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滤色器阵列基板及其制造方法。滤色器阵列基板包括：位于基板上的黑底；位于由黑底所分隔的区域处的多个滤色器，该多个滤色器包括红色、绿色、蓝色和白色滤色器，白色滤色器的高度不同于红色、绿色和蓝色滤色器的高度；以及位于与黑底交叠的区域处的间隔体。

1、  一种滤色器阵列基板，包括：
位于基板上的黑底；
多个滤色器，位于由所述黑底所分隔的区域处，该多个滤色器包括红色、绿色、蓝色和白色滤色器，该白色滤色器的高度不同于所述红色、绿色以及蓝色滤色器的高度；以及
间隔体，位于与所述黑底交叠的区域处。

2、  根据权利要求1所述的滤色器阵列基板，其中所述白色滤色器的高度高于所述红色、绿色和蓝色滤色器的高度。

3、  根据权利要求1所述的滤色器阵列基板，其中所述白色滤色器的高度与所述间隔体的高度相同。

4、  根据权利要求1所述的滤色器阵列基板，其中所述白色滤色器和所述间隔体包括相同的材料

5、  根据权利要求1所述的滤色器阵列基板，还包括：
外覆层，位于形成有所述红色、绿色、蓝色和白色滤色器以及所述间隔体的基板上。

6、  根据权利要求1所述的滤色器阵列基板，还包括：
使用相同材料与所述白色滤色器一体地形成的外覆层。

7、  根据权利要求1所述的滤色器阵列基板，还包括：
位于所述基板上、覆盖除去所述白色滤色器以外的滤色器的外覆层。

8、  根据权利要求1所述的滤色器阵列基板，其中所述白色滤色器包括具有丙烯酸树脂的有机绝缘材料。

9、  根据权利要求1所述的滤色器阵列基板，还包括：
位于所述基板上的外覆层；以及
位于形成有所述外覆层的基板上的公共电极。

10、  一种滤色器阵列基板的制造方法，包括以下步骤：
在基板上形成黑底；以及
在由所述黑底所分隔的区域处形成红色、绿色、蓝色和白色滤色器，该白色滤色器的高度不同于所述红色、绿色和蓝色滤色器的高度。

11、  根据权利要求10所述的制造方法，还包括以下步骤：
在与所述黑底交叠的区域处形成间隔体。

12、  根据权利要求11所述的制造方法，其中所述白色滤色器与所述间隔体具有相同的高度。

13、  根据权利要求11所述的制造方法，其中所述白色滤色器是大约在形成所述间隔体的同时形成的。

14、  根据权利要求11所述的制造方法，其中所述白色滤色器和所述间隔体由相同材料制成。

15、  根据权利要求11所述的制造方法，还包括以下步骤：
在形成有所述红色、绿色、蓝色和白色滤色器以及所述间隔体的基板上形成外覆层。

16、  根据权利要求10所述的制造方法，还包括以下步骤：
在所述基板上以覆盖除去所述白色滤色器以外的滤色器的方式形成外覆层。

17、  根据权利要求10所述的制造方法，其中所述白色滤色器由具有丙烯酸树脂的有机绝缘材料制成。

18、  根据权利要求10所述的制造方法，还包括以下步骤：
在所述基板上形成外覆层；以及
在形成有所述外覆层的基板上形成公共电极。

19、  一种滤色器阵列基板的制造方法，包括以下步骤：
在基板上形成黑底；
在由所述黑底所分隔的区域处形成红色、绿色、蓝色和白色滤色器；以及
至少在所述红色、绿色和蓝色滤色器的上方形成外覆层，该外覆层是在形成所述白色滤色器的同时或者在形成所述白色滤色器之前形成的。

