低温泵控制装置、低温泵系统及低温泵监控方法技术领域
本发明涉及一种真空技术，尤其涉及一种低温泵控制装置、低温泵系统及
低温泵的监控方法。
背景技术
低温泵为实现清洁的高真空环境的真空泵，例如为了将在半导体电路制造
工艺中使用的真空腔室保持为高真空而利用该低温泵。低温泵通过由制冷机冷
却为超低温的低温板使气体分子冷凝或吸附并积存，由此从真空腔室排出气
体。
若低温板被冷凝成固体的气体覆盖或者吸附的气体接近低温板的吸附剂的
最大吸附量，则低温泵的排气能力下降。因此，适当地实施将被冷凝等的气体
向低温泵外部排除的再生处理。
再生处理中，提高低温板的温度来使积存于低温泵内的气体气化或液化并
排出。
再生处理之后，通过将低温板冷却至超低温而能够再次使用低温泵。
专利文献1中记载有在结束低温泵的再生处理之后，在起动低温泵之前判
定有无产生外部泄漏的低温泵的启动方法。
专利文献1：日本专利公开平9-166078号公报
为了以良好的状态继续使用低温泵，除了进行再生处理之外，例如还需要
进行大修等维护。
确定维护的频率或时点时，例如以使用次数或使用时间为基准。
然而，低温泵的各组件的劣化状况或污染的程度根据使用条件大不相同，
因此不能一概地确定适当的维护时点。
由于因低温泵的维护而导致真空腔室无法使用的停机时间增加，真空处理
系统的运转率降低，因此欲在重视生产率的制造现场将维护频率抑制到最小
限。
然而，当组件等的劣化比预测提前进行时，还有可能在实施定期检查或大
修之前，预想不到地产生低温泵故障，而且真空装置的停机时间也可能突然出
现。这种状况对制造计划带来不良影响。
发明内容
本发明是鉴于这种情况而完成的，其目的在于提供能够有效地掌握低温泵
的劣化的低温泵控制装置、低温泵系统及低温泵的监控方法。
为了解决上述课题，本发明的一种方式的低温泵控制装置用于控制具备对
气体进行冷却并使其冷凝或吸附的低温板及容纳低温板的泵容器的低温泵，其
中，低温泵的再生处理包括：基本净化处理，包括1次以上的气体净化工序；
1次以上的排气处理，对泵容器内进行真空抽取直至达到真空度保持判定级别
之后，对真空度保持状态进行判定；追加净化处理，包括1次以上的气体净化
工序，该追加净化处理在必要情况下追加实施1次以上。该低温泵控制装置具
备劣化判定部，该劣化判定部用于判定再净化次数是否达到劣化判定基准次
数，所述再净化次数为在1次再生处理中需实施的1次以上的追加净化处理中
所包括的1次以上的气体净化工序的总数。
根据该方式，能够利用例如作为低温泵的通常运行周期的一环而进行的再
生处理来判定低温泵的劣化状态。
本发明的其他方式的低温泵系统包括低温泵和低温泵控制装置，所述低温
泵具备对气体进行冷却并使其冷凝或吸附的低温板及容纳低温板的泵容器，所
述低温泵的再生处理包括：基本净化处理，包括1次以上的气体净化工序；1
次以上的排气处理，对泵容器内进行真空抽取直至达到真空度保持判定级别之
后，对真空度保持状态进行判定；追加净化处理，包括1次以上的气体净化工
序，该追加净化处理在必要情况下追加实施1次以上，所述低温泵控制装置用
于控制低温泵，其中，低温泵控制装置具备劣化判定部，该劣化判定部用于判
定再净化次数是否达到劣化判定基准次数，所述再净化次数为在1次再生处理
中需实施的1次以上的追加净化处理中所包括的1次以上的气体净化工序的总
数。
本发明的另一其他方式的低温泵监控方法用于监控低温泵，所述低温泵具
备对气体进行冷却并使其冷凝或吸附的低温板及容纳低温板的泵容器，所述低
温泵的再生处理包括：基本净化处理，包括1次以上的气体净化工序；1次以
上的排气处理，对泵容器内进行真空抽取直至达到真空度保持判定级别之后，
对真空度保持状态进行判定；追加净化处理，包含1次以上的气体净化工序，
该追加净化处理在必要情况下追加实施1次以上，其中，所述低温泵监控方法
用于判定再净化次数是否达到劣化判定基准次数，所述再净化次数为在1次再
生处理中需实施的1次以上的追加净化处理中所包括的1次以上的气体净化工
序的总数。
另外，以上构成要件的任意组合及在方法、装置、系统、记录介质、计算
机程序等之间转换本发明的表现的形态也作为本发明的方式而有效。
发明效果
根据本发明，能够有效地监控低温泵的劣化。
附图说明
图1是表示实施方式所涉及的低温泵的再生方法的图。
图2是示意地表示实施方式所涉及的低温泵系统的图。
图3是示意地表示实施方式所涉及的低温泵系统的图。
图4是表示实施方式所涉及的低温泵的再生处理及之后的启动处理的流程
图。
图5是表示实施方式所涉及的低温泵的再生处理中的排气处理的详细内容
的流程图。
