XY 工作台装置、 半导体检查装置及半导体曝光装置 【技术领域】
本发明涉及 XY 工作台装置以及具备 XY 工作台装置的半导体检查装置及半导体曝光装置。 背景技术 作为现有的 XY 工作台装置， 例如已知专利文献 1 所记载那样的 XY 工作台装置， 其 具备在定盘上沿 X 轴方向移动的 X 轴移动体 (X 方向可动体 )、 以及在定盘上沿 Y 轴方向移 动并且对 X 轴移动体的 X 轴方向的移动进行引导的 Y 轴移动体 (Y 方向可动体 )。在这样的 XY 工作台装置中， Y 轴移动体的 X 轴方向两端部通过对 Y 轴移动体的 Y 轴方向的移动进行 引导的一对滚动引导件 ( 滚动引导块 ) 分别支持在定盘上。
专利文献 1 ： 日本特许第 3687362 号公报
在此， 在上述 XY 工作台装置中， 如上所述， Y 轴移动体的 X 轴方向两端部由一对滚 动引导件支持， 所以 Y 轴移动体绕 Z 轴旋转方向的角度即偏航角度 ( 以下简称为 “偏航角 度” )， 容易依存于滚动引导件的组装精度。因此， 难以对 Y 轴移动体的偏航角度进行所期望 的控制。
另外， 在 Y 轴移动体的 X 轴方向两端部由一对滚动引导件支持的情况下， Y 轴移动 体在 X 轴方向上被完全限制， 因此例如由于温度变化导致的热应力， Y 轴移动体有可能产生 应变等。结果， 由该 Y 轴移动体引导的 X 轴移动体的行进精度下降。
发明内容
因此， 本发明的课题在于提供一种 XY 工作台装置， 能够对 Y 轴移动体的偏航角度 进行所期望的控制， 且能够提高 X 轴移动体的行进精度。
为了解决上述课题， 本发明涉及的 XY 工作台装置为， 具备 ： X 轴移动体， 在定盘上 沿 X 轴方向移动 ； 和 Y 轴移动体， 在定盘上沿 Y 轴方向移动并且对 X 轴移动体的 X 轴方向的 移动进行引导 ； 其特征在于具备 ： 一对驱动构件， 在 X 轴方向上相互离开地设置， 沿 Y 轴方 向驱动 Y 轴移动体 ； 检测构件， 用于检测 Y 轴移动体绕 Z 轴旋转方向的角度即偏航角度 ； 控 制构件， 根据由检测构件检测的偏航角度控制一对驱动构件的驱动 ； 以及一对支持构件， 在 定盘上支持 Y 轴移动体 ； 一对支持构件的一方是对 Y 轴移动体的 Y 轴方向的移动进行引导 的滚动引导件， 一对支持构件的另一方是将 Y 轴移动体相对于定盘非接触地支持的气垫。
在该 XY 工作台装置中， 沿 Y 轴方向驱动 Y 轴移动体的一对驱动构件的驱动， 由控 制构件根据偏航角度来控制。由此， 能够对应于偏航角度来适当控制一对驱动构件的各自 ( 例如以在各自的推力上附加差的方式进行控制 )， 能够对 Y 轴移动体的偏航角度进行所期 望的控制。此外， 支持 Y 轴移动体的一对支持构件的一方是滚动引导件， 另一方是气垫。由 此， 在 Y 轴移动体中， 在 X 轴方向上未被完全限制， 因此例如能够使由于热应力而产生的应 变等逃逸而进行抑制。结果， 能够提高被 Y 轴移动体引导的 X 轴移动体的行进精度。
另外， 优选控制构件以偏航角度成为 0 的方式控制一对驱动构件的动作。此时， 能够保持 Y 轴移动体以使偏航角度在为 0 的状态不变动。
另外， 优选检测构件是在 X 轴方向上相互离开地设置、 检测 Y 轴移动体的 Y 轴方向 的位置的一对线性标尺。此时， 能够检测 Y 轴移动体的 Y 轴方向位置， 并且能够根据各检测 值的差来检测偏航角度。
另外， 一对驱动构件有时是一对轴电动机。
另外， 优选气垫构成为能够调整其支持高度。此时， 通过调整气垫的支持高度， 能 够容易地调整 Y 轴移动体的水平状态。
