一种高陶瓷收率聚碳硼烷的制备方法.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201510046865.6

申请日:

2015.01.29

公开号:

CN104592520A

公开日:

2015.05.06

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法律详情:

授权|||实质审查的生效IPC(主分类):C08G 79/08申请日:20150129|||公开

IPC分类号:

C08G79/08

主分类号:

C08G79/08

申请人:

中国人民解放军国防科学技术大学

发明人:

简科; 王浩; 王军; 邵长伟; 任武荣; 黄坚; 陈舟

地址:

410073湖南省长沙市开福区德雅路109号

优先权:

专利代理机构:

北京中济纬天专利代理有限公司11429

代理人:

胡佳

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内容摘要

一种高陶瓷收率聚碳硼烷的制备方法,在反应器中加入摩尔比为1:0.5~2的对二溴苯(间二溴苯)和卡硼烷有机锂化合物,将反应器反复抽真空、充干燥氮气至少三次,并预冷至-50~-10℃;将三氯化硼或三氟化硼溶解至正己烷中,浓度控制为1~10mol/L;将三氯化硼或三氟化硼溶液加入反应器中,以1~2℃/min的升温速率升温至0℃,在N2气氛保护下,持续搅拌反应;将体系以0.1~30℃/min的升温速率升温至150~200℃,经减压蒸馏去除体系中溶剂成分;冷却至室温。本发明方法制得的碳化硼先驱体具有较高的陶瓷收率,适合用于制备核聚变用碳化硼靶丸,也适合用于制备高性能碳化硼基复合材料。

权利要求书

1.  一种高陶瓷收率聚碳硼烷的制备方法,其特征在于,包括以下步 骤:
(1)在带搅拌、蒸馏装置的反应器中,加入对二溴苯或间二溴苯, 卡硼烷有机锂化合物,两者摩尔比为1:0.5~2,将反应器反复抽真空、 充干燥氮气至少三次,以排除其中的空气和水分,并将反应器预冷至-50~ -10℃;
(2)将三氯化硼或三氟化硼溶解至正己烷中,浓度控制为1~10mol/L;
(3)将步骤(2)制得的三氯化硼或三氟化硼溶液加入反应器中,以1~ 2℃/min的升温速率升温至0℃,在N2气氛保护下,持续搅拌反应,搅拌速率 为60~240r/min,反应12~72h;
(4)将体系以0.1~30℃/min的升温速率升温至150~200℃,经减压 蒸馏去除体系中溶剂成分;冷却至室温,得到碳化硼先驱体。

