阵列基板、显示面板、显示装置及显示面板的修复方法.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201410508740.6

申请日:

2014.09.28

公开号:

CN104297985A

公开日:

2015.01.21

当前法律状态:

实审

有效性:

审中

法律详情:

实质审查的生效IPC(主分类):G02F 1/1335申请日:20140928|||公开

IPC分类号:

G02F1/1335; G02F1/136

主分类号:

G02F1/1335

申请人:

京东方科技集团股份有限公司; 成都京东方光电科技有限公司

发明人:

颜莎宁; 石博

地址:

100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

优先权:

专利代理机构:

北京中博世达专利商标代理有限公司 11274

代理人:

申健

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内容摘要

本发明公开一种阵列基板、显示面板、显示装置及显示面板的修复方法,涉及显示技术领域,为解决现有的阵列基板修复漏光不良时导致的开口率变小的问题而发明。该阵列基板包括功能层,还包括光致变色层,所述光致变色层设置在所述功能层上,当所述阵列基板出现漏光不良时,通过光照射所述光致变色层形成挡光层。

权利要求书

1.  一种阵列基板,包括功能层,其特征在于,还包括光致变色层,所述光致变色层设置在所述功能层上,当所述阵列基板出现漏光不良时,通过光照射所述光致变色层形成挡光层。

2.
  根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述光致变色层设置在所述功能层的最外层表面。

3.
  根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述功能层设置在衬底基板上,所述功能层从远离衬底基板的方向上依次包括像素电极层、绝缘层、数据线层、栅极保护层、栅极层,所述光致变色层设置在所述像素电极层的外表面。

4.
  根据权利要求1-3任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述光致变色层由有机化合物类光致变色材料构成。

5.
  根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述有机化合物类光致变色材料包括二芳乙稀类化合物、螺啦喃类化合物、螺嗎嗪类化合物、俘精酸酐及其衍生物。

6.
  一种显示面板,其特征在于,包括权利要求1-5任一项所述的阵列基板。

7.
  根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括与所述阵列基板对合设置的对合基板,当所述显示面板出现漏光不良时,通过光照射所述光致变色层形成挡光层。

8.
  一种显示装置,其特征在于,包括权利要求6或7所述的显示面板。

9.
  一种显示面板的修复方法,其特征在于,所述显示面板包括权利要求1-5任一项所述的阵列基板,所述修复方法包括:
采用光照射所述光致变色层,所述光致变色层变为所述挡光层。