图6是表示实施方式所涉及的低温泵的再生处理的变形例及之后的启动处
理的流程图。
图7是表示实施方式所涉及的低温泵的再生处理的变形例中的第1排气处
理的详细内容的流程图。
图8是表示实施方式所涉及的低温泵的再生处理的变形例中的第2排气处
理的详细内容的流程图。
图中：10-低温泵，36-泵容器，48-低温板，80-低温泵控制装置，84-排
气处理控制部，88-劣化判定部，90-净化处理控制部，94-追加净化处理控制
部，96-发送部，100-低温泵系统，110-真空装置。
具体实施方式
首先，对本发明的实施方式的概要进行说明。
为了有效地掌握低温泵的劣化状况，优选在低温泵系统中安装监控功能或
自我诊断功能，监控低温泵的运行状态。
本发明人想到，通过利用作为低温泵的通常操作的一环而进行的再生处理
来监控低温泵的动作，能够监控低温泵的劣化状况并准确掌握维护时期。
图1表示实施方式所涉及的低温泵的再生处理1及启动处理2。
再生处理1包括：升温处理3，使积存在低温泵内的气体进行气化或液
化；净化处理，为了促进冷凝或吸附于低温板上的气体的脱离而导入氮等净化
用气体(以下也称为“净化气体”)；排气处理5(即5a～5d)，对低温泵内
的气体进行排气。净化处理原则上包括每次都应实施的基本净化处理4及之后
根据需要实施的追加净化处理6。
当判断为各处理之后的状态不满足基准时，反复实施相同的处理或实施追
加处理。在图1中，用虚线表示的处理仅在需要时实施。
升温处理3包括升温工序和温度判定。升温工序中，通过停止低温泵的冷
却运行并停置、或用加热器加热、或者利用使制冷机的置换器的行程与气体吸
排气的时点改变而形成的绝热压缩所获得的热，将低温板的温度升高至再生温
度。再生温度典型地为设置低温泵的部位或其附近的温度(以下也称为“环境
温度”)，例如为300K左右。
升温处理3持续至低温板温度的测定值达到再生温度，若判定为达到了再
生温度时，结束升温处理3。
基本净化处理4包括分别预先设定了次数的气体净化工序和粗抽工序，所
述气体净化工序用于向低温泵10内导入净化用气体，所述粗抽工序用于停止
净化用气体的导入并排出低温泵10内的气体。图1的基本净化处理4中气体
净化工序隔着粗抽工序反复进行3次。
追加净化处理6包括1次气体净化工序。
基本净化处理4或追加净化处理6中存在变化，例如基本净化处理4中可
以仅实施1次气体净化工序，在追加净化处理6中也可以隔着粗抽工序反复进
行多次气体净化工序。
在基本净化处理4及追加净化处理6之后分别实施排气处理5。排气处理
5包括：粗抽工序，对低温泵10内进行真空抽取；真空到达时间判定，判定是
否在规定时间内达到规定的真空度；真空度保持判定，检查是否在停止真空抽
取的状态下保持真空度。对于真空度保持判定的结果，当判断为需要进一步的
排气处理5时，反复实施排气处理5。
在图1的例子中，在基本净化处理4之后实施排气处理5a、5b及5c，在
追加净化处理6之后实施排气处理5d。在本说明书中，将各个排气处理5a～
5d简单地统称为“排气处理5”。
另外，如后所述，排气处理5还可分为第1排气处理和第2排气处理进行
实施，第1排气处理排气至第1级别，第2排气处理排气至第2级别。
若排气处理5结束，则再生处理1就会结束，经过包括冷却处理7的启动
处理2，成为可再次使用低温泵的状态。
再生处理1中，在各处理后的状态不满足基准而反复实施相同处理或实施
追加处理时，低温泵的性能有可能劣化。
实施方式所涉及的低温泵控制装置通过例如监控作为追加净化处理6而实
施的气体净化工序的次数来检测低温泵的性能劣化。
以下参考附图，对本发明的实施方式所涉及的低温泵系统的结构进行说
明。
图2示意地表示实施方式所涉及的低温泵系统100。低温泵系统100具备
低温泵10、压缩机34、净化气体供给装置60、粗抽泵70及低温泵控制装置
80。低温泵10安装于例如离子注入装置或溅射装置等真空装置的真空腔室
内，并用于将真空腔室内部的真空度提高至期望工艺所要求的级别。
低温泵10包括泵容器36、放射屏蔽44、低温板48及制冷机20。
制冷机20为例如吉福德-麦克马洪式制冷机(所谓GM制冷机)等制冷
机。制冷机20具备第1工作缸22、第2工作缸24、第1冷却台26、第2冷却
台28及阀驱动马达30。第1工作缸22与第2工作缸24串联连接。在第1工
作缸22的与第2工作缸24的结合部侧设置第1冷却台26，在第2工作缸24
的远离第1工作缸22侧的端部设置第2冷却台28。图1所示的制冷机20为2
级式制冷机，将工作缸串联地进行2级组合来实现更低的温度。制冷机20通
过制冷剂管32连接于压缩机34。