20、  根据权利要求19所述的制造方法，其中当在形成所述白色滤色器之前形成所述外覆层时，与在所述外覆层上形成间隔体相同时地形成所述白色滤色器。

滤色器阵列基板及其制造方法
技术领域
本发明涉及液晶显示器件，更具体地涉及一种滤色器阵列基板及其制造方法。
背景技术
通常，液晶显示(LCD)器件利用液晶分子的光学各向异性和偏振特性来产生希望的图像。具体地，液晶分子可被配向为特定取向，该特定取向可以通过跨液晶分子施加电场来控制。液晶显示器通常包括：液晶显示板，其具有以矩阵状方式排列的多个液晶单元；以及用于驱动该液晶显示板的驱动电路。
另外，液晶显示板还包括：多个像素电极，用于向每个液晶单元施加电场；以及一参考电极，即，公共电极。通常，像素电极形成在液晶单元中的薄膜晶体管(TFT)阵列基板上，而公共电极形成在另一基板(即，滤色器阵列基板)上。每个像素电极都连接到一TFT。因此，像素电极连同公共电极一起驱动液晶单元，以根据通过TFT提供的数据信号来透射光。
图1是示出根据现有技术的液晶显示板的立体图。在图1中，液晶显示板包括其间形成有液晶层8的滤色器阵列基板10和TFT阵列基板20。滤色器阵列基板10包括黑底2、滤色器4以及公共电极6。滤色器4包括红色R、绿色G和蓝色B的滤色器以透射特定波长范围的光，从而显示彩色光。黑底2形成在相邻滤色器4之间，以吸收从相邻单元入射的光，从而防止彩色对比度变差。
TFT阵列基板20包括彼此交叉的多条数据线18和多条选通线12，由此限定多个单元区。在数据线18与选通线12之间形成有一栅绝缘层(未示出)。在数据线18与选通线12之间的各交叉点处形成有一TFT 16。具体地说，TFT 16包括连接至相应一条选通线12的栅极、连接至相应一条数据线18的源极，以及面对源极的漏极，该TFT 16具有包括一有源层和一欧姆接触层的沟道部。该TFT 16电连接至像素电极14，以使得该TFT 16响应于来自相应选通线12的选通信号来选择性地将来自相应数据线18的数据信号提供给像素电极14。
像素电极14位于每个单元区域处并包括具有高透光率的透明导电材料。通过经由TFT 16的漏极提供的数据信号，像素电极14产生与公共电极6的电势差。该电势差使得液晶层8由于介电常数各向异性而旋转。相应地，根据该数据信号，从光源入射至液晶板上的光发生透射。
每个像素都包括实现红色R、绿色G和蓝色B的三个子像素。然而，由于经由滤色器4透射到上基板1的光量通常只占背光单元所产生的光量的约27～33％，所以由这些R、G和B子像素产生的亮度较弱。为了解决这个问题，提出了图2中所示的液晶显示板的滤色器阵列基板。
图2是示出根据现有技术的具有白色滤色器的滤色器阵列基板的截面图。如图2所示，滤色器阵列基板包括具有实现红色R、绿色G、蓝色B以及白色W的四个子像素的像素。具体地说，通过W子像素透射的光量通常不低于由背光单元所产生的光量的85％。相应地，通过R、G、B、W子像素所透射的总光量更高，从而提高了液晶显示板的亮度。
图3A至3G是示出图2中所示的滤色器阵列基板的制造方法的截面图。如图3A所示，在上基板1的整个表面上淀积不透明材料。该不透明材料包括不透明金属或不透明树脂，例如铬(Cr)。然后通过使用第一掩模(未示出)的光刻工艺和刻蚀工艺对该不透明材料进行构图，以形成黑底2。
如图3B所示，在上基板1的覆盖黑底2的整个表面上淀积红色树脂。然后通过使用第二掩模(未示出)的光刻工艺对该红色树脂进行构图，以形成红色滤色器4R。另外，如图3C所示，在上基板1的覆盖黑底2和红色滤色器4R的整个表面上淀积绿色树脂。然后通过使用第三掩模(未示出)的光刻工艺对该绿色树脂进行构图，以形成绿色滤色器4G。此外，如图3D所示，在上基板1的覆盖黑底2、红色滤色器4R以及绿色滤色器4G的整个表面上淀积蓝色树脂。然后通过使用第四掩模(未示出)的光刻工艺对该蓝色树脂进行构图，以形成蓝色滤色器4B。
随后，如图3E所示，在上基板1的覆盖黑底2、红色滤色器4R、绿色滤色器4G以及蓝色滤色器4B的整个表面上淀积白色树脂。该白色树脂包括丙烯酸树脂。然后通过使用第五掩模(未示出)的光刻工艺对该白色树脂进行构图，以形成白色滤色器4W。
