低温泵控制装置、低温泵系统及低温泵监控方法.pdf

1、(10)申请公布号 CN 102828929 A(43)申请公布日 2012.12.19CN102828929A*CN102828929A*(21)申请号 201210182114.3(22)申请日 2012.06.052011-132685 2011.06.14 JPF04B 37/08(2006.01)F04B 49/00(2006.01)(71)申请人住友重机械工业株式会社地址日本东京都(72)发明人小山知大(74)专利代理机构广州三环专利代理有限公司 44202代理人温旭 郝传鑫(54) 发明名称低温泵控制装置、低温泵系统及低温泵监控方法(57) 摘要本发明提供一种能够有效地监控低温泵

2、的劣化的低温泵控制装置、低温泵系统及低温泵的监控方法。本发明中的低温泵具备对气体进行冷却并使其冷凝或吸附的低温板、及容纳低温板的泵容器。低温泵的再生处理包括基本净化处理、排气处理、必要情况下进行追加实施的追加净化处理。追加净化处理包括1次以上气体净化工序。控制低温泵的低温泵控制装置(80)中，劣化判定部(88)判定在1次再生处理中需要追加实施的气体净化工序的总数即再净化次数是否达到劣化判定基准次数。(30)优先权数据(51)Int.Cl.权利要求书2页 说明书13页 附图8页(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请权利要求书 2 页 说明书 13 页 附图 8 页1/2页21.

3、一种低温泵控制装置，其控制低温泵，且所述低温泵具备对气体进行冷却并使该气体冷凝或吸附的低温板及容纳所述低温板的泵容器，所述低温泵控制装置的特征在于，所述低温泵的再生处理包括：基本净化处理，包括1次以上的气体净化工序；1次以上的排气处理，对泵容器内进行真空抽取直至达到真空度保持判定级别之后，对真空度保持状态进行判定；追加净化处理，包括1次以上的气体净化工序，该追加净化处理在必要情况下追加实施1次以上，所述低温泵控制装置具备劣化判定部，该劣化判定部用于判定再净化次数是否达到劣化判定基准次数，所述再净化次数为在1次再生处理中需实施的1次以上的追加净化处理中所包括的1次以上的气体净化工序的总数。2.如

4、权利要求1所述的低温泵控制装置，其特征在于，所述劣化判定部判定对多次再生处理进行平均后的再净化次数是否达到劣化判定基准次数。3.如权利要求1或2所述的低温泵控制装置，其特征在于，所述低温泵控制装置还具备：排气处理控制部；及追加净化处理控制部，该追加净化处理控制部确定是否需要进行追加净化处理，在所述真空度保持状态的判定中判定为泵容器内真空度保持状态不满足真空度保持基准时，所述排气处理控制部确定再次实施排气处理，在排气处理的连续实施次数达到需追加净化基准次数时，所述追加净化处理控制部确定实施追加净化处理。4.如权利要求13中任一项所述的低温泵控制装置，其特征在于，所述低温泵控制装置还具备发送部，当

5、所述劣化判定部判定为再净化次数达到劣化判定基准次数时，所述发送部发送警告。5.一种低温泵系统，其具备：低温泵，该低温泵具备对气体进行冷却并使该气体冷凝或吸附的低温板及容纳所述低温板的泵容器，所述低温泵的再生处理包括：基本净化处理，包括1次以上的气体净化工序；1次以上的排气处理，对泵容器内进行真空抽取直至达到真空度保持判定级别之后，对真空度保持状态进行判定；追加净化处理，包括1次以上的气体净化工序，该追加净化处理在必要情况下追加实施1次以上，低温泵控制装置，用于控制所述低温泵，所述低温泵系统的特征在于，所述低温泵控制装置具备劣化判定部，该劣化判定部用于判定再净化次数是否达到劣化判定基准次数，所述

