有机发光器件.pdf

上传人:111****112 文档编号:805130 上传时间:2018-03-13 格式:PDF 页数:16 大小:631.19KB
返回 下载 相关 举报
摘要
申请专利号:

CN200980121034.3

申请日:

2009.06.04

公开号:

CN102057513A

公开日:

2011.05.11

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法律详情:

授权|||实质审查的生效IPC(主分类):H01L 51/50申请日:20090604|||公开

IPC分类号:

H01L51/50; H05B33/12; H05B33/22; H05B33/26

主分类号:

H01L51/50

申请人:

佳能株式会社

发明人:

山﨑拓郎; 永山耕平

地址:

日本东京

优先权:

2008.06.09 JP 2008-150489

专利代理机构:

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人:

卜荣丽

PDF下载: PDF下载
内容摘要

本发明涉及能够抑制发光区域的角处的有机EL元件的劣化的有机发光器件。有机发光器件包含:使布置在布置像素的发光区域中的薄膜晶体管平坦化的平坦化膜;限定在平坦化膜上形成的像素的元件分离膜;和在各像素中的平坦化膜上形成的电荷传输层。电荷传输层包含碱金属和碱土金属中的任一种,并延伸到发光区域的外面以覆盖平坦化膜的被设置在周边区域中的周边部分的侧表面,该平坦化膜在发光区域中形成。

权利要求书

1: 一种有机发光器件, 包括 : 基板, 所述基板具有其中布置像素的发光区域和包围发光区域的周边区域 ; 薄膜晶体管, 所述薄膜晶体管被布置在基板的发光区域中 ; 平坦化膜, 所述平坦化膜由树脂构成并使薄膜晶体管平坦化 ; 元件分离膜, 所述元件分离膜限定在平坦化膜上形成的像素 ; 和 有机 EL 元件, 所述有机 EL 元件至少包含在每个像素内的平坦化膜上设置的第一电极、 发光层、 包含碱金属和碱土金属中的任一种的电荷传输层、 以及第二电极, 其中, 电荷传输层延伸到发光区域的外面, 以覆盖平坦化膜的设置在周边区域中的周 边部分的侧表面, 所述平坦化膜形成在发光区域中。
2: 根据权利要求 1 的有机发光器件, 其中, 电荷传输层与元件分离膜和 / 或平坦化膜接 触。
3: 根据权利要求 1 的有机发光器件, 其中, 驱动电路被设置在基板的周边区域中以便 控制薄膜晶体管的驱动, 平坦化膜被形成在驱动电路上, 并且, 平坦化膜被在周边区域中提 供的分割区域分割。
4: 根据权利要求 3 的有机发光器件, 其中, 电荷传输层延伸到周边区域以覆盖基板的 分割区域和驱动电路上的平坦化膜的侧表面, 所述侧表面被设置在分割区域中。
5: 根据权利要求 4 的有机发光器件, 其中, 通过在基板的分割区域内沿分割区域形成 的结构, 电荷传输层在分割区域中不连续。
6: 根据权利要求 5 的有机发光器件, 其中, 所述结构由导电材料构成并与第二电极电 连接。

