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1、10申请公布号CN104064282A43申请公布日20140924CN104064282A21申请号201410188862122申请日20140430H01B13/0020060171申请人天津宝兴威科技有限公司地址301800天津市宝坻经济开发区天祥路33号72发明人潘中海54发明名称一种高透过率硬质纳米金属透明导电膜的制造方法57摘要一种高透过率硬质纳米金属透明导电膜的制造方法，具体技术方案如下（1）将纳米金属制成初始悬浊液；（2）制备添加剂；（3）将添加剂加入纳米金属初始悬浮液中；（4）制备保护层涂布墨水；（5）将配好的纳米金属墨水以涂布、喷涂涂布至基板上，然后烘烤后得到导电薄膜；（。
2、6）将保护层涂布墨水涂布或喷涂涂布至导电薄膜上，然后在烘箱中烘烤；（7）最后将带有导电层的基板经过轧光机，得到雾度较低的导电层。在导电薄膜上再涂覆具有极低的摩擦系数及硬度大的保护层，如使得导电膜有极佳的滑度和抗划伤效果，保护层将凹凸不平表面填平，降低雾度，同时基板、导电层、保护层形成光学折射率梯度，增加了可见光的透过率。51INTCL权利要求书1页说明书3页附图1页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书3页附图1页10申请公布号CN104064282ACN104064282A1/1页21一种高透过率硬质纳米金属透明导电膜的制造方法，其特征在于具体技术方案如下1将纳。
3、米金属制成初始悬浊液；纳米金属可以是纳米金线、铜线或银线或者是三者任意组合，纳米金属线含量011，优选0406，线长应在01100M，优选20UM40M，线径应在10NM100NM，优选1020NM；纳米金属的初始悬浮液的溶剂由水、乙醇、丙酮、乙二醇、丙二醇、丙三醇和异丙醇组成；2制备添加剂，添加剂包括水性粘合剂、表面活性剂；水性粘合剂包括羧甲基纤维素钠、羧丙基甲基纤维素、羧乙基纤维素、聚乙烯醇和羟丙基甲基纤维素；表面活性剂包括十二烷基硫酸钠、聚乙二醇、烷基糖苷、椰油酸二乙醇酰胺和聚乙二醇辛基苯基醚；3将添加剂加入纳米金属初始悬浮液中，配成涂布纳米金属墨水，粘度20CP100CP，其中纳米金属。
4、的含量为00503，水性粘合剂的含量为011，表面活性剂含量00101；4制备保护层涂布墨水，保护层涂布墨水包括硅氧化合物、水性蜡、表面活性剂和溶剂；硅氧化物包括粒径10NM15NM纳米球形二氧化硅、硅酸盐和水性硅油，硅氧化物含量占保护层涂布墨水的011，优选0104；水性蜡包括改性聚乙烯蜡、聚四氟乙烯蜡、改性聚酰胺蜡或者三者的混合物，水性蜡占保护层涂布墨水022，优选021；表面活性剂包括十二烷基硫酸钠、聚乙二醇、烷基糖苷、椰油酸二乙醇酰胺和聚乙二醇辛基苯基醚，表面活性剂占保护层涂布墨水的00101；溶剂是水、乙醇、丙酮、乙二醇、丙二醇、丙三醇、异丙醇；5将配好的纳米金属墨水以旋涂、狭缝式涂。
5、布、微凹板式涂布或喷涂方式涂布至基板上，然后在烘箱中100度预烘烤5分钟20分钟后，再放进烘箱中140度烘烤5分钟20分钟，最后得到导电薄膜；6将保护层涂布墨水以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布、喷涂等方式涂布至导电薄膜上，然后在烘箱中100度预烘烤5分钟20分钟后，再放进烘箱中140度烘烤5分钟20分钟，得到雾度较低透过率高的导电层；7最后将带有导电层的基板经过轧光机，得到雾度较低的导电层。2根据权利要求1所述的一种高透过率硬质纳米金属透明导电膜的制造方法，其特征在于步骤5所述基板是刚性或柔性的，刚性的基板可以是玻璃或加硬的聚碳酸酯；柔性基板可以是聚酯、聚烯烃或聚乙烯。权利要求书CN10406。
