周表面抛光刷和生产磁性记录介质用玻璃基板的方法.pdf

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1、(10)申请公布号 CN 102794685 A (43)申请公布日 2012.11.28 C N 1 0 2 7 9 4 6 8 5 A *CN102794685A* (21)申请号 201210166594.4 (22)申请日 2012.05.25 2011-119586 2011.05.27 JP B24B 9/10(2006.01) (71)申请人旭硝子株式会社 地址日本东京 (72)发明人鹿岛出 吉宗大介 (74)专利代理机构中原信达知识产权代理有限 责任公司 11219 代理人黄刚 车文 (54) 发明名称 周表面抛光刷和生产磁性记录介质用玻璃基 板的方法 (57) 摘要 本发明涉。

2、及周表面抛光刷和生产磁性记录介 质用玻璃基板的方法，抛光刷用于抛光在其中心 处具有圆形孔的磁性记录介质用玻璃基板的内周 表面，其中周表面抛光刷包括具有植入其上的刷 丝的轴，并且当对轴施加19.6N的载荷时，轴具有 420m或更小的最大弯曲值。 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 权利要求书1页 说明书9页 附图2页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书 1 页 说明书 9 页 附图 2 页 1/1页 2 1.一种周表面抛光刷，用于对磁性记录介质用玻璃基板的内周表面进行抛光，在所述 玻璃基板的中心处具有圆形孔， 其中所述周表面抛光刷包括轴，在所述轴上植入。

3、有刷丝，并且当对所述轴施加19.6N 的载荷时，所述轴具有420m或更小的最大弯曲值。 2.根据权利要求1所述的周表面抛光刷，其中所述轴具有150GPa或更大的杨氏模量。 3.根据权利要求1或2所述的周表面抛光刷，其中，在所述轴中，被植入有所述刷丝的 植丝部分包括： 植丝区域；以及 非植丝区域， 其中所述轴的所述植丝区域的轴向长度与如下和的比率是25%至95%，所述和是所述 轴的所述植丝区域的轴向长度和所述非植丝区域的轴向长度的和。 4.一种生产磁性记录介质用玻璃基板的方法，所述方法包括： 成形步骤，形成盘形玻璃基板，所述盘形玻璃基板具有内周侧表面、外周侧表面和主表 面，并且在所述玻璃基板的中。

4、心处具有圆形孔； 内周倒角步骤，在所述玻璃基板的所述内周侧表面和所述主表面的相交部分处形成内 周倒角部分； 内周表面抛光步骤，对所述内周侧表面和所述内周倒角部分进行抛光；以及 主表面抛光步骤，对所述玻璃基板的所述主表面进行抛光， 其中所述内周表面抛光包括： 堆叠多个所述玻璃基板并将包含研磨料的抛光浆料供应到堆叠的玻璃基板的所述内 周侧表面和所述内周倒角部分的步骤；以及 在使周表面抛光刷旋转的同时使所述周表面抛光刷与所述内周侧表面及所述内周倒 角部分接触的步骤，其中所述周表面抛光刷具有轴和植入在所述轴上的刷丝，并且当对所 述轴施加19.6N的载荷时，所述轴具有420m或更小的最大弯曲值。 5.根。

5、据权利要求4所述的生产磁性记录介质用玻璃基板的方法，其中所述轴的直径是 所述圆形孔的直径的30%至60%。 6.根据权利要求4或5所述的生产磁性记录介质用玻璃基板的方法，其中所述轴具有 150GPa或更大的杨氏模量。 权 利 要 求 书CN 102794685 A 1/9页 3 周表面抛光刷和生产磁性记录介质用玻璃基板的方法 技术领域 0001 本发明涉及周表面抛光刷和使用周表面抛光刷生产磁性记录介质用玻璃基板的 方法。 背景技术 0002 随着近年来磁盘的高记录密度的增加，磁性记录介质用玻璃基板所需的特性变得 越来越严格。具体地，当其中心处具有圆形孔的用于磁性记录介质的盘形玻璃基板的边缘 表。