6、再净化次数为在1次再生处理中需实施的1次以上的追加净化处理中所包括的1次以上的气体净化工序的总数。6.如权利要求5所述的低温泵系统，其特征在于，所述低温泵系统还具备为了对气体进行排气而连接所述低温泵的真空装置，所述低温泵控制装置还具备发送部，当判定为再净化次数达到劣化判定基准次数时，所述发送部发送警告，所述真空装置接收由所述发送部发送的警告，并进行预定的处理。7.一种低温泵监控方法，其对低温泵进行监控，所述低温泵具备对气体进行冷却并使权 利 要 求 书CN 102828929 A2/2页3该气体冷凝或吸附的低温板及容纳所述低温板的泵容器，所述低温泵的再生处理包含：基本净化处理，包括1次以上的气

7、体净化工序；1次以上的排气处理，对泵容器内进行真空抽取直至达到真空度保持判定级别之后，对真空度保持状态进行判定；追加净化处理，包括1次以上的气体净化工序，该追加净化处理在必要情况下追加实施1次以上，所述低温泵监控方法的特征在于，判定再净化次数是否达到劣化判定基准次数，所述再净化次数为在1次再生处理中需实施的1次以上的追加净化处理中所包括的1次以上的气体净化工序的总数。权 利 要 求 书CN 102828929 A1/13页4低温泵控制装置、 低温泵系统及低温泵监控方法技术领域0001 本发明涉及一种真空技术，尤其涉及一种低温泵控制装置、低温泵系统及低温泵的监控方法。背景技术0002 低温泵为实

8、现清洁的高真空环境的真空泵，例如为了将在半导体电路制造工艺中使用的真空腔室保持为高真空而利用该低温泵。低温泵通过由制冷机冷却为超低温的低温板使气体分子冷凝或吸附并积存，由此从真空腔室排出气体。0003 若低温板被冷凝成固体的气体覆盖或者吸附的气体接近低温板的吸附剂的最大吸附量，则低温泵的排气能力下降。因此，适当地实施将被冷凝等的气体向低温泵外部排除的再生处理。0004 再生处理中，提高低温板的温度来使积存于低温泵内的气体气化或液化并排出。0005 再生处理之后，通过将低温板冷却至超低温而能够再次使用低温泵。0006 专利文献1中记载有在结束低温泵的再生处理之后，在起动低温泵之前判定有无产生外部

9、泄漏的低温泵的启动方法。0007 专利文献1：日本专利公开平9-166078号公报0008 为了以良好的状态继续使用低温泵，除了进行再生处理之外，例如还需要进行大修等维护。0009 确定维护的频率或时点时，例如以使用次数或使用时间为基准。0010 然而，低温泵的各组件的劣化状况或污染的程度根据使用条件大不相同，因此不能一概地确定适当的维护时点。0011 由于因低温泵的维护而导致真空腔室无法使用的停机时间增加，真空处理系统的运转率降低，因此欲在重视生产率的制造现场将维护频率抑制到最小限。0012 然而，当组件等的劣化比预测提前进行时，还有可能在实施定期检查或大修之前，预想不到地产生低温泵故障，而

10、且真空装置的停机时间也可能突然出现。这种状况对制造计划带来不良影响。发明内容0013 本发明是鉴于这种情况而完成的，其目的在于提供能够有效地掌握低温泵的劣化的低温泵控制装置、低温泵系统及低温泵的监控方法。0014 为了解决上述课题，本发明的一种方式的低温泵控制装置用于控制具备对气体进行冷却并使其冷凝或吸附的低温板及容纳低温板的泵容器的低温泵，其中，低温泵的再生处理包括：基本净化处理，包括1次以上的气体净化工序；1次以上的排气处理，对泵容器内进行真空抽取直至达到真空度保持判定级别之后，对真空度保持状态进行判定；追加净化处理，包括1次以上的气体净化工序，该追加净化处理在必要情况下追加实施1次以上。