压缩机34压缩氦等制冷剂气体即工作气体，通过制冷剂管32供给至制冷
机20。制冷机20通过蓄冷器使工作气体冷却，同时使其首先在第1工作缸22
内部的膨胀室中膨胀，接着在第2工作缸24内部的膨胀室中膨胀并进一步冷
却。蓄冷器组装于膨胀室内部。由此，设置于第1工作缸22的第1冷却台26
冷却至第1冷却温度级别，而设置于第2工作缸24的第2冷却台28冷却至低
于第1冷却温度级别的第2冷却温度级别。例如，第1冷却台26冷却至65K～
100K的程度，而第2冷却台28冷却至10K～20K的程度。
通过在膨胀室依次膨胀来吸热并将各冷却台冷却后的工作气体再次通过蓄
冷器并经由制冷剂管32返回至压缩机34。工作气体从压缩机34至制冷机
20、并从制冷机20至压缩机34的流动能够通过制冷机20内的回转阀(未图
示)切换。阀驱动马达30从外部电源接受电力供给并使回转阀旋转。
泵容器36具有形成为一端具有开口且另一端闭塞的圆筒状形状的部位
(以下称为“躯体部”)38。泵容器36的开口设置为用于收容应从连接低温
泵的真空装置的真空腔室排出的气体的泵口42。泵口42由泵容器36的躯体部
38的上端部内表面划分构成。
另外，在泵容器36的躯体部38的上端朝向径向外侧延伸有安装凸缘40。
低温泵10利用安装凸缘40通过未图示的闸阀安装于真空装置的真空腔室。
泵容器36为了隔开低温泵10的内部和外部而设置。泵容器36的内部气
密地保持为共同的压力。由此，泵容器36在低温泵10的排气运行期间作为真
空容器发挥作用。泵容器36的外表面即使在低温泵10工作时，即在制冷机执
行冷却操作期间也暴露于低温泵10外部的环境中，因此维持在高于放射屏蔽
44的温度。泵容器36的温度典型地维持在环境温度。
另外，泵容器36的内部设置有压力传感器50。压力传感器50对泵容器
36的内部压力定期或者在接受了指示的时点进行测定，并将表示测定压力的信
号发送至低温泵控制装置80。压力传感器50和低温泵控制装置80以能够通信
的方式连接。
压力传感器50具有较宽的测量范围，该范围包括通过低温泵10而实现的
较高的真空级别和大气压级别双方。优选至少将在再生处理1期间所产生的压
力范围包含于测量范围内。另外，真空级别的测定用压力传感器和大气压级别
的测定用压力传感器可以单独地设置于低温泵10。
放射屏蔽44配设于泵容器36的内部。放射屏蔽44形成为一端具有开口
且另一端闭塞的圆筒状形状，即杯状的形状。泵容器36的躯体部38及放射屏
蔽44均形成为大致圆筒状，并配设于同轴上。泵容器36的躯体部38的内径
稍微大于放射屏蔽44的外径，放射屏蔽44以与泵容器36的躯体部38的内表
面之间保持若干间隔且与泵容器36并不接触的状态配置。即，放射屏蔽44的
外表面与泵容器36的内表面对置。
放射屏蔽44作为主要保护第2冷却台28及热连接于该第2冷却台的低温
板48免受泵容器36的辐射热的放射屏蔽而设置。第2冷却台28在放射屏蔽
44的内部配置于放射屏蔽44的大致中心轴上。放射屏蔽44以热连接的状态固
定于第1冷却台26，被冷却为和第1冷却台26相同程度的温度。
低温板48例如包括各自具有圆锥台侧面形状的多个板。低温板48热连接
于第2冷却台28。低温板48的各板的背面即远离泵口42侧的面上通常粘附有
活性碳等吸附剂(未图示)。
为了保护第2冷却台28及热连接于该第2冷却台的低温板48免受来自真
空腔室等的辐射热，放射屏蔽44的开口侧的端部设置有挡板46。挡板46形成
为例如百叶窗结构或人字形结构。挡板46热连接于放射屏蔽44，被冷却为和
放射屏蔽44相同程度的温度。
低温泵控制装置80根据第1冷却台26或第2冷却台28的冷却温度控制
制冷机20。为此，也可以在第1冷却台26或第2冷却台28设置温度传感器
(未图示)。低温泵控制装置80也可通过控制阀驱动马达30的运行频率来控
制冷却温度。低温泵控制装置80还用于控制后述各阀。
泵容器36和粗抽泵70由粗排气管74连接。粗排气管74上设置粗阀72。
通过低温泵控制装置80控制粗阀72的开闭，使粗抽泵70与低温泵10之间导
通或截断。
粗抽泵70例如用于在通过低温泵开始排气前的准备阶段对泵容器36内粗
略地进行真空抽取。
打开粗阀72且使粗抽泵70动作，由此能够通过粗抽泵70对泵容器36的
内部进行真空抽取。
泵容器36和用于供给例如氮气等净化用气体的净化气体供给装置60由净
化气体导入管64连接。净化气体导入管64上设置抽气阀62。通过低温泵控制
装置80控制抽气阀62的开闭。通过开闭抽气阀62来控制净化气体向低温泵
10的供给。
泵容器36可以与作为所谓的安全阀而发挥作用的通气阀(未图示)连