6、4282A1/3页3一种高透过率硬质纳米金属透明导电膜的制造方法技术领域0001本发明涉及优化纳米金属导电膜保护层，使用两步涂布法制造高透过率硬质纳米金属导电膜。背景技术0002目前，透明导电薄基板主要有金属氧化物基板、碳纳米管或者石墨烯基板。纳米金属基板、导电聚合物基板，其中铟锡氧化物ITO基板最为广泛应用。透明导电基板的主要性能指标有导电性和可见光透明度，大部分导电基板需要平衡两者之间的性能，往往高导电性基板的透过率较低，高透过率的基板导电性较低，金属氧化物基板、碳纳米管或者石墨烯基板、导电聚合物基板往往不能同时满足这两者的高要求，如ITO导电膜在方阻50/的条件下，其透过率低于80，而后。
7、三者的方阻很少能做到150/。0003将纳米导电金属线与水性粘合剂配制成涂布墨水，经过高精密涂布机将纳米导电金属线涂布于柔性基板上，烘烤后形成纳米级厚的纳米导电金属线薄膜，纳米金属线之间互相搭接，形成导电路径，而空隙处可见光完全透过，形成高透明导电膜。导电金属选择具有最佳的导电率以及柔韧性，所以涂布成的透明导电薄膜具有很低的方阻和耐弯折性，同时兼有极高的透过率，如当方阻为50/时，其可见光透过率为90。0004将纳米导电金属线与水性粘合剂配制成涂布导电墨水，涂布于透明基板，烘烤后将溶剂蒸发，留下粘合剂将纳米金属线嵌入其中，形成导电薄膜，由于目前所使用的粘合剂形成薄膜后，表面硬度低，而透明导电薄。
8、膜的膜表面硬度会影响其应用于产品的良率，比如应用于制造触摸屏，不良率重要因素之一就是制造过程中膜硬度不足造成的划伤或凹陷；另外薄膜的环境耐受性也比较差，易受潮气及氧化性气体的浸润，产生霉斑及纳米金属被氧化，无法应用于电子产品的制造；还有一个缺陷是由于水性粘合剂烘烤后不是完全平整的，具有高低起伏的平面，所以光入射自后，产生较大的雾度。发明内容0005本发明可以解决以上问题，在导电薄膜上再涂覆具有极低的摩擦系数及硬度大的保护层，现有保护层不完全覆盖在导电层表面，使得导电膜有极佳的滑度和抗划伤效果，保护层将凹凸不平表面填平，降低雾度，同时基板、导电层、保护层形成光学折射率梯度，增加了可见光的透过率。。
9、一种高透过率硬质纳米金属透明导电膜的制造方法，具体技术方案如下00061将纳米金属制成初始悬浊液；纳米金属可以是纳米金线、铜线或银线或者是三者任意组合，纳米金属线含量011，优选0406，线长应在01100M，优选20UM40M，线径应在10NM100NM，优选1020NM；纳米金属的初始悬浮液的溶剂由水、乙醇、丙酮、乙二醇、丙二醇、丙三醇和异丙醇组成；00072制备添加剂，添加剂包括水性粘合剂、表面活性剂；水性粘合剂包括羧甲基纤维素钠、羧丙基甲基纤维素、羧乙基纤维素、聚乙烯醇和羟丙基甲基纤维素；表面活性剂包说明书CN104064282A2/3页4括十二烷基硫酸钠、聚乙二醇、烷基糖苷、椰油酸二。
10、乙醇酰胺和聚乙二醇辛基苯基醚；00083将添加剂加入纳米金属初始悬浮液中，配成涂布纳米金属墨水，粘度20CP100CP，其中纳米金属的含量为00503，水性粘合剂的含量为011，表面活性剂含量00101；00094制备保护层涂布墨水，保护层涂布墨水包括硅氧化合物、水性蜡、表面活性剂和溶剂，硅氧化物包括粒径10NM15NM纳米球形二氧化硅、硅酸盐和水性硅油，硅氧化物含量占保护层涂布墨水的011，优选0104；水性蜡包括改性聚乙烯蜡、聚四氟乙烯蜡、改性聚酰胺蜡或者三者的混合物，水性蜡占保护层涂布墨水022，优选021；表面活性剂包括十二烷基硫酸钠、聚乙二醇、烷基糖苷、椰油酸二乙醇酰胺和聚乙二醇辛基。
11、苯基醚，表面活性剂占保护层涂布墨水的00101；溶剂是水、乙醇、丙酮、乙二醇、丙二醇、丙三醇和异丙醇；00105将配好的纳米金属墨水以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布或喷涂方式涂布至基板上，然后在烘箱中100度预烘烤5分钟20分钟后，再放进烘箱中140度烘烤5分钟20分钟，最后得到导电薄膜；00116将保护层涂布墨水以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布或喷涂方式涂布至导电薄膜上，然后在烘箱中100度预烘烤5分钟20分钟后，再放进烘箱中140度烘烤5分钟20分钟；00127最后将带有导电层的基板经过轧光机，得到雾度较低的导电层。0013步骤5所述基板是刚性或柔性的，刚性的基板可以是玻璃或加硬的聚碳酸酯。