10.
  根据权利要求9所述的显示面板的修复方法,其特征在于,所述光照射为紫外光照射。

说明书

阵列基板、显示面板、显示装置及显示面板的修复方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板、显示面板、显示装置及显示面板的修复方法。
背景技术
随着显示器制造技术的发展,TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)因具有体积小、功耗低、无辐射等特点,在当前的平板显示器市场中占据了主导地位。阵列基板是液晶显示装置中的重要部件。其中,开口率是评价阵列基板的重要指标。开口率越大,阵列基板的透过率越高,TFT-LCD的亮度也越高,则液晶显示器的显示效果越好。
阵列基板往往存在漏光不良,现阶段通常采用增宽黑矩阵的手段来解决阵列基板的漏光不良的问题,由于,开口率等于像素中透光部分面积与像素总面积之比,而黑矩阵是不透光的,增宽黑矩阵会导致像素中透光部分面积的减小,因此,现有技术中在解决阵列基板的漏光不良时,会导致TFT开口率变小,从而导致阵列基板的透过率较小。
发明内容
本发明的实施例提供一种阵列基板、显示面板、显示装置及显示面板的修复方法,以解决现有的阵列基板修复漏光不良时导致的开口率变小的问题。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
一种阵列基板,包括功能层,还包括光致变色层,所述光致变色层设置在所述功能层上,当所述阵列基板出现漏光不良时,通过光照射所述光致变色层形成挡光层。
其中,为了降低制作时的工艺难度,所述光致变色层设置在所述功能层的最外层表面。
优选地,所述功能层设置在衬底基板上,所述功能层从远离衬底基板的方向上依次包括像素电极层、绝缘层、数据线层、栅极保护层、栅极层,所 述光致变色层设置在所述像素电极层的外表面。
其中,所述光致变色层由有机化合物类光致变色材料构成。
由于有机化合物类的光致变色材料较为成熟,因此,优选地,所述有机化合物类光致变色材料包括二芳乙稀类化合物、螺啦喃类化合物、螺嗎嗪类化合物、俘精酸酐及其衍生物。
一种显示面板,包括上述的阵列基板。
优选地,所述显示面板还包括与所述阵列基板对合设置的对合基板,当所述显示面板出现漏光不良时,通过光照射所述光致变色层形成挡光层。
一种显示装置,其特征在于,包括上述的显示面板。
一种显示面板的修复方法,所述显示面板包括上述的阵列基板,所述修复方法包括:
采用光照射所述光致变色层,所述光致变色层变为所述挡光层。
优选地,所述光照射为紫外光照射。
本发明提供的阵列基板、显示面板、显示装置及显示面板的修复方法中,可将光致变色层设置于阵列基板中的像素电极层上,之后按照的正常制作流程将阵列基板对合,得到模组或未帖附偏光片的液晶显示屏。然后,对该模组或液晶显示屏进行是否漏光的检查。当发现阵列基板存在漏光不良时,可利用光束照射漏光区域,具体地,光束可以选择紫外光,当紫外光照射在光致变色层时,光致变色层会吸收紫外光形成挡光层,挡光层具有挡光的特点,起到遮光的作用,从而修复阵列基板上的漏光不良。由于该阵列基板在进行漏光不良的修复时,不改变黑矩阵层上黑矩阵的宽度,因此不影响阵列基板的开口率,从而保证了阵列基板的透过率。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种阵列基板的截面示意图;
图2为本发明实施例提供的一种显示装置的截面示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明实施例进行详细描述。
在本说明书的描述中,具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
实施例一
参见图2,本实施例提供了一种阵列基板2,该阵列基板2包括功能层,还包括光致变色层27,所述光致变色层27设置在所述功能层上,当所述阵列基板2出现漏光不良时,通过光照射所述光致变色层27形成挡光层29。
本发明实施例提供的阵列基板2中,由于所述功能层上设置有所述光致变色层27,当检验过程中发现所述阵列基板2出现漏光不良时,可以通过光照射所述光致变色层27,使得所述光致变色层27形成所述挡光层29,从而修复所述阵列基板2的漏光不良。
针对现有技术中修复阵列基板的漏光不良时导致的开口率变小的问题,作为本发明的一个优选实施例,参见图1,可将光致变色层14设置于阵列基板1中的像素电极层12上,之后按照正常制作流程将阵列基板1与对合基板对合,得到模组或未帖附偏光片的显示面板。然后,对该模组或显示面板进行是否漏光的检查。当发现阵列基板1存在漏光不良时,可利用光束照射漏光区域,具体地,光束可以选择紫外光,当紫外光照射在光致变色层14时,光致变色层14会吸收紫外光形成挡光层16,挡光层16具有挡光的特点,起到遮光的作用,从而修复阵列基板1上的漏光不良。由于该阵列基板1在进行漏光不良的修复时,不改变黑矩阵层上黑矩阵的宽度,因此不影响阵列基板1的开口率,从而保证了阵列基板1的透过率。
为了降低制作时的工艺难度,可以将所述光致变色层27设置在所述功能层的最外层表面。
参见图2,为本发明实施例提供的一种显示装置的截面示意图。具体地,所述功能层可设置在衬底基板25上,所述功能层从远离衬底基板25的方向上依次可以包括像素电极层23、绝缘层24、数据线层26、栅极保护层22、栅极层21,光致变色层27设置在像素电极层23的外表面。
参见图2,由于光致变色层27对阵列基板2的功能没有影响,因此,光 致变色层27可以设在所述功能层的任意一层上,都能够达到修复阵列基板2的漏光不良的目的,而不影响阵列基板2的开口率。除了将光致变色层27设置在像素电极层23的外表面之外,还可以将光致变色层27设置在绝缘层24或其它功能层上,当然,该阵列基板2不局限于仅包括上述的功能层,该阵列基板2还可以包括更多的层结构。
其中,光致变色层27可由有机化合物类光致变色材料构成。近年来,由于有机化合物类的光致变色材料基本成熟,有机化合物类的光致变色材料受到越来越多的关注,选择有机化合物类的光致变色材料来制作光致变色层27,能够保证所形成挡光层29性能的稳定性,从而极大程度地保证所述阵列基板2的良品率。
有机化合物类的光致变色材料类繁多,主要包括二芳乙稀类化合物、螺啦喃类化合物、螺嗎嗪类化合物、俘精酸酐及其衍生物和质子转移体系等光致变色体系。其中,可以从众多的有机化合物累的光致变色材料中优选二芳乙稀类化合物、螺啦喃类化合物、螺嗎嗪类化合物、俘精酸酐及其衍生物来制作光致变色层27,由于上述化合物性能稳定,使得光致变色效果较好,进一步使得所述阵列基板2的良率有所保证。
实施例二
本实施例提供了一种显示面板,该显示面板包括上述的阵列基板2,该阵列基板2包括功能层,由于功能层上设置有光致变色层27,当检验过程中发现阵列基板2出现漏光不良时,可以通过光照射光致变色层27,使得光致变色层形成挡光层29,从而修复阵列基板2的漏光不良,进而使得所述显示面板的漏光不良得到修复。
参见图2,上述的显示面板还可以包括与所述阵列基板2对合设置的对合基板28,当所述显示面板出现漏光不良时,通过光照射所述光致变色层27形成挡光层29,使得显示面板的漏光不良得到修复。由于该显示面板包括上述的阵列基板2,因此,具有与阵列基板2相同的有益效果,因此不再赘述。
实施例三
本实施例提供了一种显示装置,该装置包括上述的显示面板。该显示面板包括上述的阵列基板2,该阵列基板2包括功能层,由于功能层上设置有光致变色层27,当检验过程中发现阵列基板2出现漏光不良时,可以通过光照射光致变色层27,使得光致变色层27形成挡光层29,从而修复阵列基板2的漏光不良,进而使得所述显示装置的漏光不良得到修复。
实施例四
本实施例提供了一种显示面板的修复方法,该显示面板包括上述的阵列基板2,该修复方法包括:当显示面板出现漏光不良时,采用光照射光致变色层27,优选地,采用紫外光照射光致变色层27,使得光致变色层27变为挡光层29,使得显示面板的漏光不良得到修复。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。