11、该低温泵控制装置具备劣化判定部，该劣化判定部用于判定再净化次数是否达到劣化判定基说 明 书CN 102828929 A2/13页5准次数，所述再净化次数为在1次再生处理中需实施的1次以上的追加净化处理中所包括的1次以上的气体净化工序的总数。0015 根据该方式，能够利用例如作为低温泵的通常运行周期的一环而进行的再生处理来判定低温泵的劣化状态。0016 本发明的其他方式的低温泵系统包括低温泵和低温泵控制装置，所述低温泵具备对气体进行冷却并使其冷凝或吸附的低温板及容纳低温板的泵容器，所述低温泵的再生处理包括：基本净化处理，包括1次以上的气体净化工序；1次以上的排气处理，对泵容器内进行真空抽取直至达

12、到真空度保持判定级别之后，对真空度保持状态进行判定；追加净化处理，包括1次以上的气体净化工序，该追加净化处理在必要情况下追加实施1次以上，所述低温泵控制装置用于控制低温泵，其中，低温泵控制装置具备劣化判定部，该劣化判定部用于判定再净化次数是否达到劣化判定基准次数，所述再净化次数为在1次再生处理中需实施的1次以上的追加净化处理中所包括的1次以上的气体净化工序的总数。0017 本发明的另一其他方式的低温泵监控方法用于监控低温泵，所述低温泵具备对气体进行冷却并使其冷凝或吸附的低温板及容纳低温板的泵容器，所述低温泵的再生处理包括：基本净化处理，包括1次以上的气体净化工序；1次以上的排气处理，对泵容器内

13、进行真空抽取直至达到真空度保持判定级别之后，对真空度保持状态进行判定；追加净化处理，包含1次以上的气体净化工序，该追加净化处理在必要情况下追加实施1次以上，其中，所述低温泵监控方法用于判定再净化次数是否达到劣化判定基准次数，所述再净化次数为在1次再生处理中需实施的1次以上的追加净化处理中所包括的1次以上的气体净化工序的总数。0018 另外，以上构成要件的任意组合及在方法、装置、系统、记录介质、计算机程序等之间转换本发明的表现的形态也作为本发明的方式而有效。0019 发明效果0020 根据本发明，能够有效地监控低温泵的劣化。附图说明0021 图1是表示实施方式所涉及的低温泵的再生方法的图。002

14、2 图2是示意地表示实施方式所涉及的低温泵系统的图。0023 图3是示意地表示实施方式所涉及的低温泵系统的图。0024 图4是表示实施方式所涉及的低温泵的再生处理及之后的启动处理的流程图。0025 图5是表示实施方式所涉及的低温泵的再生处理中的排气处理的详细内容的流程图。0026 图6是表示实施方式所涉及的低温泵的再生处理的变形例及之后的启动处理的流程图。0027 图7是表示实施方式所涉及的低温泵的再生处理的变形例中的第1排气处理的详细内容的流程图。0028 图8是表示实施方式所涉及的低温泵的再生处理的变形例中的第2排气处理的详细内容的流程图。0029 图中：10-低温泵，36-泵容器，48-

15、低温板，80-低温泵控制装置，84-排气处理控说 明 书CN 102828929 A3/13页6制部，88-劣化判定部，90-净化处理控制部，94-追加净化处理控制部，96-发送部，100-低温泵系统，110-真空装置。具体实施方式0030 首先，对本发明的实施方式的概要进行说明。0031 为了有效地掌握低温泵的劣化状况，优选在低温泵系统中安装监控功能或自我诊断功能，监控低温泵的运行状态。0032 本发明人想到，通过利用作为低温泵的通常操作的一环而进行的再生处理来监控低温泵的动作，能够监控低温泵的劣化状况并准确掌握维护时期。0033 图1表示实施方式所涉及的低温泵的再生处理1及启动处理2。00

16、34 再生处理1包括：升温处理3，使积存在低温泵内的气体进行气化或液化；净化处理，为了促进冷凝或吸附于低温板上的气体的脱离而导入氮等净化用气体(以下也称为“净化气体” )；排气处理5(即5a5d)，对低温泵内的气体进行排气。净化处理原则上包括每次都应实施的基本净化处理4及之后根据需要实施的追加净化处理6。0035 当判断为各处理之后的状态不满足基准时，反复实施相同的处理或实施追加处理。在图1中，用虚线表示的处理仅在需要时实施。0036 升温处理3包括升温工序和温度判定。升温工序中，通过停止低温泵的冷却运行并停置、或用加热器加热、或者利用使制冷机的置换器的行程与气体吸排气的时点改变而形成的绝热压