接。并且，粗阀72及抽气阀62可分别设置于泵容器36的与粗排气管74或净
化气体导入管64连接的部分。
在开始低温泵10的排气运行时，首先，在该工作之前通过粗阀72且用粗
抽泵70将泵容器36的内部粗抽至1Pa左右。通过压力传感器50测定压力。
之后，使低温泵10工作。在基于低温泵控制装置80的控制下，通过制冷机20
的驱动冷却第1冷却台26及第2冷却台28，与这些冷却台热连接的放射屏蔽
44、挡板46及低温板48也被冷却。
被冷却后的挡板46冷却从真空腔室朝向低温泵10内部飞来的气体分子，
使在该冷却温度下蒸气压充分变低的气体(例如水分等)冷凝在表面。在挡板
46的冷却温度下蒸气压不会充分变低的气体通过挡板46进入放射屏蔽44内
部。进入的气体分子中蒸气压在低温板48的冷却温度下充分变低的气体冷凝
在低温板48的表面。蒸气压在该冷却温度下也未充分变低的气体(例如氢
等)通过粘附于低温板48的表面并被冷却了的吸附剂吸附。这样，低温泵10
使安装端的真空腔室的真空度达到期望的级别。
在开始排气运行后经过预定时间时或发现因排气的气体层积在低温板48
上而排气能力下降时，进行低温泵10的再生处理1。
低温泵10的再生处理1通过低温泵控制装置80控制。
图3示意地表示实施方式所涉及的低温泵系统100。低温泵系统100可以
构成为包括连接低温泵的真空装置110。
对已叙述的构成要件，在图3中也附加相同的符号，省略说明。图3表示
低温泵控制装置80的结构，尤其表示与再生处理1相关联的结构。
低温泵控制装置80具备升温处理控制部86、净化处理控制部90、排气处
理控制部84、劣化判定部88及发送部96。
低温泵系统100中，在低温泵控制装置80与由低温泵控制装置80控制的
装置之间设置I/O模组(未图示)，也可设置于远离低温泵控制装置80的部
位。
在开始低温泵10的再生处理1时，升温处理控制部86中止制冷机20的
冷却运行，开始升温运行。升温处理控制部86使制冷机20内的回转阀与冷却
运行时相反地旋转，并使工作气体的吸排气的时点不同，以使工作气体产生绝
热压缩。以这样方式得到的压缩热来加热低温板48。
升温处理控制部86根据低温泵10内具备的温度传感器(未图示)取得泵
容器36内的温度的测定值，在达到再生温度时结束升温工序。
净化处理控制部90具备基本净化处理控制部92及追加净化处理控制部
94。
基本净化处理控制部92在结束升温工序之后通过关闭粗阀72且打开抽气
阀62来开始气体净化工序。基本净化处理控制部92在气体净化工序开始之后
经过了预定时间时，或者压力达到预定值时，通过关闭抽气阀62且打开粗阀
72来结束气体净化工序，开始粗抽工序。在粗抽工序开始后经过了预定时间
时，或者压力达到预定值时，基本净化处理控制部92再次打开抽气阀62，关
闭粗阀72，开始气体净化工序。
这样，基本净化处理控制部92将基本净化处理4中所包括的气体净化工
序以中间隔着粗抽工序的方式而反复实施其相应的次数。
在确定是否需要进行追加净化处理6，并确定实施追加净化处理6时，追
加净化处理控制部94控制抽气阀62及粗阀72的开闭，实施追加净化处理6。
追加净化处理6例如包括将净化气体导入30秒的1次气体净化工序。追加净
化处理6可包括多次气体净化工序和在这些气体净化工序之间实施的粗抽工
序。
本说明书中，将作为追加净化处理6实施的气体净化工序称为“再净化工
序”或“再净化”。
净化处理结束之后，排气处理控制部84使用粗抽泵70向低温泵10的外
部排出净化处理中导入的净化用气体或通过净化处理而从低温板48的表面再
气化的气体。并且，排气处理控制部84判定由压力传感器50获得的低温泵10
的内部的压力测定值是否满足预定的真空度条件，满足时，结束排气处理5。
另外，在净化等过程中泵容器36内的压力高于大气压的状态下可以使用
未图示的通气阀，而在低于大气压的状态下使用粗抽泵70来向低温泵10的外
部排出气体。
真空度条件的判定包括真空到达时间判定和真空度保持判定，所述真空到
达时间判定用于判定打开粗阀72开始真空抽取之后能否在预定时间内真空抽
取至预定压力，所述真空度保持判定用于判定停止排气之后经过了预定时间后
的压力上升值是否在预定的允许范围内。
排气处理控制部84在真空到达时间判定中判定为开始真空抽取之后无法
在预定时间内真空抽取至预定压力时，即不满足真空度到达时间基准时，确定
实施追加净化处理6。
当排气处理控制部84判定为满足真空度到达时间基准时，接着进行真空
度保持判定。
在真空度保持判定中，排气处理控制部84在泵容器36的压力达到开始真