另外， 优选气垫构成为对 Y 轴移动体进行球面支持。此时， 由于 Y 轴移动体被球面 支持， 所以通过气垫也能够使 Y 轴移动体上产生的应变等逃逸， 结果， 能够进一步提高 X 轴 移动体的行进精度。
另外， 本发明的半导体检查装置的特征在于具备上述 XY 工作台装置。进而， 本发 明的半导体曝光装置的特征在于具备上述 XY 工作台装置。在该半导体检查装置以及半导 体曝光装置中， 也发挥对 Y 轴移动体的偏航角度进行所期望的控制且提高 X 轴移动体的行 进精度这种上述作用效果。
发明的效果 ： 根据本发明， 能够对 Y 轴移动体的偏航角度进行所期望的控制， 且能够提高 X 轴移 动体的行进精度。
附图说明 图 1 是表示本发明一个实施方式的 XY 工作台装置的立体图。
图 2 是表示图 1 的 XY 工作台装置的侧视图。
图 3 是沿着图 1 的 III-III 线的截面图。
图 4 是沿着图 1 的 IV-IV 线的截面图。
图 5 是表示图 1 的 Y 轴移动体的定盘侧的立体图。
图 6 是用于表示图 1 的滚动引导件沿图 1 的 III-III 线的放大概略截面图。
图 7 是用于表示图 1 的 Y 轴提升气垫的沿着图 1 的 III-III 线的放大概略截面图。
符号说明 ：
1XY 工作台 ； 2 定盘 ； 3X 轴移动体 ； 4Y 轴移动体 ； 11 滚动引导件 ( 支持构件的一 方)； 12Y 轴提升气垫 ( 气垫、 支持部件的另一方 ) ； 14A、 14BY 轴轴电动机 ( 轴电动机、 驱动 构件 ) ； 16A、 16B Y 轴线性标尺 ( 线性标尺、 检测构件 ) ； 17 控制器 ( 控制构件 )
具体实施方式
以下参照附图， 详细说明本发明的优选实施方式。 另外， 在以下说明中对于相同或 相应要素附加相同的符号， 并省略重复的说明。
图 1 是表示本发明一个实施方式的 XY 工作台装置的立体图， 图 2 是表示图 1 的 XY 工作台装置的侧视图， 图 3 是沿着图 1 的 III-III 线的截面图， 图 4 是沿着图 1 的 IV-IV 线 的截面图， 图 5 是表示图 1 的 Y 轴移动体的定盘侧的立体图。
如图 1 ～ 3 所示， 本实施方式的 XY 工作台装置 1 在用于检查半导体的半导体检查 装置或用于曝光半导体的半导体曝光装置中使用。该工作台装置 1 是所谓平面型工作台，其具备定盘 2、 X 轴移动体 3 及 Y 轴移动体 4， X 轴移动体 3 及 Y 轴移动体 4 双方都由定盘 2 支持并在该定盘 2 上移动。
定盘 2 呈长方体状， 例如由石材形成。该定盘 2 的盘面 2a 被实施平面加工而提高 其平面度。
X 轴移动体 3 呈矩形环状截面的板状， 在定盘 2 上沿水平方向的一个方向即 X 轴方 向移动。如图 5 所示， 该 X 轴移动体 3 通过安装在其下表面侧的 X 轴提升气垫 5， 而在垂直 方向即 Z 轴方向上非接触地支持于盘面 2a 上， 并能够在盘面 2a 上非接触地滑行。
如图 4 所示， 该 X 轴移动体 3 构成为， 外插于 Y 轴移动体 4 的引导梁 9( 后述 )， 并 且通过设置在其内表面侧的偏航气垫 6 来非接触地夹着引导梁 9 的两侧面 9c、 9c。 由此， 使 X 轴移动体 3 能够沿着引导梁 9 移动， 而能够沿着 X 轴方向移动。
X 轴提升气垫 5 作为向定盘 2 喷出气体的气体静压轴承起作用， 如图 5 所示， 为了 提高 X 轴移动体 3 的稳定度而在静定状态下进行支持， 而设置有 3 个。该 X 轴提升气垫 5 能够进行预加载调整。具体而言， 通过形成在 X 轴提升气垫 5 的垫部 7 的下表面的吸入孔 ( 未图示 )， 能够以期望的吸附力相对于盘面 2a 进行真空吸附。由此， X 轴移动体 3 被抑制 Z 轴方向的位移。