另外，如图3F所示，在上基板1的覆盖黑底2、红色滤色器4R、绿色滤色器4G、蓝色滤色器4B以及白色滤色器4W的整个表面上淀积包括与所述白色树脂相同材料的有机绝缘材料。然后通过使用第六掩模(未示出)的光刻工艺对该有机绝缘材料进行构图，以形成外覆层(overcoatlayer)22。
此外，在上基板1的覆盖黑底2、红色滤色器4R、绿色滤色器4G、蓝色滤色器4B、白色滤色器4W以及外覆层22的整个表面上淀积包括与外覆层相同材料的有机绝缘材料。然后通过使用第七掩模(未示出)的光刻工艺对该有机绝缘材料进行构图，以形成间隔体24，如图3G所示。
由此，根据现有技术的LCD器件的滤色器基板的制造方法需要至少七道掩模工艺或光刻工艺，以形成包括黑底、红色、绿色、蓝色和白色滤色器、外覆层以及经构图的间隔体的滤色器基板。由于各掩模工艺中使用的掩模非常昂贵，所以生产成本增加了，并且制造工艺很复杂，从而降低了生产效率。
发明内容
因此，本发明旨在提供一种滤色器阵列基板及其制造方法，其基本上消除了由现有技术地局限和缺点所导致的一个或更多个问题。
本发明的一个目的是提供具有简化工艺的一种滤色器阵列基板及其制造方法。
本发明的其他特征和优点将在以下说明中加以阐述，并且部分地通过该说明变得明了，或者可通过本发明的实践而获知。通过文字说明及其权利要求以及附图中所具体指出的结构，可实现并获得本发明的目的和其他优点。
为了实现这些和其他优点并且根据本发明的目的，如在此具体实现和广泛描述的那样，一种滤色器阵列基板包括：位于基板上的黑底；多个滤色器，位于由黑底所分隔的区域处，该多个滤色器包括红色、绿色、蓝色和白色滤色器，该白色滤色器的高度不同于红色、绿色以及蓝色滤色器的高度；以及间隔体，位于与黑底交叠的区域处。
在另一方面中，一种滤色器阵列基板的制造方法包括：在基板上形成黑底；以及在由黑底所分隔的区域处形成红色、绿色、蓝色和白色滤色器，该白色滤色器的高度不同于红色、绿色和蓝色滤色器的高度。
在又一方面中，一种滤色器阵列基板的制造方法包括：在基板上形成黑底；在由黑底所分隔的区域处形成红色、绿色、蓝色和白色滤色器；以及至少在红色、绿色和蓝色滤色器的上方形成外覆层，该外覆层是在形成白色滤色器的同时或者在形成白色滤色器之前形成的。
应该理解，前述综合说明和下述具体说明都是示例性和说明性的，用于提供对如权利要求所述发明的进一步解释。
附图说明
所包括的附图用于提供对本发明的进一步理解，其被并入说明书并构成本说明书的一部分。附图示出了本发明的实施例，并与文字说明一起用于解释本发明的原理。附图中：
图1是示出根据现有技术的液晶显示板的平面图；
图2是示出根据现有技术的具有白色滤色器的滤色器阵列基板的截面图；
图3A至3G是示出图2中所示滤色器阵列基板的制造方法的截面图；
图4是示出根据本发明一实施例的用于液晶显示板的滤色器阵列基板的平面图；
图5是示出根据本发明另一实施例的用于液晶显示板的滤色器阵列基板的截面图；
图6A和6B分别是示出根据本发明一实施例的滤色器阵列基板的制造方法的第一掩模工艺的平面图和截面图；
图7A和7B分别是示出紧随图6A和6B中所示的滤色器阵列基板的制造方法之后的第二掩模工艺的平面图和截面图；
图8A和8B分别是示出紧随图7A和7B中所示的滤色器阵列基板的制造方法之后的第三掩模工艺的平面图和截面图；
图9A和9B分别是示出紧随图8A和8B中所示的滤色器阵列基板的制造方法之后的第四掩模工艺的平面图和截面图；
图10A和10B分别是示出紧随图9A和9B中所示的滤色器阵列基板的制造方法之后的第五掩模工艺的平面图和截面图；
图11是示出根据本发明另一实施例的用于液晶显示板的滤色器阵列基板的平面图；
图12A至12C是示出根据本发明另一实施例的滤色器阵列基板的制造方法的截面图；
图13是示出根据本发明另一实施例的用于液晶显示板的滤色器阵列基板的截面图；
图14是示出图13中所示的滤色器阵列基板的外覆层的平面图；以及