说明书


有机发光器件

    【技术领域】
     本发明涉及用于平板元件显示器等的有机发光器件。背景技术 有机发光器件作为可望减小厚度和功耗的自发光器件受到很多的关注。
     包含设置在显示部分中并在各像素中包含提供为开关元件的薄膜晶体管的有源 矩阵型有机发光器件的显示器可实现高清晰度、 高质量显示, 并由此被用于各种领域。 控制 与各像素对应的薄膜晶体管的驱动电路被提供在设置像素的发光区域周围的周边区域中, 并且, 除了驱动电路以外, 在周边区域中形成诸如电源布线和信号布线等的布线。 与各像素 连接的薄膜晶体管和设置在周边区域中的驱动电路是确定显示质量的重要因素。
     构成有机发光器件的有机 EL 元件包含第一电极、 第二电极和层叠在两个电极之 间的诸如空穴传输层、 发光层、 电子传输层、 电子注入层的具有不同功能的多个有机化合物 层。
     有机 EL 元件存在水分和气体进入元件中导致亮度降低和驱动电压增加的问题。 因此, 在有机发光器件中, 为了防止大气水分和气体进入有机 EL 元件的有机化合物层, 在 基板的提供有机 EL 元件的侧上设置密封层, 并且, 用密封剂密封基板和密封层的周边。
     即使可通过密封层和密封剂阻断大气水分和气体的进入, 当构成有机发光器件的 构成部分包含水分和气体时, 水分和气体在有机发光器件中进行扩散以使有机 EL 元件劣 化, 由此降低亮度。
     特别地, 在有源矩阵型有机发光器件中, 提供包含有机感光绝缘膜的平坦化膜以 覆盖薄膜晶体管和驱动电路。通过减少因形成薄膜晶体管和驱动电路产生的台阶, 设置用 于平坦化的平坦化膜, 并且, 在平坦化膜上形成有机 EL 元件。并且, 在一些有机发光器件 中, 为了使元件相互分离, 在平坦化膜上形成包含有机绝缘膜的元件分离膜。 构成平坦化膜 或元件分离膜的诸如有机绝缘膜的树脂膜容易透过水分和气体并且容易在其中吸附水分 和气体。 因此, 在这种类型的有机发光器件中, 水分和气体容易残留在器件中, 并且, 残留的 水分和气体在树脂层中扩散并进入有机 EL 元件的有机化合物层, 由此导致发光的劣化。
     在日本专利公开 No.2006-054111 中公开的显示器件中, 为了解决该问题, 从围绕 发光区域的部分去除均由树脂构成的平坦化膜和元件分离膜, 以形成使内部周边部分与外 部周边部分分离的分离沟槽。因此, 存在于平坦化膜和元件分离膜的与外部周边部分对应 的部分中的水分不通过平坦化膜和元件分离膜进入平坦化膜和元件分离膜的与内部周边 部分对应的部分, 由此防止由于显示区域中的水分导致的有机 EL 元件的劣化。
     在日本专利公开 No.2006-054111 的配置中, 可以抑制存在于与发光区域的周边 对应的平坦化膜和元件分离膜中的水分和气体通过平坦化膜和元件分离膜进入发光区域 内的平坦化膜和元件分离膜。但是, 有机 EL 元件由于残留于发光区域内的平坦化膜和元件 分离膜内的水分和气体的影响而劣化, 由此导致难以实现有机 EL 发光器件所需要的长期 可靠性。
     作为锐意研究的结果, 本发明的发明人发现, 残留于设置在发光区域的周边中的 平坦化膜和元件分离膜中的水分和气体扩散到基板和密封层之间的空间 ( 密封空间 ) 中, 进入发光区域内的平坦化膜和元件分离膜, 并且扩散到各像素中的有机化合物层。 并且, 当 由于密封剂的损伤而不能实现充分的密封时, 大气水分和气体从外面进入基板和密封层之 间的空间, 被平坦化膜和元件分离膜吸收, 并且扩散到有机 EL 元件中, 由此导致有机 EL 元 件的劣化。 发明内容 本发明提供具有优异的长期可靠性的发光器件, 其中, 残留于发光区域内的平坦 化膜和元件分离膜的水分和气体向有机 EL 元件中的进入减少, 并且, 从发光区域的外面的 水分和气体的进入也减少。
     本发明的有机发光器件具有 : 基板, 所述基板具有其中布置像素的发光区域和包 围发光区域的周边区域 ; 薄膜晶体管, 所述薄膜晶体管被布置在基板的发光区域中 ; 由树 脂构成的平坦化膜, 所述平坦化膜使薄膜晶体管平坦化 ; 元件分离膜, 所述元件分离膜限定 在平坦化膜上形成的像素 ; 和有机 EL 元件, 所述有机 EL 元件至少包含在每个像素内的平坦 化膜上设置的第一电极、 发光层、 包含碱金属和碱土金属中的任一种的电荷传输层、 以及第 二电极, 其中, 电荷传输层延伸到发光区域的外面, 以覆盖平坦化膜的设置在周边区域中的 周边部分的侧表面, 所述平坦化膜在发光区域中形成。
     附图说明
     图 1 是示意性表示根据本发明的实施例的有机发光器件的例子的截面图。 图 2 是示意性表示根据本发明的实施例的有机发光器件的例子的透视图。 图 3 是示意性表示根据本发明的另一实施例的有机发光器件的例子的截面图。 图 4 是示意性表示根据本发明的又一实施例的有机发光器件的例子的截面图。 图 5 是示意性表示根据本发明的又一实施例的有机发光器件的例子的截面图。 图 6 是示意性表示根据本发明的又一实施例的有机发光器件的例子的截面图。 图 7 是示意性表示根据本发明的实施例的有机发光器件的比较例的截面图。具体实施方式
     以下参照图 1 ~ 6 描述本发明的实施例。这些图中的每一个示意性表示根据本发 明的有机发光器件的配置的例子的一部分。
     图 1 是根据本发明的有机发光器件的端部的示意性截面图。图 2 是根据本发明的 有机发光器件的透视图。图 1 是图 2 所示的发光区域 A 和设置在发光区域 A 周围的用作非 发光区域的周边区域 B 之间的边界部分的截面图。发光区域是布置多个限定的像素的区 域, 该区域包含多个像素和夹在像素之间的区域。每一个像素是包含保持在电极之间的发 光层的部分。
     在图 1 所示的有机发光器件的发光区域 A 中, 在基板 1 上依次层叠薄膜晶体管 (TFT)2、 无机绝缘膜 3 和平坦化膜 4A, 并且, 在平坦化膜 4A 上形成单位像素的第一电极 5。 每个像素的周边被元件分离膜 8A 覆盖。基板 1 由诸如玻璃或 Si 等的无机材料构成。平坦化膜 4A 使 TFT 2 平坦化, 并且, 元件分离膜 8A 限定像素, 两个膜均由树脂构成。作为树脂, 可以使用丙烯酸树脂或聚酰亚胺树脂等。第一电极 5 通过在无机绝缘膜 3 和平坦化膜 4A 中形成的接触孔与 TFT 2 连接。在基板 1 上的每个像素中形成的第一电极 5 上形成有机化 合物层 6。有机化合物层 6 具有发光层和电荷传输层 6′。电荷传输层 6′可包含空穴注入 层、 空穴传输层、 电子传输层和电子注入层中的一个, 或者可包含这些层中的多个层。 并且, 在有机化合物层 6 之上形成第二电极 7。并且, 设置密封玻璃 9 以覆盖整个发光区域 A, 并 且, 密封玻璃 9 的周边通过粘接剂 ( 未示出 ) 与基板 1 接合。
     在周边区域 B 中, 设置控制 TFT 2 的驱动的驱动电路 1, 并且, 在驱动电路 11 上形 成平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B。平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 被分别与平坦化膜 4A 和元 件分离膜 8A 一体化形成, 并然后从发光区域 A 周围的部分被部分地去除, 以提供分割区域 C。即, 具有高的水分和气体含量的平坦化膜和元件分离膜在发光区域 A 和周边区域 B 之间 被分割。因此, 防止残留于周边区域 B 中的平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 中的水分和气体 通过该平坦化膜和元件分离膜沿与基板平行的方向移动并被传送到发光区域 A 中的平坦 化膜 4A 和元件分离膜 8A, 由此减少有机 EL 元件的劣化。在这种情况下, 元件分离膜 8B 被 与元件分离膜 8A 一体化形成, 并然后与元件分离膜 8A 分离。因此, 元件分离膜 8B 没有限 定像素的功能并且可被解释为平坦化膜 4B 的一部分。 但是, 为了方便, 使用术语 “元件分离 膜 8B” 。平坦化膜 4A 和平坦化膜 4B 可以独立地形成, 以在形成时被分割区域 C 分离。类似 地, 元件分离膜 8A 和元件分离膜 8B 可以分别在平坦化膜 4A 和平坦化膜 4B 上独立地形成。 并且, 平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 可均不形成, 或者, 可以只形成两个膜中的一个。
     并且, 在图 1 所示的配置中, 每个像素中的电荷传输层 6′被提供为延伸到发光区 域 A 的外面以覆盖平坦化膜 4A 的设置在周边区域 B 中的周边部分的侧表面, 该平坦化膜 4A 在发光区域 A 中形成。电荷传输层 6′可形成为覆盖平坦化膜 4A 的周边的一部分或一边, 但也可以形成为覆盖整个周边。
     电荷传输层 6′包含空穴注入层、 空穴传输层、 电子传输层和电子注入层中的一个 或这些层的组合。 电荷传输层 6′包含碱金属和碱土金属中的任一种。 特别地, 包含碱金属 和碱土金属中的至少一种的层是电子注入层, 并且, 电荷传输层 6′至少包含电子注入层。