17、缩所获得的热，将低温板的温度升高至再生温度。再生温度典型地为设置低温泵的部位或其附近的温度(以下也称为“环境温度”)，例如为300K左右。0037 升温处理3持续至低温板温度的测定值达到再生温度，若判定为达到了再生温度时，结束升温处理3。0038 基本净化处理4包括分别预先设定了次数的气体净化工序和粗抽工序，所述气体净化工序用于向低温泵10内导入净化用气体，所述粗抽工序用于停止净化用气体的导入并排出低温泵10内的气体。图1的基本净化处理4中气体净化工序隔着粗抽工序反复进行3次。0039 追加净化处理6包括1次气体净化工序。0040 基本净化处理4或追加净化处理6中存在变化，例如基本净化处理4中

18、可以仅实施1次气体净化工序，在追加净化处理6中也可以隔着粗抽工序反复进行多次气体净化工序。0041 在基本净化处理4及追加净化处理6之后分别实施排气处理5。排气处理5包括：粗抽工序，对低温泵10内进行真空抽取；真空到达时间判定，判定是否在规定时间内达到规定的真空度；真空度保持判定，检查是否在停止真空抽取的状态下保持真空度。对于真空度保持判定的结果，当判断为需要进一步的排气处理5时，反复实施排气处理5。0042 在图1的例子中，在基本净化处理4之后实施排气处理5a、5b及5c，在追加净化处理6之后实施排气处理5d。在本说明书中，将各个排气处理5a5d简单地统称为“排气处理5”。0043 另外，如

19、后所述，排气处理5还可分为第1排气处理和第2排气处理进行实施，第1排气处理排气至第1级别，第2排气处理排气至第2级别。说 明 书CN 102828929 A4/13页70044 若排气处理5结束，则再生处理1就会结束，经过包括冷却处理7的启动处理2，成为可再次使用低温泵的状态。0045 再生处理1中，在各处理后的状态不满足基准而反复实施相同处理或实施追加处理时，低温泵的性能有可能劣化。0046 实施方式所涉及的低温泵控制装置通过例如监控作为追加净化处理6而实施的气体净化工序的次数来检测低温泵的性能劣化。0047 以下参考附图，对本发明的实施方式所涉及的低温泵系统的结构进行说明。0048 图2示

20、意地表示实施方式所涉及的低温泵系统100。低温泵系统100具备低温泵10、压缩机34、净化气体供给装置60、粗抽泵70及低温泵控制装置80。低温泵10安装于例如离子注入装置或溅射装置等真空装置的真空腔室内，并用于将真空腔室内部的真空度提高至期望工艺所要求的级别。0049 低温泵10包括泵容器36、放射屏蔽44、低温板48及制冷机20。0050 制冷机20为例如吉福德-麦克马洪式制冷机(所谓GM制冷机)等制冷机。制冷机20具备第1工作缸22、第2工作缸24、第1冷却台26、第2冷却台28及阀驱动马达30。第1工作缸22与第2工作缸24串联连接。在第1工作缸22的与第2工作缸24的结合部侧设置第1

21、冷却台26，在第2工作缸24的远离第1工作缸22侧的端部设置第2冷却台28。图1所示的制冷机20为2级式制冷机，将工作缸串联地进行2级组合来实现更低的温度。制冷机20通过制冷剂管32连接于压缩机34。0051 压缩机34压缩氦等制冷剂气体即工作气体，通过制冷剂管32供给至制冷机20。制冷机20通过蓄冷器使工作气体冷却，同时使其首先在第1工作缸22内部的膨胀室中膨胀，接着在第2工作缸24内部的膨胀室中膨胀并进一步冷却。蓄冷器组装于膨胀室内部。由此，设置于第1工作缸22的第1冷却台26冷却至第1冷却温度级别，而设置于第2工作缸24的第2冷却台28冷却至低于第1冷却温度级别的第2冷却温度级别。例如，