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1、10申请公布号CN104297985A43申请公布日20150121CN104297985A21申请号201410508740622申请日20140928G02F1/1335200601G02F1/13620060171申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人成都京东方光电科技有限公司72发明人颜莎宁石博74专利代理机构北京中博世达专利商标代理有限公司11274代理人申健54发明名称阵列基板、显示面板、显示装置及显示面板的修复方法57摘要本发明公开一种阵列基板、显示面板、显示装置及显示面板的修复方法,涉及显示技术领域,为解决现有的阵列基板修复漏光不良时导。

2、致的开口率变小的问题而发明。该阵列基板包括功能层,还包括光致变色层,所述光致变色层设置在所述功能层上,当所述阵列基板出现漏光不良时,通过光照射所述光致变色层形成挡光层。51INTCL权利要求书1页说明书3页附图1页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书3页附图1页10申请公布号CN104297985ACN104297985A1/1页21一种阵列基板,包括功能层,其特征在于,还包括光致变色层,所述光致变色层设置在所述功能层上,当所述阵列基板出现漏光不良时,通过光照射所述光致变色层形成挡光层。2根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述光致变色层设置在所述功能层的。

3、最外层表面。3根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述功能层设置在衬底基板上,所述功能层从远离衬底基板的方向上依次包括像素电极层、绝缘层、数据线层、栅极保护层、栅极层,所述光致变色层设置在所述像素电极层的外表面。4根据权利要求13任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述光致变色层由有机化合物类光致变色材料构成。5根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述有机化合物类光致变色材料包括二芳乙稀类化合物、螺啦喃类化合物、螺嗎嗪类化合物、俘精酸酐及其衍生物。6一种显示面板,其特征在于,包括权利要求15任一项所述的阵列基板。7根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括与所述阵列。

4、基板对合设置的对合基板,当所述显示面板出现漏光不良时,通过光照射所述光致变色层形成挡光层。8一种显示装置,其特征在于,包括权利要求6或7所述的显示面板。9一种显示面板的修复方法,其特征在于,所述显示面板包括权利要求15任一项所述的阵列基板,所述修复方法包括采用光照射所述光致变色层,所述光致变色层变为所述挡光层。10根据权利要求9所述的显示面板的修复方法,其特征在于,所述光照射为紫外光照射。权利要求书CN104297985A1/3页3阵列基板、显示面板、显示装置及显示面板的修复方法技术领域0001本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板、显示面板、显示装置及显示面板的修复方法。背景技术000。