     碱金属包含 Li、 Na、 K、 Rb、 Cs 和 Fr, 并且碱土金属包含 Be、 Mg、 Ca、 Sr、 Ba 和 Ra。碱 金属和碱土金属具有高的离子化倾向, 并由此具有与水分和气体的高反应性。 因此, 碱金属 和碱土金属与水分和气体化学键合以用作吸附剂。由此, 残留于平坦化膜 4A 和元件分离膜 8A 中的水分和气体被覆盖平坦化膜 4A 和元件分离膜 8A 的设置在周边区域 B 中的周边部分 的侧表面的电荷传输层 6′吸附。即, 设置在像素和发光区域 A 外面的电荷传输层 6′的一 部分用作水分和气体的吸附剂。
     并且, 在玻璃基板 1 和密封玻璃 9 之间的空间 ( 密封空间 ) 中, 平坦化膜 4A 和元 件分离膜 8A 不被露出, 由此, 如果在密封空间中存在水分和气体, 那么可以减少水分和气 体向平坦化膜 4A 和元件分离膜 8A 中的进入。
     另外, 电荷传输层 6′形成为不仅覆盖元件分离膜 8A, 而且覆盖平坦化膜 4A。因 此, 残留于平坦化膜 4A 和元件分离膜 8A 中的水分和气体在其中扩散并被电荷传输层 6′有 效地吸附。
     下面, 进一步详细描述本发明的配置。本发明具有如下配置 : 包含碱金属和碱土金属中的任一种的电荷传输层 6′被提 供为延伸到发光区域 A 的外面以覆盖平坦化膜 4A 和元件分离膜 8A 的设置在周边区域 B 中 的周边部分的侧表面, 平坦化膜 4A 和元件分离膜 8A 形成在发光区域 A 中。
     在本发明的配置中, 只要碱金属和碱土金属对于水分和气体具有吸附性, 那么它 们不被限制。 但是, 从电子传输能力和对于水分和气体的吸附性的观点看, 可以使用 Li、 Na、 Cs、 Mg、 Ca、 Sr 和它们的化合物。
     在图 1 所示的实施例中, 电荷传输层 6′形成为跨分割区域 C 延伸并覆盖平坦化 膜 4B 和元件分离膜 8B 的设置在分割区域 C 中的部分的侧表面, 平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 形成在周边区域 B 中。在这种情况下, 残留于平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 中的水分和 气体被电荷传输层 6′吸附, 由此减少从平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 释放到密封空间中的 水分和气体的量。并且, 为了改善残留于平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 中的水分和气体的 吸附, 可以增加被电荷传输层 6′覆盖的平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 的面积。但是, 在图 1 中, 在平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 之上形成电极布线 10, 用于向第二电极供给电势。因 此, 为了电连接第二电极和电极布线, 电荷传输层 6′被形成为不被设置在电极布线 10 上。
     相反, 在图 3 所示的另一实施例中, 除了分割区域 C1 以外, 在关于分割区域 C1 与 发光区域 A 相对的位置处设置分割区域 C2。周边区域 B 中的平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 被分割成覆盖驱动电路 11 的平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 以及其它的平坦化膜 4B′和元 件分离膜 8B′。并且, 在分割区域 C2 中提供电极布线 10, 并且, 电极布线 10 通过在无机绝 缘膜 3 中形成的接触孔与第二电极 7 电连接。在该配置中, 可以在与形成 TFT 2 和驱动电 路 11 的步骤同时地形成电极布线 10。 在图 4 所示的另一实施例中, 电极布线 10 被提供在分割区域 C 中, 并且, 第二电极 7 在分割区域 C 中与电极布线 10 电连接。在这种情况下, 电极布线 10 被提供在形成像素的 发光区域 A 的附近, 由此可以抑制被供给到每个像素中的第二电极 7 的电势的降低。在该 配置中, 同样, 电荷传输层 6′形成为延伸到发光区域 A 的外面以覆盖平坦化膜 4A 的设置在 周边区域 B 中的周边部分的侧表面。因此, 本实施例具有本发明的优点。
     图 5 所示的另一实施例具有不在周边区域 B 中形成平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 的配置。 在该配置中, 可以减少残留于发光器件中的水分和气体的量。 虽然在图 5 所示的配 置中, 电极布线 10 在发光器件中被设置在驱动电路 11 的外面, 但是, 电极布线 10 可被设置 在驱动电路 11 和发光区域 A 之间。在这种情况下, 为了电连接第二电极 7 和电极布线 10, 电荷传输层 6′被形成为不被设置在电极布线 10 上。
     虽然在上述的实施例的配置中密封玻璃 9 被用作密封层, 但是, 只要密封层可防 止大气水分和气体进入发光器件, 密封层不被特别限制。在图 3 所示的实施例的配置中, 作 为密封玻璃 9 的替代, 可以形成由例如硅氮化物或硅氧化物等的无机材料构成的无机密封 膜作为第二电极 7 上的密封层, 并且, 可通过粘接剂层接合偏光板。在该配置中, 同样, 电荷 传输层 6′被形成为到延伸发光区域 A 的外面以覆盖平坦化膜 4A 的设置在周边区域 B 中的 周边部分的侧表面。因此, 本实施例具有本发明的优点。
     在图 1 所示的实施例中, 残留于平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 中的水分和气体通 过被提供为与平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 接触的电荷传输层 6′被吸附。 例如, 当电荷传 输层 6′包含 Li 时, 通过化学键合吸附残留于平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 中的水分和气
     体。但是, 吸附的水分和气体和 Li 之间的化学键合可被破坏, 并且, 水分和气体可通过电荷 传输层 6′或者电荷传输层 6′和第二电极 7 之间的界面扩散到发光区域 A 内的各像素中 的有机 EL 元件中。
     在图 6 所示的实施例中, 为了解决该问题, 在分割区域 C 中沿分割区域 C 形成结构 13。电荷传输层 6′被结构 13 分割并变得不连续, 并且, 结构 13 与第二电极 7 接触。另外, 可通过使用很少吸附水分和气体的无机材料形成该结构。
     在该配置中, 能够防止水分和气体通过电荷传输层 6′从周边区域 B 中的平坦化 膜 4B 和元件分离膜 8B 直接扩散到有机 EL 元件, 由此实现进一步阻断水分和气体的效果。
     只要在形成电荷传输层 6′和第二电极 7 的过程中满足结构 13 和第二电极 7 之间 的接触的条件, 结构 13 的形状不被限制。结构 13 的侧壁的锥角为 45 度 ( 角度 ) 或更大, 特别是超过 80 度 ( 角度 )。
     例如, 当通过具有高的直线性的蒸镀工艺形成构成电荷传输层 6′的层时, 构成电 荷传输层 6′的有机材料很少向设置在分割区域 C 中的结构 13 的侧壁移动, 由此, 电荷传输 层 6′不覆盖结构 13 的整个侧壁。随后, 当通过溅射形成第二电极 7 时, 第二电极 7 的材料 向结构的侧壁移动, 并由此在结构 13 的整个侧壁上形成第二电极 7, 从而在结构 13 的侧壁 上连续地形成第二电极 7。因此, 电荷传输层 6′在分割区域 C 内被结构 13 分割并变得不 连续。 当通过使用导电材料形成结构 13 时, 可以在结构 13 和第二电极 7 之间进行电连 接, 并且, 结构 13 可被用作第二电极 7 的电势布线。提供电势布线以补偿与当通过电极布 线 10 向像素供给电势时产生的电压降对应的电势。当结构 13 被用作电势布线时, 结构 13 优选由导电材料制成, 并且更优选由具有低电阻的导电材料制成。 例如, 可以使用由 Al、 Mo、 Ag、 Cu 或它们的化合物构成的单层膜, 或包含这些材料的叠层膜。并且, 可以使用与用于形 成 TFT 2 的各层和第一电极 5 的材料相同的材料。
     可以在分割区域 C 中沿分割区域 C 形成结构 13, 但是, 可以在发光区域 A 或周边区 域 B 中提供结构 13, 使得电荷传输层 6′沿图中的水平方向不连续。
     图 6 示出一个结构 13, 但是, 在满足上述锥角的条件下, 可以沿分割区域平行布置 两个结构。虽然在图 6 所示的配置中, 电荷传输层 6′被结构 13 分割, 但是可通过形成无 机绝缘膜 3 使得不在要形成分割区域 C 的部分中形成无机绝缘膜 3, 使电荷传输层 6′不连 续。
     例子 1
     参照图 2 和图 3 描述本例子。