图15A至15C是示出根据本发明另一实施例的滤色器阵列基板的制造方法的截面图。
具体实施方式
下面详细说明优选的实施例，其示例在附图中示出。
图4是示出根据本发明一实施例的用于液晶显示板的滤色器阵列基板的平面图，而图5是示出根据本发明另一实施例的用于液晶显示板的滤色器阵列基板的截面图。在图4中，用于液晶显示板的滤色器阵列基板包括形成在基板101上的黑底102、多个滤色器104R、104G、104B和104W、以及间隔体124。滤色器104R、104G、104B和104W被形成为与液晶显示板的多个单元区域相对应的矩阵。滤色器104R、104G、104B和104W可分别对应于红色、绿色、蓝色和白色滤色器。
另外，黑底102包围滤色器104R、104G、104B和104W以防止在相邻单元之间发生光干扰。具体地说，如图5所示，滤色器104R、104G、104B和104W的一部分可以与黑底102交叠，并且滤色器104R、104G、104B和104W可以相互接触。尽管未示出，但是黑底102可与除对应的TFT阵列基板的像素电极以外的区域交叠。例如，黑底102可以与TFT阵列基板的选通线、数据线以及薄膜晶体管交叠。
此外，如图5所示，在基板101上形成有间隔体124和外覆层122。具体地说，间隔体124可与白色滤色器104W同时形成，而形成在基板101上的外覆层122覆盖间隔体124以及滤色器104R、104G、104B和104W。另外，白色滤色器104W的高度可以高于红色、绿色和蓝色滤色器104R、104G和104B的高度。结果，白色滤色器104W与间隔体124可以具有相同的高度，并且可以包括不影响白色滤色器104W的透光率的相同材料。
间隔体124用于在滤色器阵列基板与对应的TFT阵列基板之间保持一单元间隙(cell gap)。间隔体124被形成得与黑底102交叠。间隔体124可具有多种截面形状，例如圆形、矩形和三角形等。此外，间隔体124可以是柱形的、拱形的或梯形的等。
外覆层122包括一种有机绝缘材料，并可为基板101提供更平坦的表面。具体地说，由于白色滤色器104W占据整个基板面积的大约1/4，而红色、绿色和蓝色滤色器104R、104G和104B占据所述基板面积的大约3/4，所以当把所述有机绝缘材料涂覆为外覆层122时，很容易填充形成有红色、绿色和蓝色滤色器104R、104G和104B的区域，即，具有较低高度的区域。
结果，根据本发明一实施例的液晶显示板的滤色器阵列基板包括由相同材料同时形成的白色滤色器104W和间隔体124。相应地，减少了掩模工艺的数量，而并不劣化白色滤色器104W的透光率。
图6A和6B分别是示出根据本发明一实施例的滤色器阵列基板制造方法的第一掩模工艺的平面图和截面图。在图6A和6B中，可在基板101的整个表面上淀积一种不透明材料。该不透明材料可包括不透明树脂或不透明金属，例如铬(Cr)。随后，通过使用第一掩模(未示出)的光刻工艺对该不透明材料进行构图，以形成黑底102。如果该不透明材料包括不透明金属，则可能需要一刻蚀工艺。
图7A和7B分别是示出紧随图6A和6B中所示的滤色器阵列基板的制造方法之后的第二掩模工艺的平面图和截面图。如图7A和7B所示，可在基板101的高过黑底102的整个表面上淀积红色树脂。然后通过使用第二掩模(未示出)的光刻工艺对该红色树脂进行构图，以形成红色滤色器104R。
图8A和8B分别是示出紧随图7A和7B中所示的滤色器阵列基板的制造方法之后的第三掩模工艺的平面图和截面图。在图8A和8B中，可在基板101的高过黑底102和红色滤色器104R的整个表面上淀积绿色树脂。然后通过使用第三掩模(未示出)的光刻工艺对该绿色树脂进行构图，以形成绿色滤色器104G。
图9A和9B分别是示出紧随图8A和8B中所示的滤色器阵列基板的制造方法之后的第四掩模工艺的平面图和截面图。在图9A和9B中，可在基板101的高过黑底102、红色滤色器104R和绿色滤色器104G的整个表面上淀积蓝色树脂。然后通过使用第四掩模(未示出)的光刻工艺对该蓝色树脂进行构图，以形成蓝色滤色器104B。