2.
  根据权利要求1所述的高陶瓷收率聚碳硼烷的制备方法,其特征 在于:步骤(1)中,反应器预冷至-15~-25℃。

3.
  根据权利要求1所述的高陶瓷收率聚碳硼烷的制备方法,其特征 在于:步骤(1)中,所述氮气纯度为99.999%。

4.
  根据权利要求1所述的高陶瓷收率聚碳硼烷的制备方法,其特征 在于:步骤(2)和步骤(3)中,选用三氯化硼的浓度控制为3~5mol/L。

5.
  根据权利要求1所述的高陶瓷收率聚碳硼烷的制备方法,其特征 在于:步骤(3)中,反应时间为20~28h。

6.
  根据权利要求1所述的高陶瓷收率聚碳硼烷的制备方法,其特征 在于:步骤(4)中,升温速率为2~10℃/min,最终温度为160~170℃。

说明书

一种高陶瓷收率聚碳硼烷的制备方法
技术领域
本发明涉及一种高陶瓷收率聚碳硼烷的制备方法。
背景技术
激光驱动惯性约束聚变主要是利用高能激光驱动器在极短时间内将 聚变燃料空心微球(靶丸)加热、压缩到高温、高密度,使之在中心“点 火”,点燃实现后继核反应实现受控核聚变,从而获得干净聚变能源。作 为氘-氚燃料和诊断气体容器,靶丸的设计与制备技术一直是激光惯性约 束聚变研究中的核心技术。
按材料分,目前主要的靶丸体系主要包括空心玻璃微球、空心塑料微 球、空心Be-Cu微球等。而通过多种计算软件,如ILESTA(日本大阪大 学)、LILAC、ORCHID(美国罗切斯特大学)、LASNEX-1D、LASNEX-2D、 HYDRA(美国劳伦斯里弗莫尔国家实验室)、FCI1、FASTA-2D、2D-FCI2(法 国)等,还模拟计算筛选出碳化硼等极具应用前景的靶丸材料体系。
碳化硼以其卓越的物理性质在机械、电子、核技术等领域有着广泛的 应用前景。它是自然界最硬的材料之一,硬度仅次于金刚石和立方BN。 随着温度的升高,金刚石和立方BN的硬度会逐渐降低,而碳化硼在高温 下却表现出较高的热稳定性,温度≥1100℃时它是最硬的材料。除此之外, 碳化硼还具有高熔点、低密度、高弹性模量、化学性质稳定、优异的热电 性能、良好的力学稳定性、很低的热膨胀系数等一系列优异性能,在核领 域具有广泛的应用前景。一维和二维的LASNEX模拟计算表明,在一定条 件下,以纯碳化硼球壳为燃料容器的低温靶十分有利于内爆点火实验。其 主要优势包括:1)由于纯碳化硼微球具有很好的高温性能和耐压强度, 按照对微球抗张强度的估算,直径1mm,壁厚0.15mm的碳化硼微球可以 负载的气压达到GPa数量级,可实现微球的高温、高压充气。2)碳化硼 具备很好的化学稳定性、热稳定性和传热性能(25℃下理论导热系数达到 35W/m·K,远高于玻璃和塑料),使其可以实现热扩散充气和存放,并有 利于冷冻层的红外均化。3)与玻璃相比,其组分更为单一,不含碱金属 成分,可消除因化学不稳定性造成的表面光洁度下降、潮解等问题。4) 碳化硼不仅能屏蔽超热电子对燃料的预热,而且可以在不掺杂的情况下获 得有利于内爆稳定的烧蚀前沿密度面。
从以上分析可知,碳化硼作为靶丸材料有利于内爆点火实验,应用前 景广阔。目前碳化硼作为靶丸材料使用还停留在理论模拟阶段,主要问题 在于缺乏合适的碳化硼空心微球的制备工艺,其中一个最基本的问题是缺 乏高陶瓷收率的碳化硼先驱体。因此,制备一种溶解性良好,陶瓷产率较 高的碳化硼陶瓷先驱体就显得尤为重要。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是,提供一种高陶瓷收率碳化硼先驱体的 制备方法。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案包括以下步骤:
(1)在带搅拌、蒸馏装置的反应器中,加入对二溴苯或间二溴苯, 卡硼烷有机锂化合物,两者摩尔比为1:0.5~2,将反应器反复抽真空、 充干燥氮气至少三次,以排除其中的空气和水分,并将反应器预冷至-50~ -10℃;