偏航气垫 6 作为朝向引导梁 9 喷出气体的气体静压轴承起作用， 在 X 轴移动体 3 的内表面侧、 在隔着引导梁 9 相对的位置上设有 2 对 ( 合计 4 个 )。
返回图 1， Y 轴移动体 4 在定盘 2 上沿水平方向中 X 轴方向的垂直方向即 Y 轴方向 移动， 并且对 X 轴移动体 3 的 X 轴方向的移动进行引导。Y 轴移动体 4 包括在 X 轴方向上延 伸的柱状的引导梁 9、 和分别设置在该引导梁 9 的 X 轴方向两端部的一对支撑物 10。
引导梁 9 截面呈矩形形状， 内插于 X 轴移动体 3。该引导梁 9 对 X 轴移动体 3 沿着 X 轴方向的移动进行引导。
该 Y 轴移动体 4 的 X 轴方向一端部 ( 图示左侧端部 )， 通过滚动引导件 ( 支持构 件的一方 )11， 在 Z 轴方向上接触支持于盘面 2a 并且引导 Y 轴方向的移动。另外， 如图 2、 3 所示， Y 轴移动体 4 的 X 轴方向另一端部 ( 图示右侧端部 )， 通过 Y 轴提升气垫 ( 气垫、 支 持部件的另一方 )12， 在 Z 轴方向上非接触地支持于盘面 2a， 能够非接触地在盘面 2a 上滑 行。
另外， 如图 1 所示， XY 工作台装置 1 具备一对 X 轴轴电动机 13A、 13B、 一对 Y 轴轴 电动机 ( 轴电动机、 驱动构件 )14A、 14B、 X 轴线性标尺 15、 一对 Y 轴线性标尺 ( 线性标尺、 检测构件 )16A、 16B 以及控制器 ( 控制构件 )17。
X 轴轴电动机 13A、 13B 用于沿 X 轴方向驱动 X 轴移动体 3， 在 Y 轴方向上相互离开 地配置。X 轴轴电动机 13A、 13B 构成为， 分别包括作为定子的 X 轴轴部 18A、 18B 和作为可动 件的一对 X 轴线圈部 19A、 19B。X 轴轴部 18A、 18B 为， 在其内部具有磁铁， 并相对于 X 轴移 动体 3 在 Y 轴方向的外侧位置沿着 X 轴方向分别延伸。另外， 这些 X 轴轴部 18A、 18B 分别 固定于设置在 Y 轴移动体 4 的支撑物 10 上的固定块 20 上， 固定于 Y 轴移动体 4。
如图 4 所示， X 轴线圈部 19A、 19B 分别沿着 X 轴轴部 18A、 18B 可动， 在其内部分别 具有包围 X 轴轴部 18A、 18B 的线圈。X 轴线圈部 19A、 19B 分别外插于 X 轴轴部 18A、 18B， 并 且分别固定于 X 轴移动体 3 的沿着 X 轴方向的侧面 3b、 3b。由此， 在 X 轴轴电动机 13A、 13B 中， 当对其 X 轴线圈部 19A、 19B 施加规定电流时， 通过电磁相互作用而 X 轴线圈部 19A、 19B沿 X 轴方向移动， 结果 X 轴移动体 3 沿 X 轴方向移动。
如图 1 所示， Y 轴轴电动机 14A、 14B 用于沿 Y 轴方向驱动 Y 轴移动体 4， 在 X 轴方 向上相互离开地设置。Y 轴轴电动机 14A、 14B 构成为， 分别包括作为定子的 Y 轴轴部 21A、 21B 和作为可动件的 Y 轴线圈部 22A、 22B。Y 轴轴部 21A、 21B 为， 在其内部具有磁铁， 并在 定盘 2 上的 X 轴方向的两端部、 与定盘 2 的盘面 2a 之间分别形成有空间 A1、 A2， 沿着 Y 轴 方向分别延伸。并且， 这些 Y 轴轴部 21A、 21B 分别固定于设置在定盘 2 的四角的固定块 23 上， 直接固定于定盘 2。
