触控基板及其制备方法、触控显示装置.pdf

本发明提供一种触控基板及其制备方法、触控显示装置，属于触控技术领域，其可解决现有的触控基板的各触控电极间容易产生串扰的问题。本发明的触控基板包括多个触控电极，每个触控电极和对应的触控引线相连，至少部分触控电极具有交叠区，触控电极在交叠区中和对应其他触控电极的触控引线交叠，在至少部分交叠区中设有位于触控电极与触控引线间的屏蔽电极。

1.  一种触控基板，包括多个触控电极，每个触控电极和对应的触控引线相连，至少部分触控电极具有交叠区，触控电极在交叠区中和对应其他触控电极的触控引线交叠，其特征在于，
在至少部分交叠区中设有位于触控电极与触控引线间的屏蔽电极。

2.  根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，
所述屏蔽电极接地。

3.  根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，
所述屏蔽电极和与其交叠的触控电极相连。

4.  根据权利要求1至3中任意一项所述的触控基板，其特征在于，
所述触控基板为液晶显示的阵列基板，其包括像素电极和公共电极，且至少部分公共电极同时也是触控电极。

5.  根据权利要求4所述的触控基板，其特征在于，还包括基底，
且在远离基底的方向上，所述触控引线、像素电极、公共电极依次设置，所述屏蔽电极与像素电极同层且间隔设置。

6.  根据权利要求4所述的触控基板，其特征在于，
每个触控电极对应多个子像素，所述屏蔽电极位于相邻子像素之间的间隔处。

7.  根据权利要求4所述的触控基板，其特征在于，
至少部分公共电极不是触控电极。

8.  根据权利要求1至3中任意一项所述的触控基板，其特征在于，
在交叠区外也设有所述屏蔽电极，各所述屏蔽电极在触控基板上均匀分布。

9.  根据权利要求1至3中任意一项所述的触控基板，其特征在于，
所述触控电极为扫描电极。

10.  一种触控显示装置，其特征在于，包括：
权利要求1至9中任意一项所述的触控基板。

11.  一种触控基板的制备方法，其特征在于，其包括：
形成触控电极的步骤和形成触控引线的步骤，其中，每个触控电极和对应的触控引线相连，至少部分触控电极具有交叠区，触控电极在交叠区中和对应其他触控电极的触控引线交叠；
在形成触控电极的步骤和形成触控引线的步骤之间，还包括：在至少部分交叠区中形成屏蔽电极。

12.  根据权利要求11所述的触控基板的制备方法，其特征在于，所述触控基板为液晶显示的阵列基板，其包括基底、像素电极、公共电极，至少部分公共电极同时也是触控电极，在远离基底的方向上，所述触控引线、像素电极、公共电极依次设置；所述触控基板制备方法包括：
形成触控引线；
形成同层的所述屏蔽电极与像素电极，所述屏蔽电极与像素电极间隔设置；
形成同时也是触控电极的公共电极。