5、2随着显示器制造技术的发展,TFTLCDTHINFILMTRANSISTORLIQUIDCRYSTALDISPLAY,薄膜晶体管液晶显示器因具有体积小、功耗低、无辐射等特点,在当前的平板显示器市场中占据了主导地位。阵列基板是液晶显示装置中的重要部件。其中,开口率是评价阵列基板的重要指标。开口率越大,阵列基板的透过率越高,TFTLCD的亮度也越高,则液晶显示器的显示效果越好。0003阵列基板往往存在漏光不良,现阶段通常采用增宽黑矩阵的手段来解决阵列基板的漏光不良的问题,由于,开口率等于像素中透光部分面积与像素总面积之比,而黑矩阵是不透光的,增宽黑矩阵会导致像素中透光部分面积的减小,因此,现有技术。

6、中在解决阵列基板的漏光不良时,会导致TFT开口率变小,从而导致阵列基板的透过率较小。发明内容0004本发明的实施例提供一种阵列基板、显示面板、显示装置及显示面板的修复方法,以解决现有的阵列基板修复漏光不良时导致的开口率变小的问题。0005为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案0006一种阵列基板,包括功能层,还包括光致变色层,所述光致变色层设置在所述功能层上,当所述阵列基板出现漏光不良时,通过光照射所述光致变色层形成挡光层。0007其中,为了降低制作时的工艺难度,所述光致变色层设置在所述功能层的最外层表面。0008优选地,所述功能层设置在衬底基板上,所述功能层从远离衬底基板的方向上依次。

7、包括像素电极层、绝缘层、数据线层、栅极保护层、栅极层,所述光致变色层设置在所述像素电极层的外表面。0009其中,所述光致变色层由有机化合物类光致变色材料构成。0010由于有机化合物类的光致变色材料较为成熟,因此,优选地,所述有机化合物类光致变色材料包括二芳乙稀类化合物、螺啦喃类化合物、螺嗎嗪类化合物、俘精酸酐及其衍生物。0011一种显示面板,包括上述的阵列基板。0012优选地,所述显示面板还包括与所述阵列基板对合设置的对合基板,当所述显示面板出现漏光不良时,通过光照射所述光致变色层形成挡光层。0013一种显示装置,其特征在于,包括上述的显示面板。0014一种显示面板的修复方法,所述显示面板包括。

8、上述的阵列基板,所述修复方法包括说明书CN104297985A2/3页40015采用光照射所述光致变色层,所述光致变色层变为所述挡光层。0016优选地,所述光照射为紫外光照射。0017本发明提供的阵列基板、显示面板、显示装置及显示面板的修复方法中,可将光致变色层设置于阵列基板中的像素电极层上,之后按照的正常制作流程将阵列基板对合,得到模组或未帖附偏光片的液晶显示屏。然后,对该模组或液晶显示屏进行是否漏光的检查。当发现阵列基板存在漏光不良时,可利用光束照射漏光区域,具体地,光束可以选择紫外光,当紫外光照射在光致变色层时,光致变色层会吸收紫外光形成挡光层,挡光层具有挡光的特点,起到遮光的作用,从而。

9、修复阵列基板上的漏光不良。由于该阵列基板在进行漏光不良的修复时,不改变黑矩阵层上黑矩阵的宽度,因此不影响阵列基板的开口率,从而保证了阵列基板的透过率。附图说明0018图1为本发明实施例提供的一种阵列基板的截面示意图;0019图2为本发明实施例提供的一种显示装置的截面示意图。具体实施方式0020下面结合附图对本发明实施例进行详细描述。0021在本说明书的描述中,具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。0022实施例一0023参见图2,本实施例提供了一种阵列基板2,该阵列基板2包括功能层,还包括光致变色层27,所述光致变色层27设置在所述功能层上,当所述阵。

10、列基板2出现漏光不良时,通过光照射所述光致变色层27形成挡光层29。0024本发明实施例提供的阵列基板2中,由于所述功能层上设置有所述光致变色层27,当检验过程中发现所述阵列基板2出现漏光不良时,可以通过光照射所述光致变色层27,使得所述光致变色层27形成所述挡光层29,从而修复所述阵列基板2的漏光不良。0025针对现有技术中修复阵列基板的漏光不良时导致的开口率变小的问题,作为本发明的一个优选实施例,参见图1,可将光致变色层14设置于阵列基板1中的像素电极层12上,之后按照正常制作流程将阵列基板1与对合基板对合,得到模组或未帖附偏光片的显示面板。然后,对该模组或显示面板进行是否漏光的检查。当发。