(2)将三氯化硼或三氟化硼溶解至正己烷中,浓度控制为1~10mol/L;
(3)将步骤(2)得到的三氯化硼或三氟化硼溶液加入反应器中,以1~ 2℃/min的升温速率升温至0℃,在N2气氛保护下,持续搅拌反应,搅拌速率 为60~240r/min,反应12~72h;
(4)将体系以0.1~30℃/min的升温速率升温至150~200℃,经减压 蒸馏去除体系中溶剂成分;冷却至室温,即成。
进一步,步骤(1)中,优选对二溴苯,反应器预冷至-15~-25℃, 所述氮气纯度为99.999%。
进一步,步骤(2)中,优选三氯化硼,浓度控制为3~5mol/L。
进一步,步骤(3)中,反应时间优选20~28h。
进一步,步骤(4)中,升温速率优选2~10℃/min,最终温度优选 160~170℃。
利用本发明制成的碳化硼先驱体主要由B、C、O、H等元素组成,根 据需要,可以制成液态、粘稠态、固态等交联度不同的先驱体,交联后具 有较高的陶瓷收率,1000℃,惰性气氛中烧成1小时后质量保留率达到 75%,适合用于制备核聚变用碳化硼靶丸,也适合用于制备各类高性能碳 化硼基复合材料。
附图说明
图1为本发明实施例1所得碳化硼先驱体的红外光谱图;
图2为本发明实施例1所得碳化硼先驱体的热重曲线;
图3为本发明实施例1所得碳化硼先驱体烧成产物的XRD谱图。
具体实施方式
以下结合实施例对本发明作进一步说明。
实施例1
本实施例包括以下步骤:
(1)在带搅拌、蒸馏装置的250ml三口烧瓶中,加入对二溴苯和卡 硼烷有机锂化合物,两者摩尔比为1:1;然后对三口烧瓶进行抽真空、充 高纯氮气至压力表归零,反复三次,以排除其中的空气和水分,再将反应 器预冷至-20℃;
(2)将三氯化硼溶解至正己烷中,浓度控制为4mol/L;
(3)在步骤(1)所述三口烧瓶中,加入步骤(2)所述三氯化硼溶液; 在N2气氛保护下,以1.5℃/min的升温速率升温至0℃,在N2气氛保护下,持 续搅拌反应,搅拌速率为150r/min,反应24h;
(4)在N2气氛保护下,将体系以6℃/min的升温速率将温度升至165℃, 减压蒸馏除去体系中溶剂成分;冷却至室温,即得到目标产物。
图1为产物的红外谱图,分析可知,所得目标产物中含有B-C、B-O 化学键。图2为产物体的热重曲线,从图中可知产物交联后具有较高的陶 瓷收率,1000℃,惰性气氛中烧成1小时后质量保留率达到75%。在氮气 氛围下,将所得目标产物置于管式炉中烧至1000℃,得到黑色固体产物, 对所得黑色固体产物进行XRD分析,结果如图3所示,在20°和35°附 近存在碳化硼的典型衍射峰,说明产物中存在硼碳键,即所得目标产物为 碳化硼先驱体。
实施例2
本实施例包括以下步骤:
(1)在带搅拌、蒸馏装置的250ml三口烧瓶中,加入对二溴苯和卡 硼烷有机锂化合物,两者摩尔比为1:0.5;然后对三口烧瓶进行抽真空、 充高纯氮气至压力表归零,反复三次,以排除其中的空气和水分,再将反 应器预冷至-15℃;
(2)将三氯化硼溶解至正己烷中,浓度控制为3mol/L;
(3)在步骤(1)所述三口烧瓶中,加入步骤(2)所述三氯化硼溶液; 在N2气氛保护下,以1℃/min的升温速率升温至0℃,在N2气氛保护下,持续 搅拌反应,搅拌速率为60r/min,反应20h;
(4)在N2气氛保护下,将体系以2℃/min的升温速率将温度升至160℃, 减压蒸馏除去体系中溶剂成分;冷却至室温,即得到目标产物。
分析目标产物中含有B-C、B-O化学键,产物1000℃,惰性气氛中烧 成1小时后质量保留率达到72%。在氮气氛围下,将所得目标产物置于管 式炉中烧至1000℃,得到黑色固体产物,产物中存在硼碳键,确认目标 产物为碳化硼先驱体。