触控基板及其制备方法、触控显示装置
技术领域
本发明属于触控技术领域，具体涉及一种触控基板及其制备方法、触控显示装置。
背景技术
盒内触控(In Cell Touch)技术是指将触控用的各种结构形成在显示基板中的一种技术，从而结构比较简单。
一种触控基板结构如图1所示，其同时也是液晶显示的阵列基板。该触控基板包括公共电极2，其中至少部分公共电极2同时也是触控电极1；也就是说，这些电极在触控时通触控信号，而显示时通公共电压，从而其既是触控电极1，同时也是公共电极2；当然，触控基板中还可包括部分仅用作公共电极2的电极。其中，若采用互感式的触控，则上述触控电极1可为扫描电极(Tx)，而感应电极(Rx)可设于彩膜基板上；而若采用自感式的触控，则触控电极1可单独实现触控功能。
显然，触控电极1需要通过触控引线11被引至驱动芯片等，对于触控基板中部的触控电极1，其触控引线11必然会与其他位于触控基板边缘部的触控电极1交叠；故当某触控电极1通入触控信号时，其触控引线11会和与之交叠的其他触控电极1产生感应，从而引起触控电极1间的串扰，影响触控和显示效果。
发明内容
本发明针对现有的触控基板的各触控电极间容易产生串扰的问题，提供一种不会产生串扰的触控基板及其制备方法、触控显示装置。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种触控基板，包 括多个触控电极，每个触控电极和对应的触控引线相连，至少部分触控电极具有交叠区，触控电极在交叠区中和对应其他触控电极的触控引线交叠，
在至少部分交叠区中设有位于触控电极与触控引线间的屏蔽电极。
优选的是，所述屏蔽电极接地。
优选的是，所述屏蔽电极和与其交叠的触控电极相连。
优选的是，所述触控基板为液晶显示的阵列基板，其包括像素电极和公共电极，且至少部分公共电极同时也是触控电极。
进一步优选的是，所述触控基板还包括基底，在远离基底的方向上，所述触控引线、像素电极、公共电极依次设置，所述屏蔽电极与像素电极同层且间隔设置。
进一步优选的是，每个触控电极对应多个子像素，所述屏蔽电极位于相邻子像素之间的间隔处。
进一步优选的是，至少部分公共电极不是触控电极。
优选的是，在交叠区外也设有所述屏蔽电极，各所述屏蔽电极在触控基板上均匀分布。
优选的是，所述触控电极为扫描电极。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种触控显示装置，其包括：
上述的触控基板。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种上述触控基板的制备方法，其包括：
形成触控电极的步骤和形成触控引线的步骤，其中，每个触控电极和对应的触控引线相连，至少部分触控电极具有交叠区，触控电极在交叠区中和对应其他触控电极的触控引线交叠；
在形成触控电极的步骤和形成触控引线的步骤之间，还包括： 在至少部分交叠区中形成屏蔽电极。
优选的是，所述触控基板为液晶显示的阵列基板，其包括基底、像素电极、公共电极，至少部分公共电极同时也是触控电极，在远离基底的方向上，所述触控引线、像素电极、公共电极依次设置；所述触控基板制备方法包括：
形成触控引线；
形成同层的所述屏蔽电极与像素电极，所述屏蔽电极与像素电极间隔设置；
形成同时也是触控电极的公共电极。
本发明的触控基板中，在触控引线与其他触控电极交叠处设有屏蔽电极，故可避免触控引线中的信号在其他触控电极中产生感应，从而避免了串扰，改善了触控和显示效果。
附图说明
图1为现有的触控基板的俯视结构示意图；
图2为本发明的实施例的触控基板的俯视结构示意图；
图3为图2中沿AA’的剖面结构示意图；
其中，附图标记为：1、触控电极；11、触控引线；2、公共电极；3、像素电极；4、屏蔽电极；9、基底。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
实施例1：
如图2、图3所示，本实施例提供一种触控基板，其包括多个触控电极1，每个触控电极1和对应的触控引线11相连，至少部分触控电极1具有交叠区，触控电极1在交叠区中和对应其他触控电极1的触控引线11交叠。
具体的，触控基板是指用于实现触控功能的基板，其可以是单独的触控基板，也可同时作为显示用的显示基板。
触控电极1为用于实现触控功能的电极，根据触控方式的不同，该触控电极1也可为不同形式。如其可以是用于实现互感式触控的扫描电极或感应电极，也可以是用于实现自感式触控的电极。优选的，此处以触控电极1是扫描电极为例。这是因为触控时各扫描电极需要轮流通入扫描信号，因此必然有一触控电极1(即正在扫描的触控电极1)的信号与其他触控电极1均不同，其他触控电极1最容易受到该触控电极1的触控引线11的干扰，前述的串扰问题比较严重，最适用本发明。
其中，为了与驱动芯片相连，故各触控电极1均需要连接相应的触控引线11，对于触控基板中部的触控电极1，其触控引线11需要经过其他触控电极1所在的区域，即需要与其他触控电极1相交叠(当然要保证二者相互绝缘)，而该区域称为交叠区。
在上述触控基板中，在至少部分交叠区中设有位于触控电极1与触控引线11间的屏蔽电极4。
也就是说，在本实施例的触控基板中，在触控电极1和对应其他触控电极1的触控引线11之间，设有屏蔽电极4，由此，对应其他触控电极1的触控引线11中的信号会被该屏蔽电极4屏蔽，其对触控电极1造成的影响减小，从而可避免串扰现象。
优选的，上述屏蔽电极4接地。
也就是说，该屏蔽电极4可接地(如连接触控基板上的接地端口)，从而保证其电平稳定为0，可起到更好的屏蔽作用。
优选的，作为本实施例的另一种方式，屏蔽电极4和与其交叠的触控电极1相连。