     在具有发光区域 A 和周边区域 B 的基板 1 的发光区域 A 中形成 TFT 2, 并且, 在周 边区域 B 上形成用于控制 TFT 2 的驱动的驱动电路 11。此时, 与 TFT 2 的漏极布线的形成 同时地在周边区域 B 上形成电极布线 10。并且, 在 TFT 2 和驱动电路 11 上形成无机绝缘 膜 3, 以不使其覆盖电极布线 10。然后, 为了使通过形成 TFT 2 和驱动电路 11 产生的不平 整平坦化, 在发光区域 A 中形成平坦化膜 4A, 并且, 在周边区域 B 中形成平坦化膜 4B 以使其 通过分割区域 C 与平坦化膜 4A 分离并包围发光区域 A。平坦化膜 4A 和平坦化膜 4B 由丙烯 酸树脂制成。另外, 电极布线 10 不被平坦化膜 4B 覆盖。
     然后, 为了进行第一电极 5 和 TFT 2 之间的电接触, 在平坦化膜 4A 中形成接触孔,
     并且, 在平坦化膜 4A 上形成第一电极 5。然后, 在平坦化膜 4A 上在第一电极 5 周围形成丙 烯酸元件分离膜 8A, 以限定像素。 同时, 在平坦化膜 4B 上形成丙烯酸元件分离膜 8B, 使得平 坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 通过分割区域 C 与平坦化膜 4A 和元件分离膜 8A 分离以包围发 光区域 A。虽然在本例子中平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 被形成为包围发光区域 A, 但是, 只要平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 被提供为至少覆盖驱动电路 11, 它们就不需要包围发光 区域 A。并且, 平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 中的任一个可被省略, 或者, 两个膜均可被省 略。
     作为第一电极 5 的材料, 使用钨。并且, 为了增加发光效率, 可以在第一电极 5 上 层叠用于反射沿向基板 1 的方向发射的光使得从密封玻璃 9 侧取出光的反射层, 和空穴注 入层。作为用于反射层的材料, 可以使用例如为 Ag 合金或 Al 合金等的具有高反射率的材 料。在本例子中, 使用 Ag 合金。只要考虑与空穴传输层的能级连接, 空穴注入层不被特别 限制, 并且, 可以使用 ITO 或 IZO 等。在本例子中, 使用 ITO。
     平坦化膜 4A 和平坦化膜 4B 的厚度为 2 微米, 并且, 元件分离膜 8A 和元件分离膜 8B 的厚度为 1.5 微米。在元件分离膜 8A 中, 用于限定像素的孔径的尺寸为 30 微米 ×45 微 米, 并且, 像素之间的宽度为 15 微米。另外, 分割区域 C 的宽度为 100 微米, 并且, 在距分割 区域 C 的距离为 350 微米的位置处形成电极布线 10。 在像素中, 通过蒸镀沉积 FLO3、 DpyFL+sDTAB2、 DFPH1 和 DFPH1+Cs2CO3 以形成包含 空穴传输层、 发光层、 电子传输层和电子注入层的有机化合物层 6。 并且, 包含三个层即空穴 传输层 (FLO3)、 电子传输层 (DFPH1) 和电子注入层 (DFPH1+Cs2CO3) 的电荷传输层 6′被形 成为跨分割区域 C 并从各像素的第一电极 5 延伸到元件分离膜 8 的顶部的一部分。电荷传 输层 6′覆盖周边区域 B 中的元件分离膜 8 的顶部的 150 微米。不在电极布线 10 上设置电 荷传输层 6′。然后, 在各像素中的有机化合物层 6、 延伸到发光区域 A 的外面的电荷传输 层 6′和电极布线 10 上, 由 IZO 构成的第二电极 7 被沉积到 0.04 微米的厚度, 以在各像素 中形成有机 EL 元件。
     并且, 上面设置干燥剂 ( 未示出 ) 的密封玻璃 9 被接合, 使得密封玻璃 9 面向基板 1 并被密封以形成图 3 所示的有机 EL 发光元件。在基板 1 被装入之后, 在真空中执行直到 形成第二电极 7 的操作, 并且然后在填充有氮气并被控制到 -75 度 ( 摄氏 ) 或更低的露点 的气氛中执行密封工作。
     将本例子的有机发光器件存放在被控制到 80 度 ( 摄氏 ) 的温度和 25%或更低的 湿度的环境室中。以预定的时间的间隔执行发光显示, 并且, 以 500 倍的倍率用显微镜观察 发光区域 A 中的各像素的发光状态。在经过 3000 小时之后, 确认劣化, 其中, 在发光区域 A 的四个角处像素发光面积减少。 在来自发光区域 A 的周边的 6 个或更少的像素中出现劣化。 在发光区域的其它部分中, 观察不到发光的可见劣化, 并且, 显示的图像的质量保持在与温 度负荷之前的水平相当的水平。
     在本例子中, 电荷传输层 6′包含三个层, 即空穴传输层、 电子传输层和电子注入 层。 但是, 只要电荷传输层 6′至少包含含有作为碱金属的 Cs 的电子注入层, 就表现本发明 的效果。
     例子 2
     参照图 6 描述本例子。
     在本例子中, 除了在周边区域 B 中形成的平坦化膜 4B 和元件分离膜 8B 上形成电 极布线并且在形成第一电极 5 时在分割区域 C 中形成结构 13 以外, 制造与例子 1 相同的有 机发光器件。在形成元件分离膜 8B 之后并在通过蒸镀形成包含三个层即空穴传输层、 电子 传输层和电子注入层的电荷传输层 6′之前形成电极布线 10。与第一电极 5 的形成同时地 在分割区域 C 中沿分割区域 C 形成结构 13。结构 13 具有 30 微米的宽度和 0.25 微米的高 度。 电荷传输层 6′的总厚度为 0.11 微米, 并且, 通过导致很少的偏离的蒸镀工艺形成电荷 传输层 6′的每个层。因此, 电荷传输层 6′在分割区域 C 内被结构 13 分割。并且, 通过溅 射工艺在有机化合物层 6 和电荷传输层 6′上沉积第二电极 7。由于溅射工艺导致绕回, 因 此在结构 13 的侧表面上形成第二电极 7, 由此第二电极 7 不被结构 13 分割并且不是不连续 的。
     将本例子的有机发光器件存放在被控制到 80 度 ( 摄氏 ) 的温度和 25%或更低的 湿度的环境室中。以预定的时间的间隔执行发光显示, 并且, 以 500 倍的倍率用显微镜观察 发光区域 A 中的每个像素的发光状态。在经过 3000 小时之后, 确认劣化, 其中, 在发光区域 A 的四个角处像素发光面积减少。在来自发光区域 A 的周边的 2 个或更少的像素中出现劣 化。在发光区域的其它部分中, 观察不到发光的可见劣化, 并且, 显示的图像的质量保持在 与温度负荷之前的水平相当的水平。
     比较例 1
     参照图 7 描述本例子。
     在本比较例中, 除了不形成分割区域 C1( 图 3)、 仅形成分割区域 C2 并且电荷传输 层 6′不覆盖平坦化膜 4A 的被设置在周边区域 B 中的周边部分的侧表面, 平坦化膜 4A 形成 在发光区域 A 中以外, 制造与例子 1 相同的有机发光器件。
     将本比较例的有机发光器件存放在被控制到 80 度 ( 摄氏 ) 的温度和 25%或更低 的湿度的环境室内。以预定的时间的间隔执行发光显示, 并且, 以 500 倍的倍率用显微镜观 察发光区域 A 中的每个像素的发光状态。在经过 800 小时之后, 确认劣化, 其中, 在发光区 域 A 的四个角处像素发光面积减少。在来自发光区域 A 的周边的 6 个或更少的像素中出现 劣化。作为进一步评价的结果, 在经过 3000 小时之后, 在发光区域 A 的四个角处在来自发 光区域 A 的 4 个或更少的像素中观察到不能发光的像素, 并且, 在一部分中, 在来自发光区 域 A 的周边的 35 个像素中出现像素发光面积减小的劣化。在发光区域的其它部分中, 观察 不到发光的可见劣化, 但是, 当视觉观察显示的图像时, 在发光区域 A 的角处观察到发光的 劣化。
     在本发明的有机发光器件中, 残留于设置在发光区域中的平坦化膜和元件分离膜 中的水分和气体被包含碱金属和碱土金属中的任一种的电荷传输层吸附, 由此减少扩散到 每个像素中的有机 EL 元件中的水分和气体的量。并且, 设置在每个像素中的电荷传输层延 伸以覆盖平坦化膜的设置在周边区域中的周边部分的侧表面, 从而避免发光区域中的平坦 化膜和元件分离膜暴露于密封空间。 因此, 即使在密封空间中存在水分和气体, 也可减少水 分和气体向平坦化膜和元件分离膜中的进入。另外, 平坦化膜和元件分离膜被电荷传输层 覆盖, 残留于平坦化膜和元件分离膜中的水分和气体可有效地被电荷传输层吸附。作为结 果, 可以提供具有优异的长期可靠性的有机发光器件。
     虽然已参照示例性实施例说明了本发明, 但应理解, 本发明不限于公开的示例性实施例。 以下的权利要求的范围应被赋予最宽的解释以包含所有的变更方式以及等同的结 构和功能。
     本申请要求在 2008 年 6 月 9 日提交的日本专利申请 No.2008-150489 的权益, 在 此引入其全部内容作为参考。
     附图标记的解释
     1 基板
     2 薄膜晶体管 (TFT)
     3 无机绝缘膜
     4A、 4B、 4B′平坦化膜
     5 第一电极
     6 有机化合物层
     6′电荷传输层
     7 第二电极
     8A、 8B、 8B′元件分离膜
     9 密封玻璃
     10 电极布线 11 驱动电路 12 电源和信号供给焊盘 13 结构 A 发光区域 B 周边区域 C、 C1、 C2 分割区域