22、第1冷却台26冷却至65K100K的程度，而第2冷却台28冷却至10K20K的程度。0052 通过在膨胀室依次膨胀来吸热并将各冷却台冷却后的工作气体再次通过蓄冷器并经由制冷剂管32返回至压缩机34。工作气体从压缩机34至制冷机20、并从制冷机20至压缩机34的流动能够通过制冷机20内的回转阀(未图示)切换。阀驱动马达30从外部电源接受电力供给并使回转阀旋转。0053 泵容器36具有形成为一端具有开口且另一端闭塞的圆筒状形状的部位(以下称为“躯体部” )38。泵容器36的开口设置为用于收容应从连接低温泵的真空装置的真空腔室排出的气体的泵口42。泵口42由泵容器36的躯体部38的上端部内表面划分构

23、成。0054 另外，在泵容器36的躯体部38的上端朝向径向外侧延伸有安装凸缘40。低温泵10利用安装凸缘40通过未图示的闸阀安装于真空装置的真空腔室。0055 泵容器36为了隔开低温泵10的内部和外部而设置。泵容器36的内部气密地保持为共同的压力。由此，泵容器36在低温泵10的排气运行期间作为真空容器发挥作用。泵容器36的外表面即使在低温泵10工作时，即在制冷机执行冷却操作期间也暴露于低温泵10外部的环境中，因此维持在高于放射屏蔽44的温度。泵容器36的温度典型地维持在环境温度。0056 另外，泵容器36的内部设置有压力传感器50。压力传感器50对泵容器36的内部说 明 书CN 1028289

24、29 A5/13页8压力定期或者在接受了指示的时点进行测定，并将表示测定压力的信号发送至低温泵控制装置80。压力传感器50和低温泵控制装置80以能够通信的方式连接。0057 压力传感器50具有较宽的测量范围，该范围包括通过低温泵10而实现的较高的真空级别和大气压级别双方。优选至少将在再生处理1期间所产生的压力范围包含于测量范围内。另外，真空级别的测定用压力传感器和大气压级别的测定用压力传感器可以单独地设置于低温泵10。0058 放射屏蔽44配设于泵容器36的内部。放射屏蔽44形成为一端具有开口且另一端闭塞的圆筒状形状，即杯状的形状。泵容器36的躯体部38及放射屏蔽44均形成为大致圆筒状，并配设

25、于同轴上。泵容器36的躯体部38的内径稍微大于放射屏蔽44的外径，放射屏蔽44以与泵容器36的躯体部38的内表面之间保持若干间隔且与泵容器36并不接触的状态配置。即，放射屏蔽44的外表面与泵容器36的内表面对置。0059 放射屏蔽44作为主要保护第2冷却台28及热连接于该第2冷却台的低温板48免受泵容器36的辐射热的放射屏蔽而设置。第2冷却台28在放射屏蔽44的内部配置于放射屏蔽44的大致中心轴上。放射屏蔽44以热连接的状态固定于第1冷却台26，被冷却为和第1冷却台26相同程度的温度。0060 低温板48例如包括各自具有圆锥台侧面形状的多个板。低温板48热连接于第2冷却台28。低温板48的各板

26、的背面即远离泵口42侧的面上通常粘附有活性碳等吸附剂(未图示)。0061 为了保护第2冷却台28及热连接于该第2冷却台的低温板48免受来自真空腔室等的辐射热，放射屏蔽44的开口侧的端部设置有挡板46。挡板46形成为例如百叶窗结构或人字形结构。挡板46热连接于放射屏蔽44，被冷却为和放射屏蔽44相同程度的温度。0062 低温泵控制装置80根据第1冷却台26或第2冷却台28的冷却温度控制制冷机20。为此，也可以在第1冷却台26或第2冷却台28设置温度传感器(未图示)。低温泵控制装置80也可通过控制阀驱动马达30的运行频率来控制冷却温度。低温泵控制装置80还用于控制后述各阀。0063 泵容器36和粗