空度保持判定的压力时关闭粗阀72并停止排气，并判定经过预定时间后的压
力上升值是否在预定允许范围内。
当经过预定时间后的压力上升值超过预定允许范围时，排气处理控制部84
判定为不满足真空度保持基准，再次实施排气处理5。
另一方面，当经过预定时间后的压力上升值为预定允许范围内时，排气处
理控制部84判定为满足真空度保持基准，结束排气处理5。若结束排气处理
5，则再生处理1就会结束，开始低温泵10的启动处理2的冷却处理7。
追加净化处理控制部94确定是否需要进行追加净化处理6。具体而言，当
连续实施排气处理5的次数即排气处理连续实施次数达到事前设定的需追加净
化基准次数时，追加净化处理控制部94确定实施追加净化处理6。
当实施基本净化处理4及排气处理5之后低温板48上还附着有少量残留
气体时，能够通过反复进行数次排气处理5来将残留的气体排出至低温泵10
的外部。
然而，残留于低温板48的气体量较多或者以不易脱离的状态附着时，大
多情况下，实施1次追加净化处理6比反复进行多次排气处理5更能尽早排出
残留气体。
以使再生处理1所需的时间的平均变得更短的方式来确定需追加净化基准
次数。例如，需追加净化基准次数可规定在1次～20次的范围，也可规定在5
次～10次的范围。
最佳的需追加净化基准次数根据低温泵10的使用条件、排气的气体的种
类等而不同，因此可根据经验法则或实验来确定需追加净化基准次数。
劣化判定部88判定1次再生处理1中需实施的追加净化处理6中所包括
的气体净化工序的总数(以下也称为“再净化次数”)是否为劣化判定基准次
数以上。
实施追加净化处理6之后，也判定为不满足真空度条件，且需要再次进行
追加净化处理6时，有可能引起低温泵10的组件等的劣化。
因此，能够通过监控再净化次数来事先察觉组件劣化的可能性。其结果，
能够在下次的维护中适当地解决，或在需要时停止运行进行检修，能够实现已
叙述的目的。
在此，劣化判定基准次数为有意地多于通常的1次再生处理1中实施的再
净化次数且在低温泵10的组件等中怀疑会产生劣化的再净化次数。劣化判定
基准次数为未发现低温泵10有问题的状态下的再净化次数的平均值加上例如
1～2的追加值的次数，例如为2～4次。
劣化判定基准次数可以为开始运转新产品低温泵10之后在1周至1个月
左右的一定的监控期间所实施的再生处理1中的再净化次数的平均值加上追加
值而获得的次数。这时，将低温泵10连接于真空装置并刚开始运转之后的一
定期间(例如1～2周左右)可以是不计算再生处理1中的再净化次数的期
间，并对之后的一定期间的再净化次数进行计数并求出平均值即可。
如此，利用实际所使用的低温泵10，并利用实际使用环境中的再净化次数
的平均值来确定劣化判定基准次数，由此能够使低温泵10的个体差异或使用
环境反映于判定条件，能够更准确地探测劣化或维护时期。
最佳的劣化判定基准次数根据使用条件、排气的气体的种类等而不同，因
此可根据经验法则或实验来确定劣化判定基准次数。
劣化判定部88判定对最近的多次再生处理1进行平均后的再净化次数是
否在劣化判定基准次数以上也可。再生处理1中的再净化次数的增加并不仅仅
起因于低温泵10的劣化，例如依赖于使用时间、排气对象气体的种类或排气
量等各种参数。因此，即使某一再生处理1的再净化次数在劣化判定基准次数
以上，也未必一定需要维护。
但是，在连续监控多次再生处理1时，当存在再净化次数成为劣化判定基
准次数以上的情况较多的倾向时，可以说低温泵10产生劣化的可能性较高，
维护的必要性较大。
通过利用对最近的多次再生处理1进行平均后的再净化次数，能够使由劣
化以外的因素所引起的再净化次数的偏差平均化，并更准确地探测低温泵10
劣化的可能性。
在此，最近的多次(以下也称为“累积次数”)为能够使再净化次数的偏
差平均化的次数，例如为2次～10次左右。
由于最佳的累积次数根据低温泵10的使用状况、例如每次使用的排气对
象气体或排气量的不同等而不同，因此可根据经验法则或实验来确定累积次
数。
当劣化判定部88判定为再净化次数达到劣化判定基准次数时，发送部96
向真空装置110发送警告。
在此，真空装置110不仅包括具有与低温泵10直接连接的真空腔室的装
置，还包括用于控制该装置的装置。
由此，能够在低温泵控制装置80突然发生故障等情况下向受到影响的真
空装置110的用户适当地通知低温泵10的状态。
发送部96还可以向设置于低温泵控制装置80的主体的显示部(未图示)
或与低温泵控制装置80连接的显示装置(未图示)发送警告并显示。由此，
能够直接向低温泵控制装置80附近的用户通知低温泵10的状态。