6、面被抛光时，玻璃基板的边缘表面的形状和尺寸的质量所需的精度增加。 0003 磁性记录介质用玻璃基板在生产所述玻璃基板的过程中经受周表面抛光，以便去 除玻璃基板的侧表面或倒角部分上的刮痕和粗糙部并从而将表面精加工成平坦的镜面。通 过将玻璃基板的侧表面或倒角部分精加工成平坦的镜面，玻璃基板的机械性能得到提高。 此外，侧表面或边缘表面上的粗糙部上存在的异物被减少且由侧表面或边缘表面的粗糙部 产生的树脂材料盒的磨损引起的颗粒被减少。 0004 在玻璃基板的内周表面抛光中，例如，玻璃基板被堆叠的玻璃基板堆被安装在周 表面抛光机器上，且抛光刷被插入玻璃基板堆中以抛光。然而，当抛光刷被推入玻璃基板堆 的内周。

7、表面中时，存在抛光刷的轴由于玻璃基板堆的排斥力而弯曲的问题。 0005 因此，专利文献1公开了通过在对抛光刷施加向下载荷的状态下抛光玻璃基板堆 来抑制抛光刷的弯曲。 0006 专利文献1JP-A-2006-007350 发明内容 0007 然而，在专利文献1的方法中，存在需要施加向下载荷的设备且周表面抛光机器 具有复杂构造的问题。此外，实际上不能评估抛光的变化和玻璃基板堆中的镜面缺陷。 0008 因此，本发明的目的是提供一种周表面抛光刷，其能够均匀地且稳定地抛光内周 倒角部分和内周侧表面而不必使用具有复杂构造的任何周表面抛光机器。 0009 本发明提供一种周表面抛光刷，用于对磁性记录介质用玻璃。

8、基板的内周表面进行 抛光，在所述玻璃基板的中心处具有圆形孔， 0010 其中所述周表面抛光刷包括轴，在所述轴上植入有刷丝，并且当对所述轴施加 19.6N的载荷时，所述轴具有420m或更小的最大弯曲值。 0011 本发明的效果如下。 0012 本发明提供一种周表面抛光刷，其能够均匀地且稳定地抛光内周倒角部分和内周 侧表面而不必使用具有复杂构造的任何周表面抛光机器。 附图说明 0013 图1是示出通过根据本发明的生产磁性记录介质用玻璃基板的方法构造玻璃基 板的透视横截面图。 说 明 书CN 102794685 A 2/9页 4 0014 图2是示出磁性记录介质用玻璃基板的内周表面被抛光的状态的示意。

9、图。 0015 图3是示出根据本发明的周表面抛光刷的示意性横截面视图。 0016 图4是根据本发明的周表面抛光刷的放大的横截面视图。 0017 附图标记说明 0018 1.玻璃基板 0019 2.主表面 0020 3.圆形孔 0021 4.外周表面 0022 5.外周侧表面 0023 6.外周倒角部分 0024 7.内周表面 0025 8.内周侧表面 0026 9.内周倒角部分 0027 10.间隔件 0028 11.玻璃基板堆 0029 12.周表面抛光刷 0030 13.刷丝 0031 14.轴 0032 15.通道部件 0033 16.植入的丝的长度 0034 17.通道部件的高度 00。

10、35 18.植丝部分 0036 19.通道部件的节距宽度 0037 20.周表面抛光刷的外径 0038 21.刷丝的长度 具体实施方式 0039 在下文中，将描述本发明的优选实施例，但是本发明不限于此。 0040 首先，将描述使用周表面抛光刷抛光磁性记录介质用玻璃基板的构造。图1是示 出玻璃基板的构造的透视横截面视图。在图1中，玻璃基板1具有环状物形状，其在主表面 2的中心处具有圆形孔3。玻璃基板1的外周的侧表面是外周表面4，而圆形孔3的侧表面 是内周表面7。外周表面4包括与主表面2形成90度角度的外周侧表面5和在外周侧表面 5处接触主表面2的外周倒角部分6。而且，内周表面7包括：与主表面2形。

