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1、10申请公布号CN104294229A43申请公布日20150121CN104294229A21申请号201410518096022申请日20140930C23C14/35200601C23C14/1420060171申请人惠安县高智模具技术服务有限公司地址362103福建省泉州市惠安县辋川镇坪埔村钱埔365号72发明人潘文祥54发明名称一种玻璃模具的专用模仁57摘要一种玻璃模具的专用模仁，包括一模仁本体以及一以其背面覆盖于该模仁本体上的钛硅薄膜层,所述钛硅薄膜层的正面覆盖于一钛硅氮薄膜层的背面，所述钛硅氮薄膜层的正面覆盖于一钛铝硅氮薄膜层的背面。本发明结构简单、设计巧妙，通过采用多个薄膜层的。
2、结构，可以增加各个薄膜层彼此间的附着力，而且可以避免因本体的成分扩散到模造玻璃模仁的表面，而影响所模造之玻璃的质量。51INTCL权利要求书1页说明书3页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书3页10申请公布号CN104294229ACN104294229A1/1页21一种玻璃模具的专用模仁，其特征在于包括一模仁本体以及一以其背面覆盖于该模仁本体上的钛硅薄膜层,所述钛硅薄膜层的正面覆盖于一钛硅氮薄膜层的背面，所述钛硅氮薄膜层的正面覆盖于一钛铝硅氮薄膜层的背面。2如权利要求1所述一种玻璃模具的专用模仁，其特征在于所述钛硅薄膜层的厚度为50100纳米。3如权利要求2所。
3、述一种玻璃模具的专用模仁，其特征在于所述钛硅氮薄膜层的厚度为100300纳米。4如权利要求3所述一种玻璃模具的专用模仁，其特征在于所述钛铝硅氮薄膜层的厚度为300500纳米。5如权利要求4所述一种玻璃模具的专用模仁，其特征在于，所述钛硅薄膜层是通过磁控溅射镀膜方式覆盖在所述模仁本体上，该磁控溅射镀膜方式包括以下步骤A、采用沈阳科学仪器股份有限公司制造的FJL560型高真空多功能磁控溅射镀膜机,使用直径为60MM,厚度为3MM,纯度为5N的钛靶,基片为40MM20MM2MM的SIO2薄片；B、基片镀膜前先用丙酮清洗,然后用超声波清洗,最后用去离子水冲洗风干；C、在沉积薄膜之前,钛靶用AR离子轰击。
4、预溅射5分钟,待溅射稳定后再移开基片挡板开始薄膜的沉积。6如权利要求5所述一种玻璃模具的专用模仁，其特征在于，所述磁控溅射镀膜方式选择的工艺参数范围为AR气流量20SCCM；直流电源功率80W；溅射气压1PA；靶基距70MM。7如权利要求6所述一种玻璃模具的专用模仁，其特征在于，所述钛硅薄膜层与钛硅氮薄膜层之间通过非平衡磁控溅射方法进行覆盖，所述钛硅氮薄膜层与所述钛铝硅氮薄膜层之间也是通过非平衡磁控溅射方法进行覆盖。8如权利要求7所述一种玻璃模具的专用模仁，其特征在于，所述非平衡磁控溅射方法选择的工艺参数范围为选取80瓦150瓦低功率；选取5103托8103托的工作压力。权利要求书CN1042。
5、94229A1/3页3一种玻璃模具的专用模仁技术领域0001本发明涉及模具领域，更具体地说，涉及一种玻璃模具的专用模仁。背景技术0002近年来，数码相机、数码摄影机等光学产品以及具有拍照功能的手机迅速发展，为满足高的成像质量以及轻薄短小、方便携带等需求，一般塑料制造的光学镜片无法达到所需的成像质量，必须使用玻璃镜片，然而，对于非球面的小尺寸玻璃镜片而言，如果以抛光研磨的方式加工制造，不仅难度高而且时间长，因此，目前的趋势是以模具制造（以下简称模造）的方式生产非球面、小尺寸的玻璃镜片。0003模造玻璃的模仁，对所模造的玻璃镜片质量起决定性作用，也和一个模仁能够模造的玻璃镜片的数目有重要关系，能够。
6、模造的玻璃镜片数目越多，越能降低生成玻璃镜片的成本，因此一个好的模仁必须具备以下特性1抗粘性强避免与玻璃镜片产生沾黏；2高硬度易于成型玻璃；3低粗糙性避免使玻璃产生缺陷；4抗磨耗性佳使其具有较长的使用寿命；5耐高温氧化避免于模造过程中发生分解，或与模造气体产生反应。0004为了使模仁具有上述特性，通常情况在模仁的表面镀膜，常用的镀膜是贵金属薄膜，以铂铱PTIR合金薄膜为主流，因为贵金属薄膜在高温时不与玻璃产生化学反应，具有耐高温氧化、化学安定等特性，然而，其缺点为硬度低、寿命短，而且材料费用成本高昂。发明内容0005本发明提供一种玻璃模具的专用模仁，其主要目的在于克服现有模造玻璃的模仁存在的硬。