图10A和10B分别是示出紧随图9A和9B中所示的滤色器阵列基板的制造方法之后的第五掩模工艺的平面图和截面图。在图10A和10B中，可在基板101的高过黑底102、红色滤色器104R、绿色滤色器104G和蓝色滤色器104B的整个表面上淀积白色树脂。然后通过使用第五掩模(未示出)的光刻工艺对该白色树脂进行构图，以同时形成白色滤色器104W和间隔体124。所述白色树脂可以包括丙烯酸树脂。
另外，可在基板101的覆盖黑底102、红色滤色器104R、绿色滤色器104G、蓝色滤色器104B、白色滤色器104W以及间隔体124的整个表面上淀积有机绝缘材料。具体地说，该有机绝缘材料可以包括与白色树脂104W相同的材料。然后通过使用第六掩模(未示出)的光刻工艺对该有机绝缘材料进行构图，以形成外覆层122。更具体地说，该外覆层122形成在基板101的图像显示区处，所述图像显示区位于密封剂和非显示区之内。另选地，可以不使用光刻工艺和第六掩模而在基板101上有选择地将所述有机绝缘材料涂覆在所述图像显示区处，从而进一步减少掩模工艺的数量。
图6B、7B、8B、9B和10B没有作为图6A、7A、8A、9A和10A的精确的截面图而示出。图6A、7A、8A、9A和10A更接近地示出了图4中所示的滤色器阵列基板，而图6B、7B、8B、9B和10B则更接近地示出了图5中所示的滤色器阵列基板。此外，尽管图7A至9B示出了首先形成红色滤色器104R，然后形成绿色滤色器104G，接着形成蓝色滤色器104B，但是对于本领域技术人员来讲，很明显可以按不同的顺序来形成红色、绿色和蓝色滤色器104R、104G和104B。
因此，根据本发明一实施例的液晶显示板的滤色器阵列基板的制造方法在一个光刻工艺中使用同一掩模形成白色滤色器104W和间隔体124。由此，减少了掩模工艺的数目，并且降低了制造成本，而不劣化白色滤色器104W的透光率。
图11示出了根据本发明另一实施例的用于液晶显示板的滤色器阵列基板的平面图。在图11中，用于液晶显示板的滤色器阵列基板包括形成在基板101上的黑底102、多个滤色器104、外覆层122以及间隔体124。将多个滤色器104形成得对应于液晶显示板的多个单元区域。各滤色器104可以是红色、绿色、蓝色和白色滤色器R、G、B和W之一。
另外，黑底102包围滤色器104以防止在相邻单元之间发生光干扰。具体地说，滤色器104的一部分可以与黑底102交叠，并且滤色器104可以相互接触，并且与红色、绿色和蓝色滤色器R、G和B相对应的滤色器104的高度可以相同。尽管未示出，但是黑底102可以与除对应的TFT阵列基板的像素电极以外的区域交叠。例如，黑底102可以与TFT阵列基板的选通线、数据线以及薄膜晶体管交叠。
此外，外覆层122可以包括一种透明有机绝缘材料。具体地说，对应于白色滤色器W的滤色器104可以是外覆层122的一部分。更具体地说，对应于白色滤色器W的滤色器104和所述外覆层可以同时形成，并且可以具有不影响对应于白色滤色器W的滤色器104的透光率的相同高度。结果，外覆层122在基板101上提供了一覆盖与红色、绿色、蓝色和白色滤色器R、G、B和W相对应的滤色器104的平坦表面。
此外，间隔体124位于外覆层122上面。间隔体124用于在滤色器阵列基板与对应的TFT阵列基板之间保持一单元间隙。将间隔体124形成得与黑底102交叠。间隔体124可以具有各种截面形状，例如圆形、矩形和三角形等。此外，间隔体124可以呈柱形、拱形或梯形等。
结果，根据本发明实施例的液晶显示板的滤色器阵列基板包括与作为外覆层122的一部分的白色滤色器W对应的滤色器104。对应于白色滤色器W的滤色器104和外覆层122是由相同材料同时形成的。因此，减少了掩模工艺的数量，同时未劣化对应于白色滤色器W的滤色器104的透光率。
图12A至12C是示出根据本发明另一实施例的滤色器阵列基板的制造方法的截面图。如图12A所示，可以在基板101上淀积一种不透明材料，并可通过使用第一掩模(未示出)的光刻工艺对该不透明材料进行构图，以形成黑底102。然后，可以在基板上以覆盖黑底102的方式淀积多个彩色树脂，并可通过使用第二至第四掩模(未示出)的光刻工艺对该多个彩色树脂进行构图，以形成对应于红色、绿色和蓝色滤色器R、G和B的滤色器104。
