具有防止研磨面脱落的沟槽结构的研磨垫.pdf

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摘要
申请专利号:

CN200810126866.1

申请日:

2008.07.10

公开号:

CN101623854A

公开日:

2010.01.13

当前法律状态:

驳回

有效性:

无权

法律详情:

发明专利申请公布后的驳回IPC(主分类):B24D 13/14申请公布日:20100113|||实质审查的生效|||公开

IPC分类号:

B24D13/14; H01L21/304

主分类号:

B24D13/14

申请人:

贝达先进材料股份有限公司

发明人:

冯崇智; 刘玮得; 洪永璋; 王俊达; 姚伊蓬

地址:

中国台湾桃园县

优先权:

专利代理机构:

北京律盟知识产权代理有限责任公司

代理人:

王 东

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内容摘要

本发明涉及一种具有防止研磨面脱落的沟槽结构的研磨垫,其包括:基材和研磨层。所述基材具有表面。所述研磨层设置于所述表面上且显露所述基材周缘的部分所述表面,所述研磨层具有多个第一沟槽和多个第二沟槽,所述第一沟槽与所述第二沟槽相交,以界定多个研磨区域。显露的所述基材周缘的部分所述表面位于所述第一沟槽和所述第二沟槽与所述研磨垫周缘之间。借此,本发明的所述研磨垫可蕴含较多的研磨液且利于研磨残屑的排除,并且,所述研磨层不具有尖角的结构且不易脱落而成为残屑,因此可增加研磨质量和研磨效果。

权利要求书

1: 一种具有防止研磨面脱落的沟槽结构的研磨垫,其包括: 基材,其具有表面;以及 研磨层,其设置于所述表面上且显露所述基材周缘的部分所述表面,所述研磨层 具有多个第一沟槽和多个第二沟槽,所述第一沟槽与所述第二沟槽相交,以界定多 个研磨区域,显露的所述基材周缘的部分所述表面位于所述第一沟槽和所述第二沟 槽与所述研磨垫周缘之间。
2: 根据权利要求1所述的研磨垫,其中所述第一沟槽垂直于所述第二沟槽。
3: 根据权利要求2所述的研磨垫,其中每一第一沟槽具有第一沟宽且所述第一沟槽间 的所述研磨区域具有第一距离,所述第一距离与所述第一沟宽的比值为1到50; 每一第二沟槽具有第二沟宽且所述第二沟槽间的所述研磨区域具有第二距离,所述 第二距离与所述第二沟宽的比值为1到50。
4: 根据权利要求3所述的研磨垫,其中每一第一沟槽另外具有第一沟深,所述第一沟 宽与所述第一沟深的比值为0.5到1.5;每一第二沟槽另外具有第二沟深,所述第 二沟宽与所述第二沟深的比值为0.5到1.5。
5: 根据权利要求1所述的研磨垫,其中所述第一沟槽由所述研磨垫的中心点延伸到所 述研磨垫的周缘,所述第二沟槽连接相邻的第一沟槽。
6: 根据权利要求5所述的研磨垫,其中所述第一沟槽是线形槽。
7: 根据权利要求5所述的研磨垫,其中所述第一沟槽是弧形槽。
8: 根据权利要求5所述的研磨垫,其中每一第一沟槽具有第一沟宽和第一沟深,所述 第一沟宽与所述第一沟深的比值为0.5到1.5;每一第二沟槽具有第二沟宽且所述 第二沟槽间具有第二距离,所述第二距离与所述第二沟宽的比值为1到50。
9: 根据权利要求8所述的研磨垫,其中每一第二沟槽另外具有第二沟深,所述第二沟 宽与所述第二沟深的比值为0.5到1.5。

说明书


具有防止研磨面脱落的沟槽结构的研磨垫

    【技术领域】

    本发明涉及一种研磨垫,明确地说涉及一种具有防止研磨面脱落的沟槽结构的研磨垫。

    背景技术

    图1显示具有XY方向沟槽的常规研磨垫,所述常规研磨垫1具有多个沟槽11,其中,所述沟槽11互相垂直。其它常规研磨垫也具有不同形状沟槽的设计,但其设计多为XY方向沟槽或其变型,且设计时均以特定规格制成所述沟槽的样式。

    所述常规研磨垫1裁切的大小和所述沟槽11样式会因几何设计的关系,而在所述常规研磨垫1最外围的边界处产生面积较小的研磨区域12。其中,面积较小的所述研磨区域12多为有尖角的结构,因此易刮伤被研磨物。另外,在进行研磨工艺时,所述常规研磨垫1会受到下压力量,以紧贴所述被研磨物,同时所述常规研磨垫1进行水平方向运动,以往复研磨所述被研磨物。然而,所述常规研磨垫1的最外围部分的研磨区域12的面积较小且具有尖角结构,因此在进行研磨工艺时,不仅需承受的离心力最大,且在所述常规研磨垫1进行水平方向运动时,与所述被研磨物摩擦接触而受到较大的剪应力,容易脱离基材而成为残屑,因此会降低研磨质量和研磨效果。