发送部96发送的警告中可包含紧急度信息。紧急度信息可规定为例如在
再净化次数为劣化判定基准次数以上时，其差距越大紧急度越高。
由此，能够向用户或装置提示是否需要维护低温泵10或与维护时期有关
的适当的判断材料。
若接收由发送部96发送的警告，则真空装置110实施预定的处理。
预定的处理是指通过警告信息的显示或警告音的产生而向用户发出注意唤
起处理。作为其他例子，还可以是为了避免在真空腔室中对处理中的产品或试
制品、实验材料等产生不良影响而安全地停止真空装置110的运行的处理。
当警告包含紧急度信息时，真空装置110可根据紧急度信息而实施不同的
处理。即，当接收紧急度较低的警告时，真空装置110可实施注意唤起处理，
当接收紧急度较高的警告时，可实施运行停止处理。
由此，当低温泵10存在劣化的可能性时，能够更迅速地对应。因此，能
够抑制真空装置的停机时间的突发性产生乃至低温泵对真空工艺带来的不良影
响。
基于以上结构的动作如下。
图4是表示实施方式所涉及的低温泵10的再生处理1及之后的启动处理
2。
首先，升温处理控制部86实施升温处理3(S10)。
接着，基本净化处理控制部92实施基本净化处理4(S12)。基本净化处
理4中隔着粗抽工序实施预定次数的气体净化工序。
之后，排气处理控制部84实施排气处理5。排气处理5包括对低温泵10
进行真空抽取的粗抽工序(S14)和根据真空到达时间判定及真空度保持判定
而对排气处理5是否完成进行判定的真空度条件判定(S16)。不满足真空度
条件时(S16的否)，追加净化处理控制部94实施追加净化处理6(S20)。
并且，再次实施排气处理5(S14及S16)。
满足真空度条件时(S16的是)，结束排气处理5。并且，制冷机20开始
冷却运行，对低温板48进行再冷却(S18)。若完成冷却处理7，则能够再次
开始低温泵10的真空排气运行。
图5是表示实施方式所涉及的低温泵10的再生处理1的排气处理5的详
细内容。
排气处理控制部84为了向低温泵10的外部排出净化气体或通过净化处理
而再气化的气体，打开粗阀72，通过粗抽泵70开始泵容器36内的真空抽取
(S30)。
排气处理控制部84当真空抽取开始之后经过预定时间时，进行用于判定
能否将低温泵10内的压力真空抽取至预定压力的真空到达时间判定(S32)。
当排气处理控制部84判定为不满足真空度到达时间基准时(S32的否)，
追加净化处理控制部94实施追加净化处理6(图4的S20)。当排气处理控制
部84判定为满足真空度到达时间基准时(S32的是)，关闭粗阀72并停止真
空抽取(S34)。
接着，排气处理控制部84进行真空度保持判定(S36)。
当经过预定时间时的压力上升值超过预定允许范围时，排气处理控制部84
判定为不满足真空度保持基准(S36的否)。此时，追加净化处理控制部94根
据排气处理5的连续实施次数确定是否需要进行追加净化处理6(S38)。
当排气处理5的连续实施次数未达到需追加净化基准次数时(S38的
否)，追加净化处理控制部94确定不进行追加净化处理6，排气处理控制部
84再次实施排气处理5(S30)。
另一方面，当排气处理5的连续实施次数达到需追加净化基准次数时
(S38的是)，追加净化处理控制部94确定实施追加净化处理6。
劣化判定部88对再生处理1中的再净化次数是否为劣化判定基准次数以
上进行判定(S40)。
当再净化次数为劣化判定基准次数以上时(S40的是)，发送部96向真空
装置110发送警告，追加净化处理控制部94实施追加净化处理6(图4的
S20)。
当再净化次数未达到劣化判定基准次数时(S40的否)，警告不会被发
送。此时，追加净化处理控制部94也实施追加净化处理6(图4的S20)。
当排气处理控制部84判定为满足真空度保持基准时(S36的是)，排气处
理控制部84结束排气处理5。由此，再生处理1结束，开始低温泵10的启动
处理2的冷却处理7(图4的S18)。
如此，根据本实施方式，能够利用作为通常的低温泵10的运转循环的一
环而进行的再生处理1来监控低温泵10的劣化。
另外，当劣化判定部88对该再生处理1中的再净化次数进行计数时，可
按判断为需要进行追加净化处理6的理由分类，并对各自的再净化次数进行计
数，利用其任一个或双方判定劣化。
即，可对由于不满足真空到达时间判定条件而判定为需要的(S32的否)
追加净化处理6的气体净化工序(以下也称为“真空到达时间起因再净
化”)、和由于连续实施预定次数以上排气处理5而判定为需要的(S38的
是)追加净化处理6的气体净化工序(以下也称为“连续排气处理起因再净
化”)分别单独计数。此时，可对真空到达时间起因再净化和连续排气处理起