11、成90度角度的 内周侧表面8；和接触主表面2及内周侧表面8的内周倒角部分9。 0041 图2是示出磁性记录介质用玻璃基板的内周表面被抛光的状态的示意图。当磁性 记录介质用玻璃基板的内周表面被抛光时，多个盘形玻璃基板使圆形孔重叠，使得玻璃基 板对应于圆形孔的位置，从而形成玻璃基板堆。此时，如图2所示，间隔件10可以例如插入 相邻的盘形玻璃基板1之间。通过将间隔件10插入其间，刷丝和抛光浆料容易进入到主表 面2和内周倒角部分9之间的边界，且内周表面7能够被进一步均匀地抛光。此外，可防止 说 明 书CN 102794685 A 3/9页 5 对玻璃基板的主表面的刮擦。通常，在玻璃基板堆中，间隔件10。

12、的圆形孔具有与玻璃基板 的圆形孔相同的中心轴线且中心轴线在垂直于玻璃基板1的主表面2的方向上延伸。 0042 优选地，间隔件10的圆形孔的内径略微大于由玻璃基板1的主表面2和主表面2 的内周倒角部分9之间的边界形成的直径。通过使间隔件10的圆形孔的内径略大于由玻 璃基板1的主表面2和主表面2的内周倒角部分9之间的边界形成的直径，内周倒角部分 9的整个表面可被均匀地抛光。而且，间隔件10的厚度优选地是0.2mm至0.5mm。当间隔 件10的厚度小于0.2mm时，可能难以均匀地抛光内周倒角部分9的整个表面。另一方面， 当间隔件10的厚度大于0.5mm时，由于玻璃基板堆的尺寸增加，所以不是优选的。同。

13、样，间 隔件10的材料具体不受限制，而是例如可使用橡胶、塑料、铝合金、不锈钢等。 0043 堆叠多个玻璃基板的玻璃基板堆11安装在保持部分中以将玻璃基板堆保持在众 所周知的内周表面抛光机器中。然后，将下述的周表面抛光刷12插入形成在玻璃基板堆11 的中心处的圆形孔3中，使得玻璃基板的内周侧表面8及内周倒角部分9与刷丝13接触。 之后，将包含研磨料的抛光浆料供应到玻璃基板的内周侧表面8和内周倒角部分9。在该状 态下，通过在相反的方向旋转玻璃基板堆11和周表面抛光刷12来执行抛光。 0044 此时，例如，周表面抛光刷12可被强有力地压到玻璃基板堆11上约1.5mm至约 2.0mm的深度。而且，可通。

14、过使周表面抛光刷12在刷插入方向上往复运动来执行抛光。而 且，周表面抛光刷12往复运动的往复运动距离优选地为玻璃基板堆在堆方向上的长度的 15%或更多。当周表面抛光刷12往复运动的往复运动距离低于玻璃基板堆沿堆方向的长度 的15%时，可能会由玻璃基板堆沿抛光刷的轴向方向的变化特性引起抛光的变化量。 0045 在图2中，通过堆叠六个盘形玻璃基板形成了玻璃基板堆，但是本发明不限于 此。待堆叠的多个盘形玻璃基板的堆叠数目具体不受限制且玻璃基板堆可形成为例如堆叠 100、200或300个玻璃基板。通常，通过增加堆叠的玻璃基板的数目，许多玻璃基板可被同 时抛光且鉴于经济效率和效能是更优选的。 0046 。

15、周表面抛光刷 0047 图3是示出根据本发明的周表面抛光刷12的示意性横截面视图。而且，图4是周 表面抛光刷12的放大的横截面视图。周表面抛光刷12通常包括周向轴14和安装在轴14 上的刷丝13。刷丝13在大体垂直于轴14的周向方向的方向上植入。 0048 周向轴14在轴向方向上在中心处的最大弯曲值(m)使用施加的载荷P(N)、 轴14在轴向方向上的长度L(mm)、轴的直径r(底部的半径)(mm)和构成材料的杨氏模量 E(GPa)定义为以下公式(1)。 0049 =PL 3 /(12r 4 E) (1) 0050 测量公式(1)的最大弯曲值的方法在上面示出且本发明不限于此。例如，轴的在 轴向方。