有机发光器件.pdf_第1页
第1页 / 共16页
有机发光器件.pdf_第2页
第2页 / 共16页
有机发光器件.pdf_第3页
第3页 / 共16页
点击查看更多>>
资源描述

《有机发光器件.pdf》由会员分享,可在线阅读,更多相关《有机发光器件.pdf(16页珍藏版)》请在专利查询网上搜索。

1、10申请公布号CN102057513A43申请公布日20110511CN102057513ACN102057513A21申请号200980121034322申请日20090604200815048920080609JPH01L51/50200601H05B33/12200601H05B33/22200601H05B33/2620060171申请人佳能株式会社地址日本东京72发明人山拓郎永山耕平74专利代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038代理人卜荣丽54发明名称有机发光器件57摘要本发明涉及能够抑制发光区域的角处的有机EL元件的劣化的有机发光器件。有机发光器件包含使布置在布置像。

2、素的发光区域中的薄膜晶体管平坦化的平坦化膜;限定在平坦化膜上形成的像素的元件分离膜;和在各像素中的平坦化膜上形成的电荷传输层。电荷传输层包含碱金属和碱土金属中的任一种,并延伸到发光区域的外面以覆盖平坦化膜的被设置在周边区域中的周边部分的侧表面,该平坦化膜在发光区域中形成。30优先权数据85PCT申请进入国家阶段日2010120686PCT申请的申请数据PCT/JP2009/0025202009060487PCT申请的公布数据WO2009/150802EN2009121751INTCL19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书8页附图6页CN102057520A1/1页。

3、21一种有机发光器件,包括基板,所述基板具有其中布置像素的发光区域和包围发光区域的周边区域;薄膜晶体管,所述薄膜晶体管被布置在基板的发光区域中;平坦化膜,所述平坦化膜由树脂构成并使薄膜晶体管平坦化;元件分离膜,所述元件分离膜限定在平坦化膜上形成的像素;和有机EL元件,所述有机EL元件至少包含在每个像素内的平坦化膜上设置的第一电极、发光层、包含碱金属和碱土金属中的任一种的电荷传输层、以及第二电极,其中,电荷传输层延伸到发光区域的外面,以覆盖平坦化膜的设置在周边区域中的周边部分的侧表面,所述平坦化膜形成在发光区域中。2根据权利要求1的有机发光器件,其中,电荷传输层与元件分离膜和/或平坦化膜接触。3。

4、根据权利要求1的有机发光器件,其中,驱动电路被设置在基板的周边区域中以便控制薄膜晶体管的驱动,平坦化膜被形成在驱动电路上,并且,平坦化膜被在周边区域中提供的分割区域分割。4根据权利要求3的有机发光器件,其中,电荷传输层延伸到周边区域以覆盖基板的分割区域和驱动电路上的平坦化膜的侧表面,所述侧表面被设置在分割区域中。5根据权利要求4的有机发光器件,其中,通过在基板的分割区域内沿分割区域形成的结构,电荷传输层在分割区域中不连续。6根据权利要求5的有机发光器件,其中,所述结构由导电材料构成并与第二电极电连接。权利要求书CN102057513ACN102057520A1/8页3有机发光器件技术领域000。

5、1本发明涉及用于平板元件显示器等的有机发光器件。背景技术0002有机发光器件作为可望减小厚度和功耗的自发光器件受到很多的关注。0003包含设置在显示部分中并在各像素中包含提供为开关元件的薄膜晶体管的有源矩阵型有机发光器件的显示器可实现高清晰度、高质量显示,并由此被用于各种领域。控制与各像素对应的薄膜晶体管的驱动电路被提供在设置像素的发光区域周围的周边区域中,并且,除了驱动电路以外,在周边区域中形成诸如电源布线和信号布线等的布线。与各像素连接的薄膜晶体管和设置在周边区域中的驱动电路是确定显示质量的重要因素。0004构成有机发光器件的有机EL元件包含第一电极、第二电极和层叠在两个电极之间的诸如空穴。

6、传输层、发光层、电子传输层、电子注入层的具有不同功能的多个有机化合物层。0005有机EL元件存在水分和气体进入元件中导致亮度降低和驱动电压增加的问题。因此,在有机发光器件中,为了防止大气水分和气体进入有机EL元件的有机化合物层,在基板的提供有机EL元件的侧上设置密封层,并且,用密封剂密封基板和密封层的周边。0006即使可通过密封层和密封剂阻断大气水分和气体的进入,当构成有机发光器件的构成部分包含水分和气体时,水分和气体在有机发光器件中进行扩散以使有机EL元件劣化,由此降低亮度。0007特别地,在有源矩阵型有机发光器件中,提供包含有机感光绝缘膜的平坦化膜以覆盖薄膜晶体管和驱动电路。通过减少因形成。

7、薄膜晶体管和驱动电路产生的台阶,设置用于平坦化的平坦化膜,并且,在平坦化膜上形成有机EL元件。并且,在一些有机发光器件中,为了使元件相互分离,在平坦化膜上形成包含有机绝缘膜的元件分离膜。构成平坦化膜或元件分离膜的诸如有机绝缘膜的树脂膜容易透过水分和气体并且容易在其中吸附水分和气体。因此,在这种类型的有机发光器件中,水分和气体容易残留在器件中,并且,残留的水分和气体在树脂层中扩散并进入有机EL元件的有机化合物层,由此导致发光的劣化。0008在日本专利公开NO2006054111中公开的显示器件中,为了解决该问题,从围绕发光区域的部分去除均由树脂构成的平坦化膜和元件分离膜,以形成使内部周边部分与外。

8、部周边部分分离的分离沟槽。因此,存在于平坦化膜和元件分离膜的与外部周边部分对应的部分中的水分不通过平坦化膜和元件分离膜进入平坦化膜和元件分离膜的与内部周边部分对应的部分,由此防止由于显示区域中的水分导致的有机EL元件的劣化。0009在日本专利公开NO2006054111的配置中,可以抑制存在于与发光区域的周边对应的平坦化膜和元件分离膜中的水分和气体通过平坦化膜和元件分离膜进入发光区域内的平坦化膜和元件分离膜。但是,有机EL元件由于残留于发光区域内的平坦化膜和元件分离膜内的水分和气体的影响而劣化,由此导致难以实现有机EL发光器件所需要的长期可靠性。说明书CN102057513ACN1020575。

