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1、10申请公布号CN104216400A43申请公布日20141217CN104216400A21申请号201410462752X22申请日20140911G05B23/0220060171申请人沈阳中科博微自动化技术有限公司地址110179辽宁省沈阳市浑南新区文溯街178号72发明人康凯马鑫敖鹏蛟马秀丽胡守一畅磊74专利代理机构沈阳优普达知识产权代理事务所特殊普通合伙21234代理人俞鲁江54发明名称应用于统计过程控制系统中累积和控制图的数据处理方法57摘要本发明公开一种应用于统计过程控制系统中累积和控制图的数据处理方法，包括以下步骤步骤1求出当前样本值与标准值的差值。步骤2用累积和乘以加权值。
2、。步骤3将步骤2与步骤3中的结果相加得到新的累积结果。步骤4如果累积和超过边界值，则进行预警处理，处理之后判断是否结束程序，如果此时结束程序，则退出。否则继续新一轮运算。步骤5如果累积和未超过边界值，判断是否结束程序，如果此时结束程序，则退出。否则继续新一轮运算。本发明可以实现对生产过程的预判，提高产品生产良率，减少误操作和由误操作引起的误判断。51INTCL权利要求书2页说明书2页附图2页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书2页说明书2页附图2页10申请公布号CN104216400ACN104216400A1/2页21一种应用于统计过程控制系统中累积和控制图的数据处理方。
3、法，其特征在于，包括以下步骤步骤1求出当前样本值与标准值的差值；步骤2用累积和乘以加权值；步骤3将步骤2与步骤3中的结果相加得到新的累积结果；步骤4如果累积和超过边界值，则进行预警处理，处理之后判断是否结束程序，如果此时结束程序，则退出；否则继续新一轮运算；步骤5如果累积和未超过边界值，判断是否结束程序，如果此时结束程序，则退出；否则继续新一轮运算。2按照权利要求1所述的一种应用于统计过程控制系统中累积和控制图的数据处理方法，其特征在于在所述步骤1中求出当前样本值与标准值的差值，用以得到样本值是否在边界范围内，是否属于正常结果。3按照权利要求1所述的一种应用于统计过程控制系统中累积和控制图的数。
4、据处理方法，其特征在于在所述步骤2中用累积和乘以加权值。4按照权利要求1所述的一种应用于统计过程控制系统中累积和控制图的数据处理方法，其特征在于在所述步骤3中将步骤3中的结果与步骤2中结果相加得到新的累积结果。5按照权利要求1所述的一种应用于统计过程控制系统中累积和控制图的数据处理方法，其特征在于在所述步骤4中如果累积和超过边界值，则进行预警处理；判断是否结束程序，如果此时结束程序，则退出；否则继续新一轮运算。6按照权利要求1所述的一种应用于统计过程控制系统中累积和控制图的数据处理方法，其特征在于在所述步骤5中如果累积和未超过边界值，判断是否结束程序，如果此时结束程序，则退出；否则继续新一轮运。
5、算。7按照权利要求1所述的一种应用于统计过程控制系统中累积和控制图的数据处理方法，其特征在于针对半导体生产线中，用累积和检测算法根据生产结果对生产过程进行预判时，对数据的处理方法。针对半导体生产线特征，设计累积和检测算法如下其中，质量特性X服从正态分布N0,2，依次取大小为N的样本均值为J1，2，I，服从正态分布N0,2/N；要求监控过程的均值的变化，稳定在目标值0附近；用CI表示第I个样本均值对目标值偏差的累积和权利要求书CN104216400A2/2页3M为加权值，其作用为避免由于误操作引起的报警需要长时间运行才会回归正常范围内。权利要求书CN104216400A1/2页4应用于统计过程控。