27、抽泵70由粗排气管74连接。粗排气管74上设置粗阀72。通过低温泵控制装置80控制粗阀72的开闭，使粗抽泵70与低温泵10之间导通或截断。0064 粗抽泵70例如用于在通过低温泵开始排气前的准备阶段对泵容器36内粗略地进行真空抽取。0065 打开粗阀72且使粗抽泵70动作，由此能够通过粗抽泵70对泵容器36的内部进行真空抽取。0066 泵容器36和用于供给例如氮气等净化用气体的净化气体供给装置60由净化气体导入管64连接。净化气体导入管64上设置抽气阀62。通过低温泵控制装置80控制抽气阀62的开闭。通过开闭抽气阀62来控制净化气体向低温泵10的供给。0067 泵容器36可以与作为所谓的安全阀

28、而发挥作用的通气阀(未图示)连接。并且，粗阀72及抽气阀62可分别设置于泵容器36的与粗排气管74或净化气体导入管64连接的部分。0068 在开始低温泵10的排气运行时，首先，在该工作之前通过粗阀72且用粗抽泵70将泵容器36的内部粗抽至1Pa左右。通过压力传感器50测定压力。之后，使低温泵10工说 明 书CN 102828929 A6/13页9作。在基于低温泵控制装置80的控制下，通过制冷机20的驱动冷却第1冷却台26及第2冷却台28，与这些冷却台热连接的放射屏蔽44、挡板46及低温板48也被冷却。0069 被冷却后的挡板46冷却从真空腔室朝向低温泵10内部飞来的气体分子，使在该冷却温度下蒸

29、气压充分变低的气体(例如水分等)冷凝在表面。在挡板46的冷却温度下蒸气压不会充分变低的气体通过挡板46进入放射屏蔽44内部。进入的气体分子中蒸气压在低温板48的冷却温度下充分变低的气体冷凝在低温板48的表面。蒸气压在该冷却温度下也未充分变低的气体(例如氢等)通过粘附于低温板48的表面并被冷却了的吸附剂吸附。这样，低温泵10使安装端的真空腔室的真空度达到期望的级别。0070 在开始排气运行后经过预定时间时或发现因排气的气体层积在低温板48上而排气能力下降时，进行低温泵10的再生处理1。0071 低温泵10的再生处理1通过低温泵控制装置80控制。0072 图3示意地表示实施方式所涉及的低温泵系统1

30、00。低温泵系统100可以构成为包括连接低温泵的真空装置110。0073 对已叙述的构成要件，在图3中也附加相同的符号，省略说明。图3表示低温泵控制装置80的结构，尤其表示与再生处理1相关联的结构。0074 低温泵控制装置80具备升温处理控制部86、净化处理控制部90、排气处理控制部84、劣化判定部88及发送部96。0075 低温泵系统100中，在低温泵控制装置80与由低温泵控制装置80控制的装置之间设置I/O模组(未图示)，也可设置于远离低温泵控制装置80的部位。0076 在开始低温泵10的再生处理1时，升温处理控制部86中止制冷机20的冷却运行，开始升温运行。升温处理控制部86使制冷机20

31、内的回转阀与冷却运行时相反地旋转，并使工作气体的吸排气的时点不同，以使工作气体产生绝热压缩。以这样方式得到的压缩热来加热低温板48。0077 升温处理控制部86根据低温泵10内具备的温度传感器(未图示)取得泵容器36内的温度的测定值，在达到再生温度时结束升温工序。0078 净化处理控制部90具备基本净化处理控制部92及追加净化处理控制部94。0079 基本净化处理控制部92在结束升温工序之后通过关闭粗阀72且打开抽气阀62来开始气体净化工序。基本净化处理控制部92在气体净化工序开始之后经过了预定时间时，或者压力达到预定值时，通过关闭抽气阀62且打开粗阀72来结束气体净化工序，开始粗抽工序。在粗