9、20A2/8页40010作为锐意研究的结果,本发明的发明人发现,残留于设置在发光区域的周边中的平坦化膜和元件分离膜中的水分和气体扩散到基板和密封层之间的空间密封空间中,进入发光区域内的平坦化膜和元件分离膜,并且扩散到各像素中的有机化合物层。并且,当由于密封剂的损伤而不能实现充分的密封时,大气水分和气体从外面进入基板和密封层之间的空间,被平坦化膜和元件分离膜吸收,并且扩散到有机EL元件中,由此导致有机EL元件的劣化。发明内容0011本发明提供具有优异的长期可靠性的发光器件,其中,残留于发光区域内的平坦化膜和元件分离膜的水分和气体向有机EL元件中的进入减少,并且,从发光区域的外面的水分和气体的进入。

10、也减少。0012本发明的有机发光器件具有基板,所述基板具有其中布置像素的发光区域和包围发光区域的周边区域;薄膜晶体管,所述薄膜晶体管被布置在基板的发光区域中;由树脂构成的平坦化膜,所述平坦化膜使薄膜晶体管平坦化;元件分离膜,所述元件分离膜限定在平坦化膜上形成的像素;和有机EL元件,所述有机EL元件至少包含在每个像素内的平坦化膜上设置的第一电极、发光层、包含碱金属和碱土金属中的任一种的电荷传输层、以及第二电极,其中,电荷传输层延伸到发光区域的外面,以覆盖平坦化膜的设置在周边区域中的周边部分的侧表面,所述平坦化膜在发光区域中形成。附图说明0013图1是示意性表示根据本发明的实施例的有机发光器件的例。

11、子的截面图。0014图2是示意性表示根据本发明的实施例的有机发光器件的例子的透视图。0015图3是示意性表示根据本发明的另一实施例的有机发光器件的例子的截面图。0016图4是示意性表示根据本发明的又一实施例的有机发光器件的例子的截面图。0017图5是示意性表示根据本发明的又一实施例的有机发光器件的例子的截面图。0018图6是示意性表示根据本发明的又一实施例的有机发光器件的例子的截面图。0019图7是示意性表示根据本发明的实施例的有机发光器件的比较例的截面图。具体实施方式0020以下参照图16描述本发明的实施例。这些图中的每一个示意性表示根据本发明的有机发光器件的配置的例子的一部分。0021图1。

12、是根据本发明的有机发光器件的端部的示意性截面图。图2是根据本发明的有机发光器件的透视图。图1是图2所示的发光区域A和设置在发光区域A周围的用作非发光区域的周边区域B之间的边界部分的截面图。发光区域是布置多个限定的像素的区域,该区域包含多个像素和夹在像素之间的区域。每一个像素是包含保持在电极之间的发光层的部分。0022在图1所示的有机发光器件的发光区域A中,在基板1上依次层叠薄膜晶体管TFT2、无机绝缘膜3和平坦化膜4A,并且,在平坦化膜4A上形成单位像素的第一电极5。每个像素的周边被元件分离膜8A覆盖。基板1由诸如玻璃或SI等的无机材料构成。平坦说明书CN102057513ACN1020575。

13、20A3/8页5化膜4A使TFT2平坦化,并且,元件分离膜8A限定像素,两个膜均由树脂构成。作为树脂,可以使用丙烯酸树脂或聚酰亚胺树脂等。第一电极5通过在无机绝缘膜3和平坦化膜4A中形成的接触孔与TFT2连接。在基板1上的每个像素中形成的第一电极5上形成有机化合物层6。有机化合物层6具有发光层和电荷传输层6。电荷传输层6可包含空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层中的一个,或者可包含这些层中的多个层。并且,在有机化合物层6之上形成第二电极7。并且,设置密封玻璃9以覆盖整个发光区域A,并且,密封玻璃9的周边通过粘接剂未示出与基板1接合。0023在周边区域B中,设置控制TFT2的驱动的驱动。

14、电路1,并且,在驱动电路11上形成平坦化膜4B和元件分离膜8B。平坦化膜4B和元件分离膜8B被分别与平坦化膜4A和元件分离膜8A一体化形成,并然后从发光区域A周围的部分被部分地去除,以提供分割区域C。即,具有高的水分和气体含量的平坦化膜和元件分离膜在发光区域A和周边区域B之间被分割。因此,防止残留于周边区域B中的平坦化膜4B和元件分离膜8B中的水分和气体通过该平坦化膜和元件分离膜沿与基板平行的方向移动并被传送到发光区域A中的平坦化膜4A和元件分离膜8A,由此减少有机EL元件的劣化。在这种情况下,元件分离膜8B被与元件分离膜8A一体化形成,并然后与元件分离膜8A分离。因此,元件分离膜8B没有限定。

15、像素的功能并且可被解释为平坦化膜4B的一部分。但是,为了方便,使用术语“元件分离膜8B”。平坦化膜4A和平坦化膜4B可以独立地形成,以在形成时被分割区域C分离。类似地,元件分离膜8A和元件分离膜8B可以分别在平坦化膜4A和平坦化膜4B上独立地形成。并且,平坦化膜4B和元件分离膜8B可均不形成,或者,可以只形成两个膜中的一个。0024并且,在图1所示的配置中,每个像素中的电荷传输层6被提供为延伸到发光区域A的外面以覆盖平坦化膜4A的设置在周边区域B中的周边部分的侧表面,该平坦化膜4A在发光区域A中形成。电荷传输层6可形成为覆盖平坦化膜4A的周边的一部分或一边,但也可以形成为覆盖整个周边。0025。

16、电荷传输层6包含空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层中的一个或这些层的组合。电荷传输层6包含碱金属和碱土金属中的任一种。特别地,包含碱金属和碱土金属中的至少一种的层是电子注入层,并且,电荷传输层6至少包含电子注入层。0026碱金属包含LI、NA、K、RB、CS和FR,并且碱土金属包含BE、MG、CA、SR、BA和RA。碱金属和碱土金属具有高的离子化倾向,并由此具有与水分和气体的高反应性。因此,碱金属和碱土金属与水分和气体化学键合以用作吸附剂。由此,残留于平坦化膜4A和元件分离膜8A中的水分和气体被覆盖平坦化膜4A和元件分离膜8A的设置在周边区域B中的周边部分的侧表面的电荷传输层6吸附。

17、。即,设置在像素和发光区域A外面的电荷传输层6的一部分用作水分和气体的吸附剂。0027并且,在玻璃基板1和密封玻璃9之间的空间密封空间中,平坦化膜4A和元件分离膜8A不被露出,由此,如果在密封空间中存在水分和气体,那么可以减少水分和气体向平坦化膜4A和元件分离膜8A中的进入。0028另外,电荷传输层6形成为不仅覆盖元件分离膜8A,而且覆盖平坦化膜4A。因此,残留于平坦化膜4A和元件分离膜8A中的水分和气体在其中扩散并被电荷传输层6有效地吸附。0029下面,进一步详细描述本发明的配置。说明书CN102057513ACN102057520A4/8页60030本发明具有如下配置包含碱金属和碱土金属中。

18、的任一种的电荷传输层6被提供为延伸到发光区域A的外面以覆盖平坦化膜4A和元件分离膜8A的设置在周边区域B中的周边部分的侧表面,平坦化膜4A和元件分离膜8A形成在发光区域A中。0031在本发明的配置中,只要碱金属和碱土金属对于水分和气体具有吸附性,那么它们不被限制。但是,从电子传输能力和对于水分和气体的吸附性的观点看,可以使用LI、NA、CS、MG、CA、SR和它们的化合物。0032在图1所示的实施例中,电荷传输层6形成为跨分割区域C延伸并覆盖平坦化膜4B和元件分离膜8B的设置在分割区域C中的部分的侧表面,平坦化膜4B和元件分离膜8B形成在周边区域B中。在这种情况下,残留于平坦化膜4B和元件分离。