另外，如图12B所示，可在基板101上以覆盖黑底102以及与红色、绿色和蓝色滤色器R、G和B对应的滤色器104的方式淀积白色树脂，以形成对应于白色滤色器W的滤色器104和外覆层122。由此，白色树脂位于白色子像素区的部分用作为对应于白色滤色器W的滤色器104。可通过使用第五掩模(未示出)的光刻工艺对白色树脂进行构图，以在基板101的图像显示区处形成外覆层122，所述图像显示区位于密封剂和非显示区内部。另选地，可以不使用所述光刻工艺和第五掩模而在基板101上有选择地将白色树脂涂覆在图像显示区处，从而进一步减少掩模工艺的数量。
此外，如图12C所示，可在基板101上以覆盖黑底102、与红色、绿色、蓝色和白色滤色器R、G、B和W对应的滤色器104以及外覆层122的方式淀积一有机绝缘材料。然后通过使用第六掩模(未示出)的光刻工艺对该有机绝缘材料进行构图，以形成间隔体124。
因此，根据本发明实施例的液晶显示板的滤色器阵列基板的制造方法在一个光刻工艺中使用同一掩模来形成对应于白色滤色器W的滤色器104和外覆层122。由此，减少了掩模工艺的数量，并且降低了制造成本，同时并不劣化对应于白色滤色器W的滤色器104的透光率。另外，外覆层122为滤色器阵列基板提供了更平坦的表面。
图13是示出根据本发明另一实施例的用于液晶显示板的滤色器阵列基板的截面图，而图14是示出图13中所示的滤色器阵列基板的外覆层的平面图。在图13中，用于液晶显示板的滤色器阵列基板包括形成在基板101上的黑底102、多个滤色器104、外覆层122以及间隔体124。所属多个滤色器104被形成得对应于液晶显示板的多个单元区域。每个滤色器104可以是红色、绿色、蓝色和白色滤色器R、G、B和W之一。
另外，黑底102包围滤色器104以防止在相邻单元之间发生光干扰。具体地说，滤色器104的一部分可以与黑底102交叠，并且对应于红色、绿色和蓝色滤色器R、G和B的滤色器104的高度可以相同。对应于红色、绿色和蓝色滤色器R、G和B的滤色器104可以相互接触。尽管未示出，但是黑底102可与除对应的TFT阵列基板的像素电极以外的区域交叠。例如，黑底102可以与TFT阵列基板的选通线、数据线以及薄膜晶体管交叠。
另外，外覆层122可以包括透明有机绝缘材料。具体地说，如图14所示，外覆层122形成在除正形成白色滤色器104W的区域以外的图像显示区处。例如，外覆层122可形成在密封剂和非显示区之内，并且可以不与基板101的白色子像素区相交叠。
此外，如图13所示，可与对应于白色滤色器W的滤色器104同时地形成间隔体124。结果，对应于白色滤色器W的滤色器104和外覆层122可具有相同的高度，并可包括与不影响对应于白色滤色器W的滤色器104的透光率的相同材料。对应于白色滤色器W的滤色器104可与外覆层122和黑底102的一部分交叠。
对应于白色滤色器W的滤色器104的高度可以高于对应于红色、绿色和蓝色滤色器R、G和B的滤色器104的高度，但是基本上与外覆层122持平。例如，对应于白色滤色器W的滤色器104的高度可以比对应于蓝色滤色器B的滤色器104高出一高度差d。该高度差d优选地小于约0.2μm。
由此，外覆层122补偿了像素区之间的高度差。例如，对应于红色、绿色和蓝色滤色器R、G和B的滤色器104的高度可以是约2.xμm(2≤2.x＜3)，而外覆层122的高度可以是约1.xμm(1≤1.x＜2)。这样，与对应于红色、绿色和形成有蓝色滤色器R、G和B的滤色器104的区域相比，形成有对应于白色滤色器W的滤色器104的区域具有约3.xμm(3≤3.x＜4)的高度。相应地，对应于白色滤色器W的滤色器104和间隔体124可被形成为具有约3.xμm(3≤3.x＜4)的高度。结果，对应于红色、绿色、蓝色和白色滤色器R、G、B和W的滤色器104所在像素区域之间的高度差得到补偿。此外，根据单元间隙对间隔体和外覆层的高度进行了控制，由此调节单元间隙。