    因此,有必要提供一种创新且具进步性的具有防止研磨面脱落的沟槽结构的研磨垫,以解决上述问题。

    【发明内容】

    本发明提供一种具有防止研磨面脱落的沟槽结构的研磨垫,其包括:基材和研磨层。所述基材具有表面。所述研磨层设置于所述表面上且显露所述基材周缘的部分所述表面,所述研磨层具有多个第一沟槽和多个第二沟槽,所述第一沟槽与所述第二沟槽相交,以界定多个研磨区域,显露的所述基材周缘的部分所述表面位于所述第一沟槽和所述第二沟槽与所述研磨垫周缘之间。

    本发明的所述研磨垫的最外围部分,不具有过小面积的研磨区域,因此在进行研磨工艺时,所述研磨垫的所述研磨层不会脱离所述基材而成为残屑。另外,所述研磨层也不具有尖角的结构,因此不会刮伤被研磨物,因此具有较好的研磨质量和研磨效果。再者,显露的所述基材周缘的部分所述表面与所述第一沟槽和所述第二沟槽与所述研磨垫周缘之间,进一步可蕴含较多的研磨液且利于研磨残屑的排除,因此可增加研磨效果。

    【附图说明】

    图1显示具有XY方向沟槽的常规研磨垫;

    图2A显示本发明第一实施例的具有防止研磨面脱落的沟槽结构的研磨垫示意图;

    图2B显示本发明第一实施例的具有防止研磨面脱落的沟槽结构的研磨垫的局部立体示意图;

    图3显示本发明第二实施例的具有防止研磨面脱落的沟槽结构的研磨垫示意图;以及

    图4显示本发明第二实施例的具有防止研磨面脱落的沟槽结构的研磨垫的另一方面示意图。

    【具体实施方式】

    图2A显示本发明第一实施例的具有防止研磨面脱落的沟槽结构的研磨垫示意图;图2B显示本发明第一实施例的具有防止研磨面脱落的沟槽结构的研磨垫的局部立体示意图。配合参考图2A和图2B,所述研磨垫2包括:基材21和研磨层22。所述基材21具有表面211。所述研磨层22设置于所述表面211上且显露所述基材21周缘的部分所述表面211。所述研磨层22具有多个第一沟槽221和多个第二沟槽222,所述第一沟槽221与所述第二沟槽222相交,以界定多个研磨区域223。显露地所述基材21周缘的部分所述表面211位于所述第一沟槽221和所述第二沟槽222与所述研磨垫2周缘之间。

    在本实施例中,所述第一沟槽221垂直于所述第二沟槽222。其中每一第一沟槽221具有第一沟宽且所述第一沟槽221间的所述研磨区域223具有第一距离,所述第一距离与所述第一沟宽的比值为1到50;每一第二沟槽222具有第二沟宽且所述第二沟槽222间的所述研磨区域223具有第二距离,所述第二距离与所述第二沟宽的比值为1到50。另外,每一第一沟槽221另外具有第一沟深,所述第一沟宽与所述第一沟深的比值为0.5到1.5;每一第二沟槽222另外具有第二沟深,所述第二沟宽与所述第二沟深的比值为0.5到1.5。

    参考图3,其显示本发明第二实施例的具有防止研磨面脱落的沟槽结构的研磨垫。所述研磨垫3包括:基材31和研磨层32。与上述图2的所述第一实施例的研磨垫2不同之处在于,在所述第二实施例中,所述研磨垫3的多个第一沟槽321由所述研磨垫3的中心点延伸到所述研磨垫3的周缘,所述研磨垫3的多个第二沟槽322连接相邻的第一沟槽321。

    在所述第二实施例中,所述第一沟槽321和所述第二沟槽322是线形槽。应注意的是,所述第一沟槽321也可为弧形槽,所述第二沟槽322为线形槽(如图4所示),但所述第一沟槽321和所述第二沟槽322并不限定为上述形状。

    本发明的研磨垫的最外围部分,不具有过小面积的研磨区域,因此,在进行研磨工艺时受到下压力量,以紧贴被研磨物,同时所述研磨垫进行水平方向运动,以往复研磨所述被研磨物时,虽然与所述被研磨物摩擦接触而受到较大的剪应力,但所述研磨垫的所述研磨层不会脱离所述基材而成为残屑。另外,所述研磨层也不具有尖角的结构,因此不会刮伤被研磨物,因此具有较好的研磨质量和研磨效果。再者,显露的所述基材周缘的部分所述表面与所述第一沟槽和所述第二沟槽与所述研磨垫周缘之间,进一步可蕴含较多的研磨液且利于研磨残屑的排除,因此可增加研磨效果。

    然而,上述实施例仅为说明本发明的原理及其功效,而非用以限制本发明。因此,所属领域的技术人员可在不脱离本发明的精神的情况下对上述实施例进行修改和变化。本发明的权利范围应如所附权利要求书所列。

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本发明涉及一种具有防止研磨面脱落的沟槽结构的研磨垫,其包括:基材和研磨层。所述基材具有表面。所述研磨层设置于所述表面上且显露所述基材周缘的部分所述表面,所述研磨层具有多个第一沟槽和多个第二沟槽,所述第一沟槽与所述第二沟槽相交,以界定多个研磨区域。显露的所述基材周缘的部分所述表面位于所述第一沟槽和所述第二沟槽与所述研磨垫周缘之间。借此,本发明的所述研磨垫可蕴含较多的研磨液且利于研磨残屑的排除,并且,。

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