16、向上的两端的10mm内侧被支撑，在轴向方向上利用推拉规等将19.6N的载荷施加到 轴的中心且利用刻度表等测量运动距离(即，最大弯曲值)。 0051 在本发明的周表面抛光刷12中，在19.6N的载荷被施加到轴14的情形中的弯曲 值优选地为420m或更小，更优选地为400m或更小，甚至更优选地为300m或更小， 特别优选地为250m或更小。通过使用其中当19.6N的载荷被施加到轴14时弯曲值为 420m或更小的周表面抛光刷，当内周表面被抛光时轴不会弯曲且玻璃基板堆因而可被均 匀地抛光。具体地，在同一玻璃基板堆批次中的抛光变化可被控制到7m或更小，因而可 说 明 书CN 102794685 A 4/。

17、9页 6 实现内周倒角部分和内周侧表面的均匀且稳定的抛光。此时，轴的杨氏模量E、轴的底部的 半径r和轴的长度L具体不受限制，只要轴的弯曲值满足基于公式(1)的所有前述条件 即可。 0052 将刷丝13植入在周表面抛光刷12上的方法具体不受限制，且例如如图3所示，被 植入有刷丝13的通道部件15被缠绕在轴14上，随后固定。在另一方法中，刷丝13被直接 植入在形成在轴14上的凹形凹部中。被植入有刷丝13的通道部件15缠绕在轴14上随后 固定的方法是优选的，因为在设计周表面抛光刷12时存在很大的灵活性。 0053 此外，在轴14中，优选的是，被植入有刷丝的植丝部分18的长度16(下文中，称为 “植丝。

18、长度16”(参见图3)设计成大于玻璃基板堆11的总长度，因为内周表面能够被均匀 地抛光且可保证足够的抛光速率。 0054 此外，在植丝部分18中，植丝区域18A的长度16A与植丝区域18A的长度16A(植 丝长度16)和非植丝区域18B的长度16B的总和之比率(提及为植丝区域的面积比率)优 选地为25%至95%，更优选地为30%至90%，甚至更优选地为30%至85%。当植丝区域的面积 比率低于25%时，抛光速率可能被降低。另一方面，当植丝区域的面积比率高于95%时，当 周表面抛光刷被强有力地压在玻璃基板堆上时，由堆叠的玻璃引起的排斥力增加，周表面 抛光刷12的轴14被弯曲且内周倒角部分因而不能。

19、被充分地抛光。 0055 此外，植丝区域的面积比率的测量方法是，例如通过测量在轴向方向上轴的单位 长度(例如，100mm)中植丝区域18A的长度并由所测量的值计算面积比率。而且，当使用 通道部件15时，只要植丝部分的面积比率为25%至95%即可，通道部件15中植丝区域的宽 度、通道部件15的节距宽度等不被特别限制。 0056 包括轴、刷丝和通道部件的周表面抛光刷12的外径20可大于或小于其中内周表 面被抛光的玻璃基板的圆形孔的直径。当周表面抛光刷12的外径20小于玻璃基板的圆形 孔的直径时，需要移动周表面抛光刷12直到其接触玻璃基板的内周表面。此外，轴14的直 径优选是圆形孔的直径的30%至6。

20、0%。当轴14的直径小于30%时，难以降低轴14的弯曲 值，并且约束了刷设计，例如刷丝的长度需要更长。另一方面，轴14的直径大于60%，因为玻 璃基板的边缘表面和轴14之间的空间窄，所以难以供应抛光浆料。作为结果，可能整个玻 璃基板堆11未被均匀地抛光，并且约束了刷设计，例如刷丝的长度需要更短。 0057 当刷丝的长度21太长时，刷丝不能通过适当的压力接触玻璃基板的内周表面且 抛光速率因而可能恶化。另一方面，当刷丝的长度太短时，刷丝不能精确地移动到玻璃基板 的内周倒角部分的内侧且内周倒角部分不能被充分地抛光。为此，重要的是，根据轴的直 径、周表面抛光刷12的外径20、玻璃基板的圆形孔的直径、通。