如图 3 所示， Y 轴线圈部 22A、 22B 分别沿着 Y 轴轴部 21A、 21B 可动， 在其内部分别 具有包围 Y 轴轴部 21A、 21B 的线圈。Y 轴线圈部 22A、 22B 分别外插于 Y 轴轴部 21A、 21B， 并 且分别固定于 Y 轴移动体 4 的支撑物 10、 10 上。由此， 在 Y 轴轴电动机 14A、 14B 中， 当对其 Y 轴线圈部 22A、 22B 施加规定电流时， 通过电磁相互作用而 Y 轴线圈部 22A、 22B 沿 Y 轴方向 移动， 结果 Y 轴移动体 4 沿 Y 轴方向移动。另外， 当以使 Y 轴轴电动机 14A、 14B 相互协动的 方式对 Y 轴线圈部 22A、 22B 施加规定电流时， Y 轴线圈部 22A、 22B 向 Y 轴方向的相互不同 的方向移动， 结果 Y 轴移动体 4 向偏航方向旋转。
X 轴线性标尺 15 具有标尺 24 以及标尺头 25。标尺 24 在引导梁 9 的一个侧面 9c 侧沿着 X 轴方向安装， 并刻有光学刻度。标尺头 25 在 X 轴移动体 3 上安装在与标尺 24 对 应的位置， 例如接收对标尺 24 的光学刻度照射的激光的反射光而取得对应于与标尺 24 的 位置关系的信号。由此， 在 X 轴线性标尺 15 中， 根据所述信号来检测 X 轴移动体 3 在 X 轴 方向上的位置。 如图 3 所示， Y 轴线性标尺 16A、 16B 沿 X 轴方向相互离开地配置， 与上述 X 轴线性 标尺 15 相同， 分别具有标尺 26A、 26B 以及标尺头 27A、 27B。标尺 26A、 26B 分别在定盘 2 的 X 方向两端部沿着 Y 轴方向安装， 并刻有光学刻度。标尺头 27A、 27B 在 Y 轴移动体 4 的各支 撑物 10 上， 分别安装在与标尺 26A、 26B 对应的位置， 例如分别接收对标尺 26A、 26B 照射的 激光的反射光而取得对应于与标尺 26A、 26B 的位置关系的信号。
由此， 在 Y 轴线性标尺 16A、 16B 中， 根据所述信号来检测 Y 轴移动体 4 的 Y 轴方向 上的位置， 并且根据检测出的 Y 轴移动体 4 的位置之差来检测 Y 轴移动体 4 的偏航角度 ( 偏 航误差、 旋转误差 )。
如图 1 所示， 控制器 17 例如由 CPU、 ROM 以及 RAM 等构成。该控制器 17 用于控制 XY 工作台装置 1 的动作， 根据由 X 轴线性标尺 15 检测出的 X 轴移动体 3 的 X 轴方向位置， 来控制 X 轴轴电动机 13A、 13B 的驱动。 同时， 根据由 Y 轴线性标尺 16A、 16B 检测出的 Y 轴移 动体 4 的 Y 轴方向位置以及偏航角度， 来控制 Y 轴轴电动机 14A、 14B 的驱动 ( 详情后述 )。
在此， 在以下详细说明上述滚动引导件 11 以及 Y 轴提升气垫 12。
图 6 是用于表示图 1 的滚动引导件的沿着图 1 的 III-III 线的放大概略截面图， 图 7 是用于表示图 1 的 Y 轴提升气垫的沿着图 1 的 III-III 线的放大概略截面图。
如图 6 所示， 滚动引导件 11 为接触式， 对 Y 轴移动体 4 的 X 轴方向一端部以与定 盘 2 接触的方式进行支持且引导， 具备导轨 28 和滑块 29。
导轨 28 在定盘 2 的盘面 2a 的 X 轴方向一端部、 沿着 Y 轴方向延伸。具体而言， 导 轨 28 以位于比 Y 轴轴电动机 14A 的 Y 轴轴部 21A 更靠定盘 2 侧的方式、 即以进入 Y 轴轴部 21A 与定盘 2 之间的空间 A1 中的方式， 在定盘 2 上的固定部块 23、 23 之间延伸设置 ( 参照