也就是说，屏蔽电极4在哪个触控电极1所在的区域，则其就可通过过孔与该驱动电极相连。这是因为若屏蔽电极4什么都不接(浮接)，则其本身的电位会很容易变化，屏蔽作用不强，而其连接屏蔽电极4，虽然屏蔽能力不如接地，但也能起到比浮接更好 的屏蔽效果。同时，由于屏蔽电极4是连接与其交叠的触控电极1，故只要如图3所示，在二者间的绝缘层中设置一个过孔即可，而不用设置复杂的引线，结构比较简单，容易实现。
优选的，触控基板为液晶显示的阵列基板，其包括像素电极3和公共电极2，且至少部分公共电极2同时也是触控电极1。
可见，触控基板可不只单纯实现触控功能，而同时也作为阵列基板，更具体是液晶显示的阵列基板。当触控基板同时作为液晶显示的阵列基板时，其触控电极1也可同时作为公共电极2，也就是说，这些电极可在需要进行触控时通入触控信号，而在需要进行显示时通入公共电压，从而同时起到触控电极1和公共电极2的作用。
优选的，至少部分公共电极2不是触控电极1。
也就是说，在触控基板中，还可有部分公共电极2是只通入公共电压而不通入触控信号的，故它们只是单纯作为公共电极2，而不作为触控电极1。
更优选的，在远离基底9的方向上，触控引线11、像素电极3、公共电极2依次设置，屏蔽电极4与像素电极3同层且间隔设置。
根据通常的设计，当触控电极1同时作为公共电极2时，相对于基底9而言，触控电极1(公共电极2)可位于像素电极3所在层的之上，而触控引线11(公共电极线)则设于像素电极3所在层之下；此情况下，触控电极1所在的层正好位于触控电极1(公共电极2)所在层和触控引线11(公共电极线)所在层之间，为此，正好可在该层中设置屏蔽电极4，即像素电极3与屏蔽电极4同层，从而二者可在一次构图工艺中形成，而不必增加单独的制备屏蔽电极4的步骤。
当然，当公共电极2(触控电极1)处于像素电极3之上时，则其应当为狭缝电极形式，即其在对应像素电极3处设有多条狭缝，以便电场通过。同时，为实现各层之间的绝缘，故在各导电层之 间还应设有相应的绝缘层(在此不再详细描述)。
其中，“同层”是指两个结构是由同一个完整的材料层经构图工艺后形成的，从而它们在层叠关系上处于同一个层中，但“同层”并不代表二者与基底9的距离相等。
其中，“构图工艺”包括形成材料层-涂布光刻胶-曝光-显影-刻蚀-光刻胶剥离等步骤中的一步或多步。
优选的，每个触控电极1对应多个子像素，屏蔽电极4位于相邻子像素之间的间隔处。
通常而言，由于触控所需的精度远低于子像素的尺寸(微米量级)，故触控电极1的尺寸可比像素电极3大，即每个触控电极1可对应多个子像素，从而简化触控结构。在此基础上，为减小对显示的影响，故以上屏蔽电极4优选位于各子像素之间；具体的，当屏蔽电极4与像素电极3同层时，由于每个像素电极3对应一个子像素，故屏蔽电极4可为设于相邻像素电极3之间的电极条。
优选的，在交叠区外也设有屏蔽电极4，各屏蔽电极4在触控基板上均匀分布。
如图2所示，由于每个触控电极1的触控引线11均要引出到触控基板的边缘，因此，越靠近触控基板的边缘的触控电极1就与越多的触控引线11交叠，即越靠近触控基板边缘的触控电极1中的交叠区越多，其需要对应的屏蔽电极4也就越多。但是，屏蔽电极4的存在必然会对显示造成一定影响，而这种影响与屏蔽电极4的分布密切相关；若屏蔽电极4在触控基板边缘数量很多，而在中部数量很少，则其对触控基板不同位置产生的影响也就不同，从而造成不同位置的显示效果不同。为此，优选使屏蔽电极4在整个触控基板中均匀分布，这样，必然在部分没有触控电极1与触控引线11交叠的区域(即交叠区之外的区域)，也会设有屏蔽电极4，而这样的屏蔽电极4分布形式有利于显示效果的统一。
实施例2：
本实施例提供了一种上述触控基板的制备方法，其包括：
形成触控电极的步骤和形成触控引线的步骤，其中，每个触控电极和对应的触控引线相连，至少部分触控电极具有交叠区，触控电极在交叠区中和对应其他触控电极的触控引线交叠；
在形成触控电极的步骤和形成触控引线的步骤之间，还包括：在至少部分交叠区中形成屏蔽电极。
其中，“形成触控电极的步骤和形成触控引线的步骤”是指触控电极和触控引线需要分别形成，但二者的形成并无一定的先后顺序。
优选的，触控基板为液晶显示的阵列基板，其包括基底、像素电极、公共电极，至少部分公共电极同时也是触控电极，在远离基底的方向上，触控引线、像素电极、公共电极依次设置；触控基板制备方法包括：
形成触控引线；
形成同层的屏蔽电极与像素电极，屏蔽电极与像素电极间隔设置；
形成同时也是触控电极的公共电极。
也就是说，对于上述的触控电极和公共电极公用，而屏蔽电极与像素电极同层的方案，可在形成像素电极的同时形成屏蔽电极，从而不必增加单独的形成屏蔽电极的步骤；而要同时形成屏蔽电极，只需改变构图工艺的曝光步骤中所用的掩膜版的图形即可。
在上述触控基板的制备方法中，只要能保证形成上述屏蔽电极即可，而其他的结构、步骤等均可采用现有的常规方法，例如，一种常规的制备方法包括：
S01、形成包括栅极、栅极线和触控引线的图形。
S02、形成栅绝缘层。
S03、形成包括有源区的图形。
S04、形成包括源极、漏极、数据线的图形
S05、形成层间绝缘层。
S06、形成包括像素电极和屏蔽电极的图形，其中像素电极和屏蔽电极同层且间隔设置，至少部分像素电极位于交叠区中。
S07、形成钝化层。
S08、形成包括公共电极的图形，其中部分公共电极同时也是屏蔽电极。
当然，触控基板的制备方法还可进行许多已知的变形，在此不再详细描述。
实施例3：
本实施例提供了一种触控显示装置，其包括上述的触控基板。
具体的，该触控显示装置可为液晶显示面板、电子纸、OLED面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。