21、道部件的高度17和下述的刷 丝的材料和线性直径等适当地选择刷丝。 0058 用于刷丝的材料由本领域技术人员从常规刷丝来适当地选择，所述常规刷丝包 括：化学合成纤维，诸如尼龙纤维、聚丙烯纤维、氯乙烯纤维、聚对苯二甲酸丁二酯纤维；动 物比如猪或马的毛发；金属丝，如钢琴丝或不锈钢纤维；碳纤维等。 0059 如上所述，刷丝的直径取决于刷丝的长度等，且通常优选地为0.1mm至0.3mm。当 刷丝的直径低于0.1mm时，刷丝不能通过适当的压力接触玻璃基板的内周表面且抛光速率 因而可能恶化。此外，刷丝的暂时变化可能增加。另一方面，当刷丝的直径大于0.3mm时， 刷丝不能精确地移动到玻璃基板的内周倒角部分的内。

22、侧且在某些情形中，内周倒角部分因 说 明 书CN 102794685 A 5/9页 7 而不能被充分地抛光。 0060 抛光浆料 0061 使用本发明的周表面抛光刷来抛光所使用的抛光浆料具体不受限制。例如，抛光 浆料可通过将下面示例的研磨料分散在水或水溶性有机溶剂中来获得。抛光浆料可任选地 包含分散剂、pH调节剂、粘度调节剂、螯合剂等。 0062 抛光浆料中包含的研磨料具体不受限制。例如，可使用包含诸如稀土氧化物(比 如氧化铈、氧化锆)、氧化铝、氧化镁、氧化硅、碳化硅、氧化锰、氧化铁、金刚石、氮化硼和锆 石等的研磨料的抛光浆料。在上述研磨料中，优选地使用包含氧化铈、氧化锆、氧化铝和锆 石的研磨。

23、料。这些研磨料可单独使用或以两种或更多种类型的组合使用。 0063 研磨料的平均颗粒直径(D50)具体不受限制且通常为0.5m至5m，优选地为 0.5m至2m，更优选地为0.7m至1.5m。 0064 生产磁性记录介质用玻璃基板的方法 0065 在下文中，将描述根据本发明的生产磁性记录介质用玻璃基板的方法。 0066 本发明的生产磁性记录介质用玻璃基板的方法具体不受限制，只要使用周表面抛 光刷来抛光内周表面即可。 0067 例如，磁性记录介质用玻璃基板通过以下方法来生产，所述方法包括： 0068 (1)将玻璃片材加工成在其中心处具有圆形孔的盘形形状，之后对内周侧表面和 外周侧表面倒角以制备玻璃。

24、基板(成形步骤)， 0069 (2)抛光玻璃基板的外周表面(外周表面抛光步骤)， 0070 (3)对玻璃基板的内周表面的内周侧表面和内周倒角部分进行抛光(内周表面抛 光步骤)， 0071 (4)抛光玻璃基板的两个(上和下)主表面(主表面抛光步骤)， 0072 (5)精确地清洁玻璃基板，之后干燥以获得磁性记录介质用玻璃基板(清洁步 骤)。 0073 本发明不限于该方法，而是(3)通过使用本发明的周表面抛光刷抛光玻璃基板的 内周表面来执行内周表面抛光步骤。 0074 (2)外周表面抛光步骤和(3)内周表面抛光步骤可不管顺序地执行。而且，在(2) 和(3)周表面抛光步骤中的至少一个可经受主表面研磨(。