因再净化分别设定不同的劣化判定基准次数。
此时，不仅察觉维护的必要性，还能够限定低温泵10中的不良情况部
位。
图6表示实施方式所涉及的低温泵10的再生处理1的变形例及之后的启
动处理2。
变形例所涉及的再生处理1也具有与图1相同的结构，但是排气处理5包
括第1排气处理和第2排气处理。
第1排气处理将低温泵10内从实施净化处理时的低温泵10内的压力排气
至第1压力级别。第2排气处理将低温泵10内从第1压力级别排气至第2压
力级别，该第2压力级别用作起动低温泵10时的低温泵10内的压力(以下也
称为“基本压力”)。
第1压力级别低于实施净化处理时的低温泵10内的压力且高于基本压
力。另外，本说明书中还将第1压力级别称为“中间压力”。
再生处理1中，首先由升温处理控制部86实施升温处理3(S50)。
接着，基本净化处理控制部92实施基本净化处理4(S52)。基本净化处
理4中，隔着粗抽工序实施预定次数的多次气体净化工序。
接着，排气处理控制部84实施第1排气处理。第1排气处理包括从实施
净化处理时的低温泵10内的压力真空抽取至中间压力附近的第1粗抽工序
(S54)、和根据第1真空到达时间判定及第1真空度保持判定来对第1排气
处理是否完成进行判定的第1真空度条件判定(S56)。当不满足第1真空度
条件时(S56的否)，追加净化处理控制部94实施追加净化处理6(S64)。
当满足第1真空度条件时(S56的是)，结束第1排气处理。
接着，排气处理控制部84实施第2排气处理。第2排气处理包括从中间
压力真空抽取至基本压力的第2粗抽工序(S58)、和根据第2真空到达时间
判定或第2真空度保持判定来对第2排气处理是否完成进行判定的第2真空度
条件判定(S60)。当不满足第2真空度条件时(S60的否)，追加净化处理控
制部94实施追加净化处理6(S64)。
当满足第2真空度条件时(S60的是)，结束第2排气处理。
若第1排气处理及第2排气处理完成，则经过冷却处理7，能够再次开始
低温泵10的真空排气运行。
图7表示实施方式所涉及的低温泵10的再生处理1的变形例中的第1排
气处理的详细内容。
排气处理控制部84打开粗阀72，并基于粗抽泵70开始泵容器36内的真
空抽取(S70)。
排气处理控制部84在开始真空抽取之后经过预定时间时，进行判定低温
泵10内的压力是否达到中间压力的第1真空到达时间判定(S72)。具体而
言，判定例如是否在1分钟以内真空抽取至200Pa以下的压力。
当排气处理控制部84判定为不满足真空度到达时间基准时(S72的否)，
追加净化处理控制部94实施追加净化处理6(图6的S64)。当排气处理控制
部84判定为满足真空度到达时间基准时(S72的是)，关闭粗阀72并停止真
空抽取(S74)。
接着，排气处理控制部84进行第1真空度保持判定(S76)。具体而言，
例如判定停止排气后30秒之后的压力是否为230Pa以下。
当排气处理控制部84判定为不满足第1真空度保持基准时(S76的否)，
追加净化处理控制部94根据第1排气处理的连续实施次数确定是否需要进行
追加净化处理6(S78)。
当第1排气处理的连续实施次数未达到第1需追加净化基准次数时(S78
的否)，追加净化处理控制部94确定不进行追加净化处理6。第1需追加净化
基准次数可规定在1～20次的范围，例如为5次。此时，排气处理控制部84
再次实施第1排气处理(S70)。
另一方面，当第1排气处理的连续实施次数达到第1需追加净化基准次数
时(S78的是)，追加净化处理控制部94确定实施追加净化处理6。劣化判定
部88判定在第1排气处理中被判定为需要的再净化次数是否在第1劣化判定
基准次数以上(S80)。第1劣化判定基准次数例如为2次。当在第1排气处
理中被判定为需要的再净化次数在第1劣化判定基准次数以上时(S80的
是)，发送部96向真空装置110发送警告(S82)。并且，追加净化处理控制
部94实施追加净化处理6(图6的S64)。当再净化次数未达到第1劣化判定
基准次数时(S80的否)，警告未被发送。此时，追加净化处理控制部94也实
施追加净化处理6(图6的S64)。
当排气处理控制部84判定满足第1真空度保持基准时(S76的是)，结束
第1排气处理，开始第2排气处理(图6的S58)。
图8表示实施方式所涉及的低温泵10的再生处理1的变形例中的第2排
气处理的详细内容。
排气处理控制部84打开粗阀72，并基于粗抽泵70开始泵容器36内的真
空抽取(S84)。
排气处理控制部84在开始真空抽取之后经过预定时间时，进行判定低温
泵10内的压力能否真空抽取至基本压力的第2真空到达时间判定(S86)。具
