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1、10申请公布号CN104059608A43申请公布日20140924CN104059608A21申请号201410296833722申请日20140628C09K3/1420060171申请人青岛宝泰新能源科技有限公司地址266000山东省青岛市李沧区郑佛路17号8室72发明人范向奎54发明名称一种新型机械研磨物57摘要本发明公开了一种新型机械研磨物，其特征在于，包括下列重量份数的物质磷酸钙710份，琥珀酸二辛酯磺酸钠59份，EDTA917份，氧化锌35份，锌粉513份，乙酸正丁酯510份，草酸钠13份，苯甲酸钠57份，酒石酸13份，羟乙基纤维素1020份，水杨酸钠514份，醋酸钠2035份，。
2、苯甲酸甲酯13份，氯化钙25份。本发明的化学机械研磨剂中包括亲水基表面洁性剂材料，可以降低化学机械研磨剂和正在水性薄膜间的表面张力，使化学机械研磨剂和琉水性薄膜更紧密贴合。51INTCL权利要求书1页说明书1页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书1页10申请公布号CN104059608ACN104059608A1/1页21一种新型机械研磨物，其特征在于，包括下列重量份数的物质磷酸钙710份，琥珀酸二辛酯磺酸钠59份，EDTA917份，氧化锌35份，锌粉513份，乙酸正丁酯510份，草酸钠13份，苯甲酸钠57份，酒石酸13份，羟乙基纤维素1020份，水杨酸钠514。
3、份，醋酸钠2035份，苯甲酸甲酯13份，氯化钙25份。权利要求书CN104059608A1/1页3一种新型机械研磨物技术领域0001本发明涉及一种新型机械研磨物。背景技术0002在半导体制造中，化学机械研磨CMP技术可以实现整个晶圆的平坦化，成为芯片制造工艺中重要的步骤之一。在化学机械研磨中，化学机械研磨剂SLURRY是化学机械研磨技术的关键要素之一，其性能直接影响抛光后表面的质量。设计化学机械研磨剂时，希望能达到去除速率高、平面度好、膜厚均匀、无残留、缺陷少等效果。发明内容0003本发明所要解决的技术问题是提供一种新型机械研磨物。0004为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是一种新型机械。
4、研磨物，其特征在于，包括下列重量份数的物质磷酸钙710份，琥珀酸二辛酯磺酸钠59份，EDTA917份，氧化锌35份，锌粉513份，乙酸正丁酯510份，草酸钠13份，苯甲酸钠57份，酒石酸13份，羟乙基纤维素1020份，水杨酸钠514份，醋酸钠2035份，苯甲酸甲酯13份，氯化钙25份。0005本发明的化学机械研磨剂中包括亲水基表面洁性剂材料，可以降低化学机械研磨剂和正在水性薄膜间的表面张力，使化学机械研磨剂和琉水性薄膜更紧密贴合，从而减少琉水性薄膜表面上的残留物和颗粒等缺陷，改善化学机械研磨的效果。具体实施方式0006实施例1一种新型机械研磨物，其特征在于，包括下列重量份数的物质磷酸钙710份，琥珀酸二辛酯磺酸钠59份，EDTA917份，氧化锌35份，锌粉513份，乙酸正丁酯510份，草酸钠13份，苯甲酸钠57份，酒石酸13份，羟乙基纤维素1020份，水杨酸钠514份，醋酸钠2035份，苯甲酸甲酯13份，氯化钙25份。说明书CN104059608A。