11、现阵列基板1存在漏光不良时,可利用光束照射漏光区域,具体地,光束可以选择紫外光,当紫外光照射在光致变色层14时,光致变色层14会吸收紫外光形成挡光层16,挡光层16具有挡光的特点,起到遮光的作用,从而修复阵列基板1上的漏光不良。由于该阵列基板1在进行漏光不良的修复时,不改变黑矩阵层上黑矩阵的宽度,因此不影响阵列基板1的开口率,从而保证了阵列基板1的透过率。0026为了降低制作时的工艺难度,可以将所述光致变色层27设置在所述功能层的最外层表面。0027参见图2,为本发明实施例提供的一种显示装置的截面示意图。具体地,所述功能层可设置在衬底基板25上,所述功能层从远离衬底基板25的方向上依次可以包括。

12、像素电说明书CN104297985A3/3页5极层23、绝缘层24、数据线层26、栅极保护层22、栅极层21,光致变色层27设置在像素电极层23的外表面。0028参见图2,由于光致变色层27对阵列基板2的功能没有影响,因此,光致变色层27可以设在所述功能层的任意一层上,都能够达到修复阵列基板2的漏光不良的目的,而不影响阵列基板2的开口率。除了将光致变色层27设置在像素电极层23的外表面之外,还可以将光致变色层27设置在绝缘层24或其它功能层上,当然,该阵列基板2不局限于仅包括上述的功能层,该阵列基板2还可以包括更多的层结构。0029其中,光致变色层27可由有机化合物类光致变色材料构成。近年来,。

13、由于有机化合物类的光致变色材料基本成熟,有机化合物类的光致变色材料受到越来越多的关注,选择有机化合物类的光致变色材料来制作光致变色层27,能够保证所形成挡光层29性能的稳定性,从而极大程度地保证所述阵列基板2的良品率。0030有机化合物类的光致变色材料类繁多,主要包括二芳乙稀类化合物、螺啦喃类化合物、螺嗎嗪类化合物、俘精酸酐及其衍生物和质子转移体系等光致变色体系。其中,可以从众多的有机化合物累的光致变色材料中优选二芳乙稀类化合物、螺啦喃类化合物、螺嗎嗪类化合物、俘精酸酐及其衍生物来制作光致变色层27,由于上述化合物性能稳定,使得光致变色效果较好,进一步使得所述阵列基板2的良率有所保证。0031。

14、实施例二0032本实施例提供了一种显示面板,该显示面板包括上述的阵列基板2,该阵列基板2包括功能层,由于功能层上设置有光致变色层27,当检验过程中发现阵列基板2出现漏光不良时,可以通过光照射光致变色层27,使得光致变色层形成挡光层29,从而修复阵列基板2的漏光不良,进而使得所述显示面板的漏光不良得到修复。0033参见图2,上述的显示面板还可以包括与所述阵列基板2对合设置的对合基板28,当所述显示面板出现漏光不良时,通过光照射所述光致变色层27形成挡光层29,使得显示面板的漏光不良得到修复。由于该显示面板包括上述的阵列基板2,因此,具有与阵列基板2相同的有益效果,因此不再赘述。0034实施例三0。

15、035本实施例提供了一种显示装置,该装置包括上述的显示面板。该显示面板包括上述的阵列基板2,该阵列基板2包括功能层,由于功能层上设置有光致变色层27,当检验过程中发现阵列基板2出现漏光不良时,可以通过光照射光致变色层27,使得光致变色层27形成挡光层29,从而修复阵列基板2的漏光不良,进而使得所述显示装置的漏光不良得到修复。0036实施例四0037本实施例提供了一种显示面板的修复方法,该显示面板包括上述的阵列基板2,该修复方法包括当显示面板出现漏光不良时,采用光照射光致变色层27,优选地,采用紫外光照射光致变色层27,使得光致变色层27变为挡光层29,使得显示面板的漏光不良得到修复。0038以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。说明书CN104297985A1/1页6图1图2说明书附图CN104297985A。

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