体而言，判定例如是否在5分钟以内真空抽取至基本压力以下。基本压力例如
规定在1～50Pa的范围内。作为一例，基本压力为10Pa左右。
当排气处理控制部84判定为不满足真空度到达时间基准时(S86的否)，
追加净化处理控制部94实施追加净化处理6(图6的S64)。排气处理控制部
84判定为满足真空度到达时间基准时(S86的是)，关闭粗阀72并停止真空
抽取(S88)。
接着，排气处理控制部84进行判定停止排气之后经过预定时间时的压力
上升值是否在预定允许范围内的第2真空度保持判定(S90)。所允许的压力
上升的上限值例如规定在1～50Pa的范围内。作为一例，可规定为5Pa左右。
将基本压力设为10Pa，所允许的压力上升的上限值设为5Pa时，排气处理控制
部84例如判定1分钟后的压力是否为15Pa以下。
当排气处理控制部84判定为不满足第2真空度保持基准时(S90的否)，
追加净化处理控制部94根据第2排气处理的连续实施次数确定是否需要进行
追加净化处理6(S92)。
当第2排气处理的连续实施次数未达到第2需追加净化基准次数时(S92
的否)，追加净化处理控制部94确定不进行追加净化处理6。第2需追加净化
基准次数可规定在1～20次的范围内，例如为10次。此时，排气处理控制部
84再次实施第2排气处理(S84)。
另一方面，第2排气处理的连续实施次数达到第2需追加净化基准次数时
(S92的是)，追加净化处理控制部94确定实施追加净化处理6。劣化判定部
88判定在第2排气处理中被判定为需要的再净化次数是否为第2劣化判定基准
次数以上(S94)。第2劣化判定基准次数例如为3次。在第2排气处理中被
判定为需要的再净化次数为第2劣化判定基准次数以上时(S94的是)，发送
部96向真空装置110发送警告(S96)。并且，追加净化处理控制部94实施
追加净化处理6(图6的S64)。当再净化次数未达到第2劣化判定基准次数
时(S94的否)，警告未被发送。此时，追加净化处理控制部94也实施追加净
化处理6(图6的S64)。
当排气处理控制部84判定为满足第2真空度保持基准时(S90的是)，结
束第2排气处理。并且，开始冷却处理7(图6的S62)。
如此，分成2个阶段实施排气处理5时，通过在各个排气工序中个别进行
劣化判定，能够察觉维护的必要性以及限定低温泵10中的不良情况部位。
以上，根据实施方式对本发明进行了说明。本发明不限于上述实施方式，
本领域技术人员应该理解可进行各种设计变更，可为各种变形例，以及这种变
形例也属于本发明范围。
实施方式中，对利用再净化次数监控低温泵10的劣化状况的例子进行了
说明，但可利用其他再生处理1中的参数监控低温泵10的劣化状况。
例如可将再生处理1的升温处理3所需的升温时间及再生处理1结束后的
冷却处理7所需的冷却时间设为参数。此时，升温处理控制部86判定再生处
理1中的实际升温时间是否长于升温劣化基准时间，当实际升温时间长于升温
劣化基准时间时，发送部96发送警告。
同样地，升温处理控制部86判定再生处理1中的实际冷却时间是否长于
冷却劣化基准时间，当实际冷却时间长于冷却劣化基准时间时，发送部96发
送警告。
在此，升温时间是指例如在再生处理1中制冷机20停止冷却运行并开始
反转运行之后低温泵10的温度达到再生温度所需的时间。
并且，冷却时间是指结束再生处理1之后并由制冷机20开始冷却运行之
后为了将低温板48冷却至预定的低温泵动作温度而所需的时间。
升温劣化基准时间及冷却劣化基准时间可按每个低温泵10的机种进行确
定，或者也可在新品低温泵10开始运转之后，在一周至1个月左右的一定期
间内实施的再生处理1中的升温时间或冷却时间的平均值上乘以预定系数来算
出。预定系数例如可以为1.5～2左右。这时，也可将低温泵10与真空装置
110连接并刚开始运转之后(例如1周～1个月左右)的再生处理1中的升温
时间及冷却时间作为求平均值时不考虑在内的期间，测量之后一定期间的升温
时间及冷却时间来求出平均值。
根据该变形例，能够利用作为通常的低温泵10的运转循环的一环而进行
的再生处理1及之后的启动处理2中的升温时间和冷却时间的测定值来监控低
温泵10的劣化。
由此，不用特别设置用于检查的时间以及不用特别设置监控用的装置，能
够事先察觉维护的必要性，并能够抑制突然产生真空装置110的停机时间。
此外，可组合实施利用了再净化次数的监控与利用了升温时间及冷却时间
的监控。如此，通过合并利用多个参数，不仅察觉维护的必要性，还能够限定
低温泵10中的不良情况部位，而且还能够预测需更换的组件等，能够进一步
实现更详细的监控。