6、制系统中累积和控制图的数据处理方法技术领域0001本发明公开一种应用于统计过程控制系统中累积和控制图的数据处理方法，提供了针对半导体生产线中，用累积和检测算法根据生产结果对生产过程进行预判时，对数据的处理方法。技术背景0002目前，随着市场竞争的日益激烈，很多企业面临着全球化的产品竞争，而要想加入全球产业链之中，就必须按照国际统一的质量管理标准和方法进行质量管理，而SPC统计过程控制正是众多标准中尤为重要的一项。SPC功能很重要的一点是能够通过使用累积和检测算法根据生产结果对生产过程进行预判，避免产品的生产结果持续偏离目标值过远。本发明就是针对使用累积和检测算法时，所采用的数据处理方法。发明内。
7、容0003为解决现有技术中的不足，本发明的目的是提供一种应用于统计过程控制系统中累积和控制图的数据处理方法。0004本发明的是技术方案是0005一种应用于统计过程控制系统中累积和控制图的数据处理方法，0006包括以下步骤0007步骤1求出当前样本值与标准值的差值；0008步骤2用累积和乘以加权值；0009步骤3将步骤2与步骤3中的结果相加得到新的累积结果；0010步骤4如果累积和超过边界值，则进行预警处理，处理之后判断是否结束程序，如果此时结束程序，则退出；否则继续新一轮运算；0011步骤5如果累积和未超过边界值，判断是否结束程序，如果此时结束程序，则退出；否则继续新一轮运算。0012在所述步。
8、骤1中求出当前样本值与标准值的差值，用以得到样本值是否在边界范围内，是否属于正常结果。0013在所述步骤2中用累积和乘以加权值。0014在所述步骤3中将步骤3中的结果与步骤2中结果相加得到新的累积结果。0015在所述步骤4中如果累积和超过边界值，则进行预警处理；判断是否结束程序，如果此时结束程序，则退出；否则继续新一轮运算。在所述步骤5中如果累积和未超过边界值，判断是否结束程序，如果此时结束程序，则退出；否则继续新一轮运算。0016针对半导体生产线中，用累积和检测算法根据生产结果对生产过程进行预判时，对数据的处理方法。0017针对半导体生产线特征，设计累积和检测算法如下说明书CN1042164。
9、00A2/2页500180019其中，质量特性X服从正态分布N0,2，依次取大小为N的样本均值为J1，2，I，服从正态分布N0,2/N；要求监控过程的均值的变化，稳定在目标值0附近；用CI表示第I个样本均值对目标值偏差的累积和M为加权值，其作用为避免由于误操作引起的报警需要长时间运行才会回归正常范围内。附图说明0020图1是本发明的主要流程图。0021图2是本发明的累积和检测算法流程图。具体实施方式0022如图12所示，在半导体生产线生产过程中，由于人为误操作或者设备故障等问题会对产品质量产生非常大的影响，同时该类生产线中的设备都属于密集型，快速生产设备，所以即使出现问题也很难人为发现，在生产。
10、过程中，通过对样本进行累积和检测，可以得出一个清晰的趋势，来证明生产过程是否存在问题，具体实施如下0023如概要附图所述0024当SPC系统开始运行后，首先从数据库得到生产结果数据，然后用累积和检测算法对该数据进行处理，当该数据处理结果超过边界范围时，发出报警，如果此时结束数据处理，则退出程序，否则继续获取生产结果数据进行算法处理。当数据处理结果未超过边界范围时，如果此时结束数据处理，则退出程序，否则继续获取生产结果数据进行算法处理。0025如累积和检测算法流程图所述0026首先用从数据库中获取的生产结果数据与标准结果值作差，得到表示生产结果是否合格的结果。然后计算本次计算之前的累积和与加权系数的乘积，最后用第一次计算的差值与第二次计算的乘积求和，得到表示累积和趋势的结果值。判断结果是否超过边界值，如果是，则执行报警处理，否则退出。说明书CN104216400A1/2页6图1说明书附图CN104216400A2/2页7图2说明书附图CN104216400A。