25、比如游离研磨料研磨和固定研磨 料研磨)，且玻璃基板可在各个步骤之间进行清洁(在步骤之间清洁)或玻璃基板的表面可 被蚀刻(在步骤之间蚀刻)。而且，在术语的宽泛意思中，此处使用的主表面的研磨指主表 面的宽泛抛光。 0075 抛光步骤可通过单独的主抛光或主抛光和二次抛光的组合来执行。在二次抛光之 后，可进一步执行第三次抛光。 0076 在本发明中，构成玻璃基板的玻璃可为无定形玻璃或结晶玻璃，或者在表面层上 具有加强层的加强玻璃(例如，化学加强玻璃)。而且，当磁性记录介质用玻璃基板需要高 机械强度时，在玻璃基板的表面层上形成加强层的加强步骤(例如，化学加强步骤)可在 初始的抛光步骤之前或在最后的抛光步。

26、骤之后，或在各个抛光步骤之间的任何一个期间进 行。而且，根据本发明的玻璃基板的玻璃板可通过浮动过程、熔融过程、再拉拔过程或压力 模制过程来模制且本发明不限于此。 说 明 书CN 102794685 A 6/9页 8 0077 (2)外周表面抛光步骤、(4)主表面抛光步骤和(5)玻璃基板清洁步骤的实施例将 在下面描述且本发明不限于此。 0078 在(2)外周表面抛光步骤中，玻璃基板的外周侧表面和外周倒角部分上的刮痕被 去除且侧表面被加工成镜面。此时，例如，可使用抛光刷和包含研磨料的抛光浆料来执行抛 光。抛光浆料中包含的研磨料具体不受限制。例如，可使用包含诸如氧化铈、氧化锆的稀土 氧化物、氧化铝、。

27、氧化镁、氧化硅、碳化硅、氧化锰、氧化铁、金刚石、氮化硼和锆石等的研磨 料的抛光浆料。在上述研磨料中，优选使用包含氧化铈、氧化锆、氧化铝和锆石的研磨料。这 些研磨料可单独使用或以两种或更多种类型的组合使用。 0079 研磨料的平均颗粒直径(D50)具体不受限制且通常为0.5m至5m，优选地为 0.5m至2m，更优选地为0.7m至1.5m。在外周表面抛光步骤之后，通过清洁来去除 氧化铈且玻璃基板用于随后的步骤。 0080 在(4)主表面抛光步骤中，例如，可利用双面抛光机器使用作为抛光工具的硬氨 基甲酸乙酯垫和包含氧化铈研磨料的抛光浆料来抛光上主表面和下主表面。而且，例如，可 利用双面抛光机器使用作。

28、为抛光工具的硬氨基甲酸乙酯垫和包含氧化铈研磨料的抛光浆 料来抛光上主表面和下主表面(可使用具有比上面的氧化铈研磨料小的平均颗粒直径的 氧化铈研磨料)。此外，利用双面抛光机器使用作为抛光工具的硬氨基甲酸乙酯垫和包含作 为主要成分的具有约20至约30nm主颗粒直径的平均颗粒直径的硅胶的抛光浆料组分来最 终抛光上主表面和下主表面。 0081 在(5)清洁步骤中，使最终抛光的玻璃基板随后经受使用碱性洗涤剂的擦洗清 洁，使用侵入碱性洗涤剂溶液中的超声清洁，以及使用侵入纯水中的超声清洁，并且在异丙 醇蒸气等下进行干燥。 0082 诸如基层、磁性层、保护层或润滑层的层被堆叠在通过该方法获得的磁性记录介 质用。

29、玻璃基板上以生产磁盘。每层等的堆叠方法可适当地选自常规方法。磁盘的尺寸具 体不受限制且可生产各种磁盘，诸如0.85英寸类型的磁盘(内径6mm，外径21.6mm，厚度 0.381mm)、1.0英寸类型的磁盘(内径7mm、外径27.4mm，厚度0.381mm)、1.8英寸类型的磁 盘(内径12mm，外径48mm，厚度0.508mm)、2.5英寸类型的磁盘(内径20mm、外径65mm，厚 度0.635mm或0.8mm)。 0083 实例 0084 实例1 0085 在下文中，本发明将参考实例和比较例来详细描述。本发明不限于该实例。 0086 这里使用的实例和比较例中抛光内周表面所使用的周表面抛光刷的。