7、度低、寿命短，而且材料费用成本高昂等缺陷。0006为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案一种玻璃模具的专用模仁，包括一模仁本体以及一以其背面覆盖于该模仁本体上的钛硅薄膜层,所述钛硅薄膜层的正面覆盖于一钛硅氮薄膜层的背面，所述钛硅氮薄膜层的正面覆盖于一钛铝硅氮薄膜层的背面。0007优选地，所述钛硅薄膜层的厚度为50100纳米。0008优选地，所述钛硅氮薄膜层的厚度为100300纳米。0009优选地，所述钛铝硅氮薄膜层的厚度为300500纳米。0010优选地，所述钛硅薄膜层是通过磁控溅射镀膜方式覆盖在所述模仁本体上，该磁控溅射镀膜方式包括以下步骤A、采用沈阳科学仪器股份有限公司制造的FJL56。
8、0型高真空多功能磁控溅射镀膜机,使用直径为60MM,厚度为3MM,纯度为5N的钛靶,基片为40MM20MM2MM的SIO2薄片；B、基片镀膜前先用丙酮清洗,然后用超声波清洗,最后用去离子水冲洗风干；C、在沉积薄膜之前,钛靶用AR离子轰击预溅射5分钟,待溅射稳定后再移开基片挡板开始薄膜的沉积。说明书CN104294229A2/3页40011优选地，所述磁控溅射镀膜方式选择的工艺参数范围为AR气流量20SCCM；直流电源功率80W；溅射气压1PA；靶基距70MM。0012优选地，所述钛硅薄膜层与钛硅氮薄膜层之间通过非平衡磁控溅射方法进行覆盖，所述钛硅氮薄膜层与所述钛铝硅氮薄膜层之间也是通过非平衡磁。
9、控溅射方法进行覆盖。0013优选地，所述非平衡磁控溅射方法选择的工艺参数范围为选取80瓦150瓦低功率；选取5103托8103托的工作压力。0014和现有技术相比，本发明产生的有益效果在于本发明结构简单、设计巧妙，通过采用多个薄膜层的结构，可以增加各个薄膜层彼此间的附着力，而且可以避免因本体的成分扩散到模造玻璃模仁的表面，而影响所模造之玻璃的质量。上述的钛铝硅氮TIALSIN薄膜层在模造玻璃时会直接与玻璃接触，它具有高硬度、抗磨耗、耐高温氧化等特性，可延长模造玻璃模仁的使用寿命，并且具有良好的离模性、低粗糙，可以保证所模造的玻璃的质量。以上多种薄膜层的成分采用钛、铝、硅、氮元素，这些元素在自然。
10、界中都容易取得，与铂、铱等贵金属相比，可大幅度地降低模造玻璃模仁的成本。附图说明0015无附图。具体实施方式0016一种玻璃模具的专用模仁，包括一模仁本体以及一以其背面覆盖于该模仁本体上的钛硅薄膜层,所述钛硅薄膜层的正面覆盖于一钛硅氮薄膜层的背面，所述钛硅氮薄膜层的正面覆盖于一钛铝硅氮薄膜层的背面。0017优选地，所述钛硅薄膜层的厚度为50100纳米。0018优选地，所述钛硅氮薄膜层的厚度为100300纳米。0019优选地，所述钛铝硅氮薄膜层的厚度为300500纳米。0020优选地，所述钛硅薄膜层是通过磁控溅射镀膜方式覆盖在所述模仁本体上，该磁控溅射镀膜方式包括以下步骤A、采用沈阳科学仪器股份。
11、有限公司制造的FJL560型高真空多功能磁控溅射镀膜机,使用直径为60MM,厚度为3MM,纯度为5N的钛靶,基片为40MM20MM2MM的SIO2薄片；B、基片镀膜前先用丙酮清洗,然后用超声波清洗,最后用去离子水冲洗风干；C、在沉积薄膜之前,钛靶用AR离子轰击预溅射5分钟,待溅射稳定后再移开基片挡板开始薄膜的沉积。0021优选地，所述磁控溅射镀膜方式选择的工艺参数范围为AR气流量20SCCM；直流电源功率80W；溅射气压1PA；靶基距70MM。0022优选地，所述钛硅薄膜层与钛硅氮薄膜层之间通过非平衡磁控溅射方法进行覆盖，所述钛硅氮薄膜层与所述钛铝硅氮薄膜层之间也是通过非平衡磁控溅射方法进行覆。
12、盖。0023优选地，所述非平衡磁控溅射方法选择的工艺参数范围为选取80瓦150瓦低功率；选取5103托8103托的工作压力。说明书CN104294229A3/3页50024和现有技术相比，本发明产生的有益效果在于本发明结构简单、设计巧妙，通过采用多个薄膜层的结构，可以增加各个薄膜层彼此间的附着力，而且可以避免因本体的成分扩散到模造玻璃模仁的表面，而影响所模造之玻璃的质量。上述的钛铝硅氮TIALSIN薄膜层在模造玻璃时会直接与玻璃接触，它具有高硬度、抗磨耗、耐高温氧化等特性，可延长模造玻璃模仁的使用寿命，并且具有良好的离模性、低粗糙，可以保证所模造的玻璃的质量。以上多种薄膜层的成分采用钛、铝、硅、氮元素，这些元素在自然界中都容易取得，与铂、铱等贵金属相比，可大幅度地降低模造玻璃模仁的成本。0025以上对本发明所提供的一种玻璃模具的专用模仁进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。说明书CN104294229A。