32、抽工序开始后经过了预定时间时，或者压力达到预定值时，基本净化处理控制部92再次打开抽气阀62，关闭粗阀72，开始气体净化工序。0080 这样，基本净化处理控制部92将基本净化处理4中所包括的气体净化工序以中间隔着粗抽工序的方式而反复实施其相应的次数。0081 在确定是否需要进行追加净化处理6，并确定实施追加净化处理6时，追加净化处理控制部94控制抽气阀62及粗阀72的开闭，实施追加净化处理6。追加净化处理6例如包括将净化气体导入30秒的1次气体净化工序。追加净化处理6可包括多次气体净化工序和在这些气体净化工序之间实施的粗抽工序。0082 本说明书中，将作为追加净化处理6实施的气体净化工序称为“

33、再净化工序”或“再净化”。说 明 书CN 102828929 A7/13页100083 净化处理结束之后，排气处理控制部84使用粗抽泵70向低温泵10的外部排出净化处理中导入的净化用气体或通过净化处理而从低温板48的表面再气化的气体。并且，排气处理控制部84判定由压力传感器50获得的低温泵10的内部的压力测定值是否满足预定的真空度条件，满足时，结束排气处理5。0084 另外，在净化等过程中泵容器36内的压力高于大气压的状态下可以使用未图示的通气阀，而在低于大气压的状态下使用粗抽泵70来向低温泵10的外部排出气体。0085 真空度条件的判定包括真空到达时间判定和真空度保持判定，所述真空到达时间判

34、定用于判定打开粗阀72开始真空抽取之后能否在预定时间内真空抽取至预定压力，所述真空度保持判定用于判定停止排气之后经过了预定时间后的压力上升值是否在预定的允许范围内。0086 排气处理控制部84在真空到达时间判定中判定为开始真空抽取之后无法在预定时间内真空抽取至预定压力时，即不满足真空度到达时间基准时，确定实施追加净化处理6。0087 当排气处理控制部84判定为满足真空度到达时间基准时，接着进行真空度保持判定。0088 在真空度保持判定中，排气处理控制部84在泵容器36的压力达到开始真空度保持判定的压力时关闭粗阀72并停止排气，并判定经过预定时间后的压力上升值是否在预定允许范围内。0089 当经

35、过预定时间后的压力上升值超过预定允许范围时，排气处理控制部84判定为不满足真空度保持基准，再次实施排气处理5。0090 另一方面，当经过预定时间后的压力上升值为预定允许范围内时，排气处理控制部84判定为满足真空度保持基准，结束排气处理5。若结束排气处理5，则再生处理1就会结束，开始低温泵10的启动处理2的冷却处理7。0091 追加净化处理控制部94确定是否需要进行追加净化处理6。具体而言，当连续实施排气处理5的次数即排气处理连续实施次数达到事前设定的需追加净化基准次数时，追加净化处理控制部94确定实施追加净化处理6。0092 当实施基本净化处理4及排气处理5之后低温板48上还附着有少量残留气体

36、时，能够通过反复进行数次排气处理5来将残留的气体排出至低温泵10的外部。0093 然而，残留于低温板48的气体量较多或者以不易脱离的状态附着时，大多情况下，实施1次追加净化处理6比反复进行多次排气处理5更能尽早排出残留气体。0094 以使再生处理1所需的时间的平均变得更短的方式来确定需追加净化基准次数。例如，需追加净化基准次数可规定在1次20次的范围，也可规定在5次10次的范围。0095 最佳的需追加净化基准次数根据低温泵10的使用条件、排气的气体的种类等而不同，因此可根据经验法则或实验来确定需追加净化基准次数。0096 劣化判定部88判定1次再生处理1中需实施的追加净化处理6中所包括的气体净化工序的总数(以下也称为“再净化次数”)是否为劣化判定基准次数以上。0097 实施追加净化处理6之后，也判定为不满足真空度条件，且需要再次进行追加净化处理6时，有可能引起低温泵10的组件等的劣化。0098 因此，能够通过监控再净化次数来事先察觉组件劣化的可能性。其结果，能够在下说 明 书CN 102828929 A10