30、弯曲值是通 过对轴的在轴向方向上的两端的10mm内侧进行支撑、在轴向方向上利用推拉规等对轴的 中心施加19.6N的载荷并利用刻度表等测量运动距离而获得的值。 0087 此外，实例和比较例使用的周表面抛光刷具有2.5mm的通道高度、3.7mm的刷丝长 度、0.2mm的刷丝线性直径和30%的植丝部分面积比率。 0088 而且，这里使用的抛光浆料是包含作为主要成分的具有1.4m的平均颗粒直径 的氧化铈研磨料和具有1.2的比重的抛光浆料。下面将详细描述抛光程序。 0089 将通过浮动过程形成且包含作为主要成分的SiO 2 的玻璃基板加工成在其中心处 具有圆形孔的盘形形状，作为磁性记录介质用玻璃基板，其。

31、具有65mm的外径、20mm的内径 说 明 书CN 102794685 A 7/9页 9 和0.635mm的厚度。 0090 在其中心处具有圆形孔的盘形玻璃基板的内周侧表面和外周侧表面被倒角以获 得作为最终产品的具有0.15mm宽度和45倒角的磁性记录介质用玻璃基板。然后使用氧 化铝研磨料(平均颗粒直径7至7.5m)研磨玻璃基板的上主表面和下主表面并且通过清 洁来去除研磨料。 0091 之后，利用对准夹具来堆叠玻璃基板以形成玻璃基板堆。此外，将由树脂制成的 0.2mm厚度的间隔件插入相邻的玻璃基板之间且堆叠200个玻璃基板以形成玻璃基板堆。 0092 将所获得的玻璃基板堆插入夹具以抛光内周表面。

32、并通过在玻璃基板堆的上下方 向上牢固地紧固玻璃基板堆来固定，并且将对准夹具从玻璃基板堆分离。将玻璃基板堆安 装在内周表面抛光机器(由UTK系统有限公司制造，产品名：BTK-08)的抛光物质保持部分 上，并且，将周表面抛光刷插入玻璃基板堆的中心处的圆形孔内。这里使用的周表面抛光刷 具有：206GPa的杨氏模量；375mm的周表面抛光刷的轴长度；50%的轴直径与玻璃基板的圆 形孔直径的比率；以及通过该方法测量的210m的弯曲值。 0093 周表面抛光刷沿一个方向从玻璃基板堆的圆形孔的中心移动且将预定量的刷丝 推入玻璃基板堆的内周侧表面和内周倒角部分中。将前述抛光浆料供应到玻璃基板堆的内 周表面，沿。

33、相反方向旋转抛光刷和玻璃基板堆，并且在玻璃基板堆的堆叠方向上摇动周表 面抛光刷的同时执行抛光。 0094 而且，在实例和比较例中，设定7至8L/min的抛光浆料流速、2500rpm的抛光刷旋 转速率、39rpm的玻璃基板堆旋转速率和100至1500mm/min的摇动速率，并且执行抛光直到 内周侧表面的去除量变为25m(一个表面：12.5m)。 0095 在抛光内周表面之后，从用于抛光内周表面的夹具释放玻璃基板堆，且将玻璃基 板一个接一个地从玻璃基板堆分离。分离的玻璃基板在通过清洁去除其上存在的研磨料之 后用于随后的评估。 0096 (实例2) 0097 以与实例1中相同的方式执行抛光，只不过所。

34、用的周表面抛光刷具有：199GPa的 杨氏模量；375mm的周表面抛光刷的轴长度；50%的轴直径与玻璃基板的圆形孔的直径的比 率；以及通过该方法测量的220m的弯曲值。 0098 (实例3) 0099 以与实例1中相同的方式执行抛光，只不过所用的周表面抛光刷具有：199GPa的 杨氏模量；230mm的周表面抛光刷的轴长度；40%的轴直径与玻璃基板的圆形孔的直径的比 率；以及通过该方法测量的120m的弯曲值。 0100 (实例4) 0101 以与实例1中相同的方式执行抛光，只不过所用的周表面抛光刷具有：199GPa的 杨氏模量；230mm的周表面抛光刷的轴长度；30%的轴直径与玻璃基板的圆形孔的。

