减少反射光的电脑保护膜.pdf

本发明公开了一种减少反射光的电脑保护膜，该保护膜是采用真空蒸镀法将蒸发膜料蒸镀在透明薄膜基材上制备得到的，其中所述蒸发膜料为Cu和SiO2。本发明采用普通的真空蒸镀的方法将金属与SiO2镀膜材料蒸镀在普通的透明薄膜材料中，未用传统的ITO透明导电膜,降低了生产成本。本发明的电脑保护膜光学性能优良，明显减少反射光，可以直接贴在电脑显示器上，应用方便。

权利要求书
1.  一种减少反射光的电脑保护膜，该保护膜是采用真空蒸镀法将蒸发膜料 蒸镀在透明薄膜基材上制备得到的，其特征在于，所述蒸发膜料为Cu和SiO2。

2.  根据权利要求1所述的减少反射光的电脑保护膜，其特征在于，所述Cu 的蒸发速率为0.1-0.4nm/s,所述SiO2的蒸发速率为0.1-0.2nm/s。

3.  根据权利要求1或2所述的减少反射光的电脑保护膜，其特征在于，真空 镀膜时的真空度为5-8×10-3Pa。

4.  根据权利要求1所述的减少反射光的电脑保护膜，其特征在于，所述透 明薄膜基材为PE、PVC薄膜。

说明书减少反射光的电脑保护膜
技术领域
本发明涉及一种电脑保护膜，具体涉及一种减少反射光的电脑保护膜。
背景技术
从事于电脑相关或使用电脑处理业务的工作人员，在一天的大部分时间面 对着电脑屏幕。电脑的工作原理会造成在电脑屏幕上积累电荷,造成吸附灰尘,与 周围物体放电等不良后果。同时,电脑产生的电磁辐射光、反射光，在长时间面 对电脑时，眼睛容易疲劳，发红丝，视力下降，甚至严重影响身体健康，如头 晕，头痛，注意力不集中等。
传统的减反膜是采用一层ITO膜与其他介质匹配的方法，但此方法方制备 方法复杂、制作成本高等缺点,
发明内容
本发明提供一种价格低廉、制备工艺简单的减少反射光的电脑保护膜。
本发明的技术方案为如下：
一种减少反射光的电脑保护膜，该保护膜是采用真空蒸镀法将蒸发膜料蒸 镀在透明薄膜基材上制备得到的，其特征在于，所述蒸发膜料为Cu和SiO2。
本发明中，所述Cu的蒸发速率为0.1-0.4nm/s,所述SiO2的蒸发速率为0.1-0.2 nm/s。
本发明中，真空镀膜时的真空度为5-8×10-3Pa。
本发明中，所述透明薄膜基材为PE、PVC薄膜。
本发明的有益效果：本发明采用普通的真空蒸镀的方法将金属与SiO2镀膜 材料蒸镀在普通的透明薄膜材料中，未用传统的ITO透明导电膜,降低了生产成 本。本发明的电脑保护膜可以直接贴在电脑显示器上，应用方便，本发明的电 脑保护膜其光学性能优良，明显减少反射光，在可见区，其反射率降低至0.5% 以下。
具体实施方式
下述非限制性实施例可以使本领域的普通技术人员更全面地理解本发明， 但不以任何方式限制本发明。实施例中所述试验方法，如无特殊说明，均为常 规方法；所述试剂和材料，如无特殊说明，均可从商业途径获得，或可以常规 方法制备。
实施例1
一种减少反射光的电脑保护膜，该保护膜是采用真空蒸镀法将蒸发膜料蒸 镀在透明薄膜基材上制备得到的。
上述真空蒸镀法采用本领域常用的真空蒸镀法。
所述蒸发膜料为Cu和SiO2，其中所述Cu的蒸发速率为0.2nm/s,所述SiO2的 蒸发速率为0.2nm/s，真空蒸镀时装置的真空度控制在5.2×10-3Pa。
所述透明薄膜基材为PE薄膜。
实施例2
一种减少反射光的电脑保护膜，该保护膜是采用真空蒸镀法将蒸发膜料蒸 镀在透明薄膜基材上制备得到的。
上述真空蒸镀法采用本领域常用的真空蒸镀法。
所述Cu的蒸发速率为0.4nm/s,所述SiO2的蒸发速率为0.2nm/s，真空蒸镀时 装置的真空度控制在7.8×10-3Pa。
所述透明薄膜基材为PVC薄膜。