图 1)。换言之， Y 轴轴部 21A 配置在导轨 28 上。
滑块 29 呈朝下开口的截面 “コ” 字状， 以位于比 Y 轴轴电动机 14A 的 Y 轴轴部 21A 更靠定盘 2 侧的方式、 即以进入 Y 轴轴部 21A 与定盘 2 之间的空间 A1 中的方式， 在支撑物 10 的下表面 10b 沿着 Y 轴方向并列设置 2 个 ( 参照图 5)。换言之， Y 轴轴部 21A 配置在滑 块 29 上。
该滑块 29 为， 在其内部设有用于与导轨 28 滑动的辊或球 ( 未图示 )， 而与导轨 28 可滑动地卡合。由此， 滚动引导件 11 将 Y 轴移动体 4 的 X 轴方向一端部在 X 轴以及 Z 轴方 向上限制的同时在 Y 轴方向上引导。
另外， 在滚动引导件 11 中， 适当选择导轨 28 及滑块 29 的截面积、 长度、 材质等构 成， 并适当设定其偏航方向的刚性。由此， 能够得到为了良好地进行 Y 轴移动体 4 的偏航角 度的控制的、 偏航方向上的 Y 轴移动体 4 的规定弹力。
如图 7 所示， Y 轴提升气垫 12 作为朝向定盘 2 喷出气体的气体静压轴承起作用， 在 Y 轴移动体 4 的 X 轴方向另一端部设置有 1 个。该 Y 轴提升气垫 12 具有垫部 30 和支持 部 31。
垫部 30 被设置为， 其一部分位于比 Y 轴轴电动机 14B 的 Y 轴轴部 21B 更靠定盘 2 侧。即， Y 轴提升气垫 12 被设置为， 其至少一部分进入 Y 轴轴部 21B 与定盘 2 之间的空间 A2。换言之， Y 轴轴部 21B 配置在垫部 30 上。 支持部 31 是将 Z 轴方向作为轴线方向的轴体， 并将 Y 轴移动体 4 以及垫部 30 相 互连结。该支持部 31 上的 Y 轴移动体 4 侧的前端部 31a， 例如通过螺纹结合与 Y 轴移动体 4 连结。由此， 在 Y 轴提升气垫 12 中， 能够调整其提升量 ( 支持高度 )。
另一方面， 支持部 31 上的垫部 30 侧的前端部 31b， 例如通过球面支持结合与垫部 30 连结。 具体而言， 前端部 31b 具有转动球体， 该转动球体可滑动地嵌装在凹陷为圆锥状的 球面座 32 中。由此， Y 轴移动体 4 由 Y 轴提升气垫 12 球面支持。
另外， Y 轴提升气垫 12 与上述 X 轴提升气垫 5 一样， 能够进行预加载调整。具体 而言， 如图 5 所示， 通过形成在垫部 30 的下表面的吸入孔 ( 未图示 )， 能够以期望的吸附力 对于盘面 2a 进行真空吸附， 在 Y 轴移动体 4 中抑制了 Z 轴方向的位移。
在如上构成的 XY 工作台装置 1 中， 在使 X 轴移动体 3 移动至 X 轴方向的规定位置 的情况下， 由 X 轴线性标尺 15 来检测 X 轴移动体 3 的 X 轴方向位置。根据该检测值， 由控 制器 17 控制对 X 轴轴电动机 13A、 13B 的 X 轴线圈部 19A、 19B 施加的驱动电流。由此， 通过 X 轴提升气垫 5 非接触支持于盘面 2a 上的 X 轴移动体 3， 通过偏航气垫 6 相对于引导梁 9 非接触地引导， 以在盘面 2a 上滑行的方式沿 X 轴方向可动。