35、直径的比 率；以及通过该方法测量的390m的弯曲值。 0102 (比较例1) 0103 以与实例1中相同的方式执行抛光，只不过所用的周表面抛光刷具有：101GPa的 杨氏模量；375mm的周表面抛光刷的轴长度；50%的轴直径与玻璃基板的圆形孔的直径的比 率；以及通过该方法测量的430m的弯曲值。 说 明 书CN 102794685 A 8/9页 10 0104 (比较例2) 0105 以与实例1中相同的方式执行抛光，只不过所用的周表面抛光刷具有：69GPa的 杨氏模量；375mm的周表面抛光刷的轴长度；50%的轴直径与玻璃基板的圆形孔的直径的比 率；以及通过该方法测量的640m的弯曲值。 01。

36、06 评估 0107 (去除量的差异) 0108 周表面抛光之前的玻璃基板和周表面抛光之后获得的玻璃基板被清洁并干燥，所 述玻璃基板随后用于使用高精度2维尺寸计(由Keyence有限公司制造，产品名：VM8040) 测量去除量。具体地，在内周侧表面上测量玻璃基板的中心处的圆形孔的直径且周表面抛 光之前和之后之间的圆形孔的直径差被作为去除量。 0109 从200个玻璃基板堆批次中任意抽取20个玻璃基板，测量其前述去除量并且将最 大值和最小值之间的差定义为一个批次中的去除量的差。 0110 (凹坑缺陷数目) 0111 使用含有氢氟酸和硝酸的酸性蚀刻溶液将抛光之后的玻璃基板的内周表面在深 度方向上蚀。

37、刻到5m的厚度。结果，设计出容易观察到的作为凹坑缺陷的损坏层(划痕)。 然后，清洁并干燥玻璃基板。最后，将玻璃基板切割到一定尺寸，使得容易评估凹坑缺陷数 目以生产包括内周侧表面8和内周倒角部分9的用于观察凹坑缺陷数目的样品。 0112 通过使用光学显微镜(由奥林巴斯公司生产，BX60M，明视场微分干涉对比金相显 微镜)计数凹坑缺陷数目来评估凹坑缺陷数目。将用于观察的各个样品固定在样品台上使 得内周侧表面8或内周倒角部分9的表面平行于光学显微镜的物镜的透镜表面。利用光学 显微镜的20倍物镜在480m328m的视场下对具有10m或更大直径的圆形或椭圆形 凹坑缺陷的数目进行计数。而且，计算通过观察区。

38、域分割所测得的凹坑缺陷数目的值。 0113 具有200件玻璃基板的玻璃基板批次被粗分为上部、中部和下部，且从各个划分 的区域中任意地抽取3件玻璃基板并通过前述方法对其进行测量，并且使用这些值的平均 值作为凹坑缺陷数目。通常，所获得的值低于5/mm 2 的抛光方法是优选的，并且所获得的值 不低于5/mm 2 的抛光方法不是优选的。 0114 表1 说 明 书CN 102794685 A 10 9/9页 11 0115 0116 本发明的周表面抛光刷能够均匀地且稳定地抛光玻璃基板的内周倒角部分和内 周侧表面，因为其在19.6N的施加载荷下具有420m或更小的弯曲值。 0117 尽管已经参考本发明的具体实施例详细描述了本发明，但是对于本领域技术人员 将明显的是，在不偏离本发明的精神和范围的情况下可在其中作出各种变化和修改。 0118 顺便提一下，本申请基于2011年5月27日提交的日本专利申请JP2011-119586 且内容通过引用并入此处。 0119 而且，这里引用的所有文献整体并入。 说 明 书CN 102794685 A 11 1/2页 12 图1 图2 图3 说 明 书 附 图CN 102794685 A 12 2/2页 13 图4 说 明 书 附 图CN 102794685 A 13 。