12、；柔性基板可以是聚酯、聚烯烃或聚乙烯。0014本发明的有益效果是在导电薄膜上再涂覆具有极低的摩擦系数及硬度大的保护层，如使得导电膜有极佳的滑度和抗划伤效果，保护层将凹凸不平表面填平，降低雾度，同时基板、导电层、保护层形成光学折射率梯度，增加了可见光的透过率。0015附图说明0016图1本发明的结构示意图；00171基板；2导电薄膜；3导电层。具体实施例0018实施例一说明书CN104064282A3/3页50019柔性基板选择聚对苯二甲酸乙二醇酯POLYETHYLENETEREPHTHALATE，PET0020导电层涂布液的配方是纳米金属线选择纳米银线，平均线长应在20M，平均线径应在35NM。
13、，纳米银线含量01，聚乙烯醇含量034，聚乙二醇辛基苯基醚含量001。具体配制方法是取250G的02纳米银线初始悬浮液，此悬浮液的溶剂是纯水，边搅拌边向其中加入24995G的08的聚乙烯醇水溶液，最后加入005G的聚乙二醇辛基苯基醚充分搅拌后配制完成。0021保护层涂布液的配方是纳米球形二氧化硅的含量是01，粒径10NM，改性聚乙烯蜡含量02，聚乙二醇辛基苯基醚含量001。将100G二氧化硅含量为02的纳米二氧化硅水溶胶缓慢加入到9998G的10氧化聚乙烯蜡水溶胶中，然后加入002G的聚乙二醇辛基苯基醚充分搅拌后配制完成。0022将配好的涂布墨水以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布、喷涂等方式涂布。
14、至基板上，然后在烘箱中80度预烘烤5分钟20分钟后，在放进烘箱中100度烘烤5分钟20分钟，最后得到导电薄膜。0023将保护层涂布墨水以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布、喷涂等方式涂布至导电薄膜上，然后在烘箱中100度预烘烤5分钟20分钟后，在放进烘箱中140度烘烤5分钟20分钟，此时得到高硬度、致密性好的导电层，最后将带有导电层的基板经过轧光机，得到雾度较低透过率高的导电层。0024实施例二0025柔性基板选择聚对苯二甲酸乙二醇酯POLYETHYLENETEREPHTHALATE，PET0026涂布液的配方是纳米金属线选择纳米银线，平均线长应在20M，平均线径应在35NM，纳米银线含量01，聚。
15、乙烯醇含量034，聚乙二醇辛基苯基醚含量001。具体配制方法是取250G的02纳米银线初始悬浮液，此悬浮液的溶剂是纯水，边搅拌边向其中加入24995G的08的聚乙烯醇水溶液，最后加入005G的聚乙二醇辛基苯基醚充分搅拌后配制完成。0027涂布液的配方是纳米球形二氧化硅的含量是01，粒径10NM，改性聚乙烯蜡含量01，聚四氟乙烯蜡含量01，聚乙二醇辛基苯基醚含量001。将100G二氧化硅含量为02的纳米二氧化硅水溶胶缓慢加入到9998G的02氧化聚乙烯蜡和02聚四氟乙烯蜡混合水溶胶中，然后加入002G的聚乙二醇辛基苯基醚充分搅拌后配制完成。0028将配好的涂布墨水以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布。
16、、喷涂等方式涂布至基板上，然后在烘箱中80度预烘烤5分钟20分钟后，在放进烘箱中100度烘烤5分钟20分钟，最后得到导电薄膜。0029将保护层涂布墨水以旋涂、狭缝式涂布、微凹板式涂布、喷涂等方式涂布至导电薄膜上，然后在烘箱中100度预烘烤5分钟20分钟后，在放进烘箱中140度烘烤5分钟20分钟，此时得到高硬度、致密性好的导电层，最后将带有导电层的基板经过轧光机，得到雾度较低透过率高的导电层。0030以上所述，仅为本发明的具体实施方式和优选实施例，熟悉本领域的技术人员在本发明揭露的范围内，可轻易想到的变化，都应涵盖在发明的保护范围之内。说明书CN104064282A1/1页6图1说明书附图CN104064282A。