实施例3
本实施例包括以下步骤:
(1)在带搅拌、蒸馏装置的250ml三口烧瓶中,加入对二溴苯和卡 硼烷有机锂化合物,两者摩尔比为1:2;然后对三口烧瓶进行抽真空、充 高纯氮气至压力表归零,反复三次,以排除其中的空气和水分,再将反应 器预冷至-25℃;
(2)将三氯化硼溶解至正己烷中,浓度控制为5mol/L;
(3)在步骤(1)所述三口烧瓶中,加入步骤(2)所述三氯化硼溶液; 在N2气氛保护下,以2℃/min的升温速率升温至0℃,在N2气氛保护下,持续 搅拌反应,搅拌速率为240r/min,反应28h;
(4)在N2气氛保护下,将体系以10℃/min的升温速率将温度升至170℃, 减压蒸馏除去体系中溶剂成分;冷却至室温,即得到目标产物。
分析目标产物中含有B-C、B-O化学键,产物1000℃,惰性气氛中烧 成1小时后质量保留率达到74%。在氮气氛围下,将所得目标产物置于管 式炉中烧至1000℃,得到黑色固体产物,产物中存在硼碳键,确认目标 产物为碳化硼先驱体。
实施例4
本实施例包括以下步骤:
(1)在带搅拌、蒸馏装置的250ml三口烧瓶中,加入间二溴苯和卡 硼烷有机锂化合物,两者摩尔比为1:1;然后对三口烧瓶进行抽真空、充 高纯氮气至压力表归零,反复三次,以排除其中的空气和水分,再将反应 器预冷至-20℃;
(2)将三氯化硼溶解至正己烷中,浓度控制为4mol/L;
(3)在步骤(1)所述三口烧瓶中,加入步骤(2)所述三氯化硼溶液; 在N2气氛保护下,以1.5℃/min的升温速率升温至0℃,在N2气氛保护下,持 续搅拌反应,搅拌速率为150r/min,反应24h;
(4)在N2气氛保护下,将体系以6℃/min的升温速率将温度升至165℃, 减压蒸馏除去体系中溶剂成分;冷却至室温,即得到目标产物。
分析目标产物中含有B-C、B-O化学键,产物1000℃,惰性气氛中烧 成1小时后质量保留率达到72%。在氮气氛围下,将所得目标产物置于管 式炉中烧至1000℃,得到黑色固体产物,产物中存在硼碳键,确认目标 产物为碳化硼先驱体。
实施例5
本实施例包括以下步骤:
(1)在带搅拌、蒸馏装置的250ml三口烧瓶中,加入间二溴苯和卡 硼烷有机锂化合物,两者摩尔比为1:1;然后对三口烧瓶进行抽真空、充 高纯氮气至压力表归零,反复三次,以排除其中的空气和水分,再将反应 器预冷至-20℃;
(2)将三氟化硼溶解至正己烷中,浓度控制为4mol/L;
(3)在步骤(1)所述三口烧瓶中,加入步骤(2)所述三氟化硼溶液; 在N2气氛保护下,以1.5℃/min的升温速率升温至0℃,在N2气氛保护下,持 续搅拌反应,搅拌速率为150r/min,反应24h;
(4)在N2气氛保护下,将体系以6℃/min的升温速率将温度升至165℃, 减压蒸馏除去体系中溶剂成分;冷却至室温,即得到目标产物。
分析目标产物中含有B-C、B-O化学键,产物1000℃,惰性气氛中烧 成1小时后质量保留率达到70%。在氮气氛围下,将所得目标产物置于管 式炉中烧至1000℃,得到黑色固体产物,产物中存在硼碳键,确认目标 产物为碳化硼先驱体。

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一种高陶瓷收率聚碳硼烷的制备方法,在反应器中加入摩尔比为1:0.52的对二溴苯(间二溴苯)和卡硼烷有机锂化合物,将反应器反复抽真空、充干燥氮气至少三次,并预冷至-50-10;将三氯化硼或三氟化硼溶解至正己烷中,浓度控制为110mol/L;将三氯化硼或三氟化硼溶液加入反应器中,以12/min的升温速率升温至0,在N2气氛保护下,持续搅拌反应;将体系以0.130/min的升温速率升温至150200,经。

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