19、膜8B中的水分和气体被电荷传输层6吸附,由此减少从平坦化膜4B和元件分离膜8B释放到密封空间中的水分和气体的量。并且,为了改善残留于平坦化膜4B和元件分离膜8B中的水分和气体的吸附,可以增加被电荷传输层6覆盖的平坦化膜4B和元件分离膜8B的面积。但是,在图1中,在平坦化膜4B和元件分离膜8B之上形成电极布线10,用于向第二电极供给电势。因此,为了电连接第二电极和电极布线,电荷传输层6被形成为不被设置在电极布线10上。0033相反,在图3所示的另一实施例中,除了分割区域C1以外,在关于分割区域C1与发光区域A相对的位置处设置分割区域C2。周边区域B中的平坦化膜4B和元件分离膜8B被分割成覆盖驱动。

20、电路11的平坦化膜4B和元件分离膜8B以及其它的平坦化膜4B和元件分离膜8B。并且,在分割区域C2中提供电极布线10,并且,电极布线10通过在无机绝缘膜3中形成的接触孔与第二电极7电连接。在该配置中,可以在与形成TFT2和驱动电路11的步骤同时地形成电极布线10。0034在图4所示的另一实施例中,电极布线10被提供在分割区域C中,并且,第二电极7在分割区域C中与电极布线10电连接。在这种情况下,电极布线10被提供在形成像素的发光区域A的附近,由此可以抑制被供给到每个像素中的第二电极7的电势的降低。在该配置中,同样,电荷传输层6形成为延伸到发光区域A的外面以覆盖平坦化膜4A的设置在周边区域B中的。

21、周边部分的侧表面。因此,本实施例具有本发明的优点。0035图5所示的另一实施例具有不在周边区域B中形成平坦化膜4B和元件分离膜8B的配置。在该配置中,可以减少残留于发光器件中的水分和气体的量。虽然在图5所示的配置中,电极布线10在发光器件中被设置在驱动电路11的外面,但是,电极布线10可被设置在驱动电路11和发光区域A之间。在这种情况下,为了电连接第二电极7和电极布线10,电荷传输层6被形成为不被设置在电极布线10上。0036虽然在上述的实施例的配置中密封玻璃9被用作密封层,但是,只要密封层可防止大气水分和气体进入发光器件,密封层不被特别限制。在图3所示的实施例的配置中,作为密封玻璃9的替代,。

22、可以形成由例如硅氮化物或硅氧化物等的无机材料构成的无机密封膜作为第二电极7上的密封层,并且,可通过粘接剂层接合偏光板。在该配置中,同样,电荷传输层6被形成为到延伸发光区域A的外面以覆盖平坦化膜4A的设置在周边区域B中的周边部分的侧表面。因此,本实施例具有本发明的优点。0037在图1所示的实施例中,残留于平坦化膜4B和元件分离膜8B中的水分和气体通过被提供为与平坦化膜4B和元件分离膜8B接触的电荷传输层6被吸附。例如,当电荷传输层6包含LI时,通过化学键合吸附残留于平坦化膜4B和元件分离膜8B中的水分和气说明书CN102057513ACN102057520A5/8页7体。但是,吸附的水分和气体和。

23、LI之间的化学键合可被破坏,并且,水分和气体可通过电荷传输层6或者电荷传输层6和第二电极7之间的界面扩散到发光区域A内的各像素中的有机EL元件中。0038在图6所示的实施例中,为了解决该问题,在分割区域C中沿分割区域C形成结构13。电荷传输层6被结构13分割并变得不连续,并且,结构13与第二电极7接触。另外,可通过使用很少吸附水分和气体的无机材料形成该结构。0039在该配置中,能够防止水分和气体通过电荷传输层6从周边区域B中的平坦化膜4B和元件分离膜8B直接扩散到有机EL元件,由此实现进一步阻断水分和气体的效果。0040只要在形成电荷传输层6和第二电极7的过程中满足结构13和第二电极7之间的接。

24、触的条件,结构13的形状不被限制。结构13的侧壁的锥角为45度角度或更大,特别是超过80度角度。0041例如,当通过具有高的直线性的蒸镀工艺形成构成电荷传输层6的层时,构成电荷传输层6的有机材料很少向设置在分割区域C中的结构13的侧壁移动,由此,电荷传输层6不覆盖结构13的整个侧壁。随后,当通过溅射形成第二电极7时,第二电极7的材料向结构的侧壁移动,并由此在结构13的整个侧壁上形成第二电极7,从而在结构13的侧壁上连续地形成第二电极7。因此,电荷传输层6在分割区域C内被结构13分割并变得不连续。0042当通过使用导电材料形成结构13时,可以在结构13和第二电极7之间进行电连接,并且,结构13可。

25、被用作第二电极7的电势布线。提供电势布线以补偿与当通过电极布线10向像素供给电势时产生的电压降对应的电势。当结构13被用作电势布线时,结构13优选由导电材料制成,并且更优选由具有低电阻的导电材料制成。例如,可以使用由AL、MO、AG、CU或它们的化合物构成的单层膜,或包含这些材料的叠层膜。并且,可以使用与用于形成TFT2的各层和第一电极5的材料相同的材料。0043可以在分割区域C中沿分割区域C形成结构13,但是,可以在发光区域A或周边区域B中提供结构13,使得电荷传输层6沿图中的水平方向不连续。0044图6示出一个结构13,但是,在满足上述锥角的条件下,可以沿分割区域平行布置两个结构。虽然在图。

26、6所示的配置中,电荷传输层6被结构13分割,但是可通过形成无机绝缘膜3使得不在要形成分割区域C的部分中形成无机绝缘膜3,使电荷传输层6不连续。0045例子10046参照图2和图3描述本例子。0047在具有发光区域A和周边区域B的基板1的发光区域A中形成TFT2,并且,在周边区域B上形成用于控制TFT2的驱动的驱动电路11。此时,与TFT2的漏极布线的形成同时地在周边区域B上形成电极布线10。并且,在TFT2和驱动电路11上形成无机绝缘膜3,以不使其覆盖电极布线10。然后,为了使通过形成TFT2和驱动电路11产生的不平整平坦化,在发光区域A中形成平坦化膜4A,并且,在周边区域B中形成平坦化膜4B。

27、以使其通过分割区域C与平坦化膜4A分离并包围发光区域A。平坦化膜4A和平坦化膜4B由丙烯酸树脂制成。另外,电极布线10不被平坦化膜4B覆盖。0048然后,为了进行第一电极5和TFT2之间的电接触,在平坦化膜4A中形成接触孔,说明书CN102057513ACN102057520A6/8页8并且,在平坦化膜4A上形成第一电极5。然后,在平坦化膜4A上在第一电极5周围形成丙烯酸元件分离膜8A,以限定像素。同时,在平坦化膜4B上形成丙烯酸元件分离膜8B,使得平坦化膜4B和元件分离膜8B通过分割区域C与平坦化膜4A和元件分离膜8A分离以包围发光区域A。虽然在本例子中平坦化膜4B和元件分离膜8B被形成为包。

28、围发光区域A,但是,只要平坦化膜4B和元件分离膜8B被提供为至少覆盖驱动电路11,它们就不需要包围发光区域A。并且,平坦化膜4B和元件分离膜8B中的任一个可被省略,或者,两个膜均可被省略。0049作为第一电极5的材料,使用钨。并且,为了增加发光效率,可以在第一电极5上层叠用于反射沿向基板1的方向发射的光使得从密封玻璃9侧取出光的反射层,和空穴注入层。作为用于反射层的材料,可以使用例如为AG合金或AL合金等的具有高反射率的材料。在本例子中,使用AG合金。只要考虑与空穴传输层的能级连接,空穴注入层不被特别限制,并且,可以使用ITO或IZO等。在本例子中,使用ITO。0050平坦化膜4A和平坦化膜4。