另外， 在使 Y 轴移动体 4 移动至 Y 轴方向的规定位置的情况下， 由 Y 轴线性标尺 16A、 16B 来检测 Y 轴移动体 4 的 Y 轴方向位置。根据该检测值， 由控制器 17 控制对 Y 轴轴 电动机 14A、 14B 的 Y 轴线圈部 22A、 22B 施加的驱动电流。由此， X 轴方向一端部通过滚动 引导件 11 接触支持且 X 轴方向另一端部通过 Y 轴提升气垫 12 非接触支持的 Y 轴移动体 4， 其 X 轴方向一端部通过滚动引导件 11 接触引导， 以在盘面 2a 上滑行的方式沿 Y 轴方向可 动。
在此， 在 XY 工作台装置 1 中， 根据由 Y 轴线性标尺 16A、 16B 检测出的偏航角度， Y 轴轴电动机 14A、 14B 协动， Y 轴移动体 4 在绕 Z 轴旋转方向 ( 以下称为 “偏航方向” ) 上可
动。 具体而言， 以使所检测出的偏航角度成为 0( 抵消偏航误差 ) 的方式， 对 Y 轴线圈部 22A、 22B 分别施加驱动电流， 在 Y 轴线圈部 22A、 22B 的推力上附加差， Y 轴移动体 4 沿偏航方向 旋转。结果， Y 轴移动体 4 在使 X 轴移动体 3 沿 X 轴方向移动或使 Y 轴移动体 4 沿 Y 轴方 向移动的情况下， 也保持为偏航角度为 0 的状态不变动。
以上， 在本实施方式中， 根据检测出的偏航角度， 通过控制器 17 对沿 Y 轴方向驱动 Y 轴移动体 4 的 Y 轴轴电动机 14A、 14B 进行协调控制。由此， 对应于检测出的偏航角度使 Y 轴轴电动机 14A、 14B 协动， 能够对 Y 轴移动体 4 的偏航角度进行所期望的控制。即， 能够进 行偏航控制而能够改善偏航精度。
此外， 如上所述， Y 轴移动体 4 的 X 轴方向一端部由滚动引导件 11 支持， 另一端部 由 Y 轴提升气垫 12 支持。由此， Y 轴移动体 4 中的一侧在 X 轴方向上未被完全限制 ( 自由 状态 )， 因此例如能够使由于热应力产生的应变或弯曲等变形逃逸而进行抑制 ( 允许 )。由 此， 在本实施方式中， 能够实现用于热膨胀的逃逸的构造， 能够减少热膨胀引起的 Y 轴移动 体 4 的变形。结果， 抑制了 Y 轴移动体 3 的引导梁 9 的变形， 能够提高该引导梁 9 所引导的 X 轴移动体 3 的行进精度、 即 X 轴移动体 3 的移动中的直线度、 角度等性能。
另外， 在本实施方式中， 如上所述， 使用在 X 轴方向上相互离开地设置的一对 Y 轴 线性标尺 16A、 16B 来检测 Y 轴移动体 4 的偏航角度。由此， 能够检测 Y 轴移动体 4 的 Y 轴 方向位置， 并且能够根据检测值之差来检测偏航角度。 进而， 无需另外设置检测偏航角度的 设备， 能够简便地检测 Y 轴移动体 4 的位置以及偏航角度。 尤其是， 当使用一对 Y 轴线性标尺 16A、 16B 时， 还能够高精度地检测它们之间的中 间的 Y 轴移动体 4 位置 ( 即 Y 轴移动体 4 的中央位置 )。当如本实施方式那样 XY 工作台装 置 1 用于半导体检查装置或半导体曝光装置时， 所述效果变得显著。这是因为， 在半导体检 查装置或半导体曝光装置中， 通常用于检查或曝光的光学系统配置在 Y 轴移动体 4 的中央 位置上。
另外， 本实施方式的 Y 轴提升气垫 12， 如上所述， 能够调整支持高度。 因此， 能够容 易地调整为， Y 轴移动体 4 的 Y 轴提升气垫 12 侧 ( 另一端部 ) 的高度与 Y 轴移动体 4 的滚 动引导件 11 侧 ( 一端部 ) 的高度相等。结果， 能够容易地调整并保持 Y 轴移动体 4 的水平 状态。
另外， 在本实施方式中， 如上所述， 构成为 Y 轴提升气垫 12 对 Y 轴移动体 4 进行球 面支持， Y 轴提升气垫 12 与 Y 轴移动体 4 能够相互旋转。因此， 能够进一步使 Y 轴移动体 4 所产生的应变或弯曲等逃逸， 能够进一步提高 X 轴移动体 3 的行进精度， 并且能够容易地 将 Y 轴提升气垫 12 组装至 Y 轴移动体 4 并进行调整。
