沉积室12的上表面的第一保护板42以及用于保护沉积室12的侧表面的第二保护板44。0054根据实施例，第一保护板42设置在膜固定部的下侧，并且可以以矩形的方形形状形成。在这种情况下，参照图2，第一开口43和第二开口45形成在第一保护板42中。0055在一个实施例中，第一开口43以与沉积材料沉积在沉积表面（即，膜的底表面）中的区域（在下文中，称为有效膜形成区域）对应的尺寸形成。在这个实施例中，如图2和图3所示，第一开口。
17、43可形成为具有宽度W1和高度L1的矩形的形状，但是第一开口43的形状不限于此。0056提供第二开口45，以在沉积材料通过沉积源20沉积到其上的沉积表面上形成对准标记。第二开口45形成在有效膜形成区域A的外侧。0057第二开口45可以提供为多个，在一个实施例中，第二开口45包括四个第二开口45。第二开口45中的每个设置在矩形形状的第一开口43的四个角中的每个角的外侧，并且可形成为十字的形状。0058在这种情况下，根据一个实施例，第二开口45可邻近第一开口43的周边设置。0059根据一个实施例，形成在框架中开口33（在下文中，以第三开口33形成）被形成为比形成在膜50的沉积表面中的有效膜形成区域。
18、A宽，并且从设置有沉积源20的方向（即，图1中的下侧方向）看，第一开口43和第二开口45设置在第三开口33中。0060如描述的，因为第三开口33被形成为比包括第一开口43和第二开口45的宽度宽，所以当沉积源20向膜50排放沉积材料，同时膜50被框架支撑时，通过第一开口43的沉积材料沉积到膜50的底表面。在第三开口33中形成沉积表面的有效膜形成区域A，并且通过第二开口45的沉积材料在靠近第三开口33中的有效膜形成区域A的位置形成与第二开口45的形状对应的对准标记B。0061可以改善有效膜形成区域A的膜厚度的测量的精度，以更靠近有效膜形成区域A设置对准标记B，但是，对准标记B的位置和形状可以根据有。
19、效膜形成区域A的尺寸和形状改变。0062在根据一个实施例的沉积设备10中，保护板40的第二开口45设置在第三开口33（第三开口33形成在支撑膜50的框架32中）中，但不是限制性的。保护板40的第二开口45可以设置在框架32的外侧。0063在膜50上沉积沉积材料的工艺过程中，作为沉积材料形成的多个对准标记B被设置到膜50的有效膜形成区域A的外侧，多个对准标记B可用于在形成沉积到膜50的膜的厚度的工艺过程中通过图案匹配（PATTERNMATCHING）确定初始点或确定测量位置。0064因此，使用沉积设备10在膜50上的有效膜形成区域的外围区域处形成对准标记，从而可改善工艺过程中的位置再现性和重复精度。0065尽管已经结合某些实施例描述了本公开，但是应理解的是，本发明不限于公开的实施例，而是相反，意图覆盖包括在所附权利要求的精神和范围内的各种修改和等同布置。0066附图标记的说明006710沉积设备12沉积室006820沉积源30膜固定部006932框架33第三开口说明书CN104109845A5/5页7007034支撑体40保护板007142第一保护板43第一开口007244第二保护板45第二开口007350膜说明书CN104109845A1/2页8图1图2说明书附图CN104109845A2/2页9图3说明书附图CN104109845A。