此外，间隔体124形成在外覆层122上并位于黑底102的上方。间隔体124用于保持滤色器阵列基板与对应的TFT阵列基板之间的单元间隙。间隔体124可以具有各种截面形状，例如圆形、矩形和三角形等。此外，间隔体124可以是柱形的、拱形的或梯形的等。
结果，根据本发明实施例的液晶显示板的滤色器阵列基板包括对应于白色滤色器W的滤色器104以及由相同材料同时形成的间隔体124。因此，减少了掩模工艺的数量，同时未劣化对应于白色滤色器W的滤色器104的透光率。另外，将外覆层122形成在除去要形成对应于白色滤色器W的滤色器104的区域以外的显示区处，从而补偿了像素区之间的高度差。
图15A至15C是示出根据本发明另一实施例的滤色器阵列基板的制造方法的截面图。如图15A所示，可在基板101上淀积一不透明材料，并可通过使用第一掩模(未示出)的光刻工艺对该不透明材料进行构图，以形成黑底102。然后，可在所述基板上以覆盖黑底102的方式淀积多种彩色树脂，并通过使用第二至第四掩模(未示出)的光刻工艺对该多种彩色树脂进行构图，以形成对应于红色、绿色和蓝色滤色器R、G和B的滤色器104。
另外，如图15B所示，可在基板101上以覆盖黑底102和对应于红色、绿色和蓝色滤色器R、G和B的滤色器104的方式淀积一感光的有机绝缘材料，例如丙烯酸树脂。然后可通过使用第五掩模(未示出)的光刻工艺对该有机绝缘材料进行构图，以形成外覆层122。具体地说，将外覆层122构图为使其位于基板101的图像显示区处，该图像显示区位于密封剂内部并且不与基板101的白色子像素区相交叠。
此外，如图15C所示，可在基板101上以覆盖黑底102和对应于红色、绿色和蓝色滤色器R、G和B的滤色器104的方式淀积白色树脂。该白色树脂可以包括丙烯酸树脂。然后可通过使用第六掩模(未示出)的光刻工艺对该白色树脂进行构图，以形成对应于白色滤色器W的滤色器104和间隔体124。由此，对应于白色滤色器W的滤色器104和间隔体124可以具有相同高度，并可包括不影响对应于白色滤色器W的滤色器104的透光率的相同材料。对应于白色滤色器W的滤色器104可与外覆层122和黑底102的一部分交叠。
因此，根据本发明实施例的液晶显示板的滤色器阵列基板的制造方法在形成对应于白色滤色器W的滤色器104之前形成外覆层122。另外，可在一个光刻工艺中使用同一掩模来形成对应于白色滤色器W的滤色器104和外覆层122。由此，减少了掩模工艺的数量，并且降低了制造成本，而并不劣化对应于白色滤色器W的滤色器104的透光率。另外，可将对应于白色滤色器W的滤色器104的高度控制得与外覆层122持平，从而为滤色器阵列基板提供一更平坦的基板表面。
图4至15C示出了IPS型液晶显示板的实施例，该IPS型液晶显示板具有形成在对应的TFT阵列基板上的用于施加水平电场的公共电极和像素电极。尽管未示出，但是可针对TN型液晶显示板对本发明的上述实施例进行修改，该TN型液晶显示板具有形成在滤色器阵列基板上的用于与形成在对应的TFT阵列基板上的像素电极一起施加垂直电场的公共电极。
根据本发明的上述实施例的滤色器阵列基板及其制造方法在形成间隔体或外覆层的同时形成白色滤色器。因此，可使用六道或五道掩模工艺来形成滤色器阵列基板，从而简化了其结构和制造工艺。由此，提高了生产率并降低了生产成本。另外，可以白色滤色器、外覆层以及间隔体的高度进行控制，以为滤色器阵列基板提供一更平坦的基板表面并调节单元间隙，从而改进所得液晶显示板的图像质量。
对于本领域的技术人员来讲，很明显在不脱离本发明的精神或范围的情况下，可对本发明的滤色器阵列基板及其制造方法进行多种修改和变型。因此，本发明将覆盖落入所附权利要求及其等同物的范围内的对本发明各种修改和变型。
本发明要求2003年11月27日在韩国提交的韩国专利申请No.P2003-85130以及2003年12月23日在韩国提交的韩国专利申请No.P2003-95660的优先权，并通过引用将其并入于此。