另外， 本实施方式的滚动引导件 11， 如上所述， 以可得到偏航方向上的 Y 轴移动体 4 的规定弹力的方式适当设定偏航方向的刚性， 因此能够良好地控制 Y 轴移动体 4 的偏航角 度。由此， 选择具有适当刚性的滚动引导件 11， 能够提高偏航精度。另外， 当滚动引导件 11 的偏航方向的刚性过高时， Y 轴轴电动机 14A、 14B 的推力无法超过所述刚性， 而难以进行偏 航角度的控制， 因此滚动引导件 11 的偏航方向的刚性可以说是与偏航控制有关的重要因 素。
另外， 在本实施方式中， 还具有以下作用效果。即， 如上所述， 滚动引导件 11 和 Y 轴提升气垫 12 的一部分， 分别进入 Y 轴轴电动机 14A、 14B 的 Y 轴轴部 21A、 21B 与定盘 2 之
间的空间 A1、 A2 中。因此， 具备 Y 轴轴电动机 14A、 14B 的空间构成是优选的， 例如与必须将 Y 轴轴电动机 14A、 14B 配置在定盘 2 的侧面的现有的工作台装置相比， 能够减小占地面积 (XY 工作台装置 1 的设置面积 )， 并能够进一步小型化。
另外， 本实施方式的 XY 工作台装置 1， 如上所述是平面型工作台装置， X 轴移动体 3 以及 Y 轴移动体 4 的双方支持在定盘 2 上， 且 X 轴移动体 3 的移动由 Y 轴移动体 4 引导。 由此， XY 工作台装置 1 相对于 X 轴移动体 3 被支持在 Y 轴移动体 4 上并移动的工作台装置 ( 所谓层叠型移动工作台装置 )， 在构造上占地面积较大而在水平方向上容易大型化。由 此， 使占地面积变小而进一步实现小型化的上述效果， 对于 XY 工作台装置 1 那样的平面型 工作台装置来说尤其有效。
另外， 在本实施方式中， Y 轴移动体 4 相对于定盘 2 的支持， 是 2 个滑块 29 和 1 个 Y 轴提升气垫 12 的 3 点支持、 成为静定状态， 因此提高了 Y 轴移动体 4 的稳定度。
以上说明了本发明的优选实施方式， 但本发明不限于上述实施方式。
例如， 上述实施方式是具备 X 轴移动体 3 以及 Y 轴移动体 4 的 XY 工作台装置 1， 但也可以是还具备设置在 X 轴移动体 3 上并沿 Z 轴方向移动的 Z 轴移动体的 XYZ 工作台装 置， 也可以是还具备设在 X 轴移动体 3 上并在绕 Z 轴旋转方向 (θz) 旋转的 θ 轴移动体的 XYθ 工作台装置， 也可以是还具备该 Z 轴移动体以及 θ 轴移动体的 XYZθ 工作台装置。
另外， 在上述实施方式中， 作为检测构件使用了一对 Y 轴线性标尺 16A、 16B， 但只 要能够检测 Y 轴移动体 4 的偏航角度， 也可以是其他检测构件。另外， 作为驱动构件使用了 一对 Y 轴轴电动机 14A、 14B， 但不限定于此， 是在 X 轴方向上相互离开地设置并沿 Y 轴方向 驱动 Y 轴移动体 4 的一对驱动构件即可。
另外， 在上述实施方式中， 滚动引导件 11 和 Y 轴提升气垫 12 的一部分分别进入空 间 A1、 A2， 但滚动引导件 11 和 Y 轴提升气垫 12 的任意一个的至少一部分分别进行空间 A1、 A2 即可。另外， 滚动引导件 11 完全进入 Y 轴轴部 21A 与定盘 2 之间的空间 A1 中， 但至少一 部分进入即可。
另外， 本发明的 XY 工作台装置不仅能够适用于上述半导体检查装置以及半导体 曝光装置， 而且能够适用于各种装置。