29、B的厚度为2微米,并且,元件分离膜8A和元件分离膜8B的厚度为15微米。在元件分离膜8A中,用于限定像素的孔径的尺寸为30微米45微米,并且,像素之间的宽度为15微米。另外,分割区域C的宽度为100微米,并且,在距分割区域C的距离为350微米的位置处形成电极布线10。0051在像素中,通过蒸镀沉积FLO3、DPYFLSDTAB2、DFPH1和DFPH1CS2CO3以形成包含空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层的有机化合物层6。并且,包含三个层即空穴传输层FLO3、电子传输层DFPH1和电子注入层DFPH1CS2CO3的电荷传输层6被形成为跨分割区域C并从各像素的第一电极5延伸到元件分离膜。

30、8的顶部的一部分。电荷传输层6覆盖周边区域B中的元件分离膜8的顶部的150微米。不在电极布线10上设置电荷传输层6。然后,在各像素中的有机化合物层6、延伸到发光区域A的外面的电荷传输层6和电极布线10上,由IZO构成的第二电极7被沉积到004微米的厚度,以在各像素中形成有机EL元件。0052并且,上面设置干燥剂未示出的密封玻璃9被接合,使得密封玻璃9面向基板1并被密封以形成图3所示的有机EL发光元件。在基板1被装入之后,在真空中执行直到形成第二电极7的操作,并且然后在填充有氮气并被控制到75度摄氏或更低的露点的气氛中执行密封工作。0053将本例子的有机发光器件存放在被控制到80度摄氏的温度和2。

31、5或更低的湿度的环境室中。以预定的时间的间隔执行发光显示,并且,以500倍的倍率用显微镜观察发光区域A中的各像素的发光状态。在经过3000小时之后,确认劣化,其中,在发光区域A的四个角处像素发光面积减少。在来自发光区域A的周边的6个或更少的像素中出现劣化。在发光区域的其它部分中,观察不到发光的可见劣化,并且,显示的图像的质量保持在与温度负荷之前的水平相当的水平。0054在本例子中,电荷传输层6包含三个层,即空穴传输层、电子传输层和电子注入层。但是,只要电荷传输层6至少包含含有作为碱金属的CS的电子注入层,就表现本发明的效果。0055例子20056参照图6描述本例子。说明书CN102057513。

32、ACN102057520A7/8页90057在本例子中,除了在周边区域B中形成的平坦化膜4B和元件分离膜8B上形成电极布线并且在形成第一电极5时在分割区域C中形成结构13以外,制造与例子1相同的有机发光器件。在形成元件分离膜8B之后并在通过蒸镀形成包含三个层即空穴传输层、电子传输层和电子注入层的电荷传输层6之前形成电极布线10。与第一电极5的形成同时地在分割区域C中沿分割区域C形成结构13。结构13具有30微米的宽度和025微米的高度。电荷传输层6的总厚度为011微米,并且,通过导致很少的偏离的蒸镀工艺形成电荷传输层6的每个层。因此,电荷传输层6在分割区域C内被结构13分割。并且,通过溅射工艺。

33、在有机化合物层6和电荷传输层6上沉积第二电极7。由于溅射工艺导致绕回,因此在结构13的侧表面上形成第二电极7,由此第二电极7不被结构13分割并且不是不连续的。0058将本例子的有机发光器件存放在被控制到80度摄氏的温度和25或更低的湿度的环境室中。以预定的时间的间隔执行发光显示,并且,以500倍的倍率用显微镜观察发光区域A中的每个像素的发光状态。在经过3000小时之后,确认劣化,其中,在发光区域A的四个角处像素发光面积减少。在来自发光区域A的周边的2个或更少的像素中出现劣化。在发光区域的其它部分中,观察不到发光的可见劣化,并且,显示的图像的质量保持在与温度负荷之前的水平相当的水平。0059比较。

34、例10060参照图7描述本例子。0061在本比较例中,除了不形成分割区域C1图3、仅形成分割区域C2并且电荷传输层6不覆盖平坦化膜4A的被设置在周边区域B中的周边部分的侧表面,平坦化膜4A形成在发光区域A中以外,制造与例子1相同的有机发光器件。0062将本比较例的有机发光器件存放在被控制到80度摄氏的温度和25或更低的湿度的环境室内。以预定的时间的间隔执行发光显示,并且,以500倍的倍率用显微镜观察发光区域A中的每个像素的发光状态。在经过800小时之后,确认劣化,其中,在发光区域A的四个角处像素发光面积减少。在来自发光区域A的周边的6个或更少的像素中出现劣化。作为进一步评价的结果,在经过300。

35、0小时之后,在发光区域A的四个角处在来自发光区域A的4个或更少的像素中观察到不能发光的像素,并且,在一部分中,在来自发光区域A的周边的35个像素中出现像素发光面积减小的劣化。在发光区域的其它部分中,观察不到发光的可见劣化,但是,当视觉观察显示的图像时,在发光区域A的角处观察到发光的劣化。0063在本发明的有机发光器件中,残留于设置在发光区域中的平坦化膜和元件分离膜中的水分和气体被包含碱金属和碱土金属中的任一种的电荷传输层吸附,由此减少扩散到每个像素中的有机EL元件中的水分和气体的量。并且,设置在每个像素中的电荷传输层延伸以覆盖平坦化膜的设置在周边区域中的周边部分的侧表面,从而避免发光区域中的平。

36、坦化膜和元件分离膜暴露于密封空间。因此,即使在密封空间中存在水分和气体,也可减少水分和气体向平坦化膜和元件分离膜中的进入。另外,平坦化膜和元件分离膜被电荷传输层覆盖,残留于平坦化膜和元件分离膜中的水分和气体可有效地被电荷传输层吸附。作为结果,可以提供具有优异的长期可靠性的有机发光器件。0064虽然已参照示例性实施例说明了本发明,但应理解,本发明不限于公开的示例性说明书CN102057513ACN102057520A8/8页10实施例。以下的权利要求的范围应被赋予最宽的解释以包含所有的变更方式以及等同的结构和功能。0065本申请要求在2008年6月9日提交的日本专利申请NO2008150489的。

37、权益,在此引入其全部内容作为参考。0066附图标记的解释00671基板00682薄膜晶体管TFT00693无机绝缘膜00704A、4B、4B平坦化膜00715第一电极00726有机化合物层00736电荷传输层00747第二电极00758A、8B、8B元件分离膜00769密封玻璃007710电极布线007811驱动电路007912电源和信号供给焊盘008013结构0081A发光区域0082B周边区域0083C、C1、C2分割区域说明书CN102057513ACN102057520A1/6页11图1图2说明书附图CN102057513ACN102057520A2/6页12图3说明书附图CN102057513ACN102057520A3/6页13图4说明书附图CN102057513ACN102057520A4/6页14图5说明书附图CN102057513ACN102057520A5/6页15图6说明书附图CN102057513ACN102057520A6/6页16图7说明书附图CN102057513A。

展开阅读全文
相关资源
猜你喜欢
相关搜索

当前位置:首页 > 电学 > 基本电气元件


copyright@ 2017-2020 zhuanlichaxun.net网站版权所有
经营许可证编号:粤ICP备2021068784号-1