一种液晶显示面板、阵列基板及其制备方法.pdf

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1、10申请公布号CN102109713A43申请公布日20110629CN102109713ACN102109713A21申请号200910243838222申请日20091223G02F1/1337200601G02F1/133320060171申请人北京京东方光电科技有限公司地址100176北京市经济技术开发区西环中路8号72发明人宋省勳74专利代理机构北京同立钧成知识产权代理有限公司11205代理人刘芳54发明名称一种液晶显示面板、阵列基板及其制备方法57摘要本发明提供一种液晶显示面板、阵列基板及其制备方法。该阵列基板包括压接区域及粘合区域，所述压接区域及粘合区域之间的第一绝缘层上，围绕粘。

2、合区域设置有第二绝缘层。本发明通过在压接区域及粘合区域之间设置第二绝缘层，可以可靠地保护彩膜基板的碎片或第一绝缘层涂覆不良导致的信号线断线或短路，提高液晶显示器的良品率，减少返工，降低成本。51INTCL19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书4页附图2页CN102109716A1/1页21一种阵列基板，包括压接区域及粘合区域，其特征在于，所述压接区域及粘合区域之间的第一绝缘层上，围绕粘合区域设置有第二绝缘层。2根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第二绝缘层还设置于部分粘合区域内。3根据权利要求1或2所述的阵列基板，其特征在于，所述第二绝缘层为取向膜。4根。

3、据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一绝缘层为设置在栅线或公共电极线上方的栅绝缘层及钝化层。5根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一绝缘层为设置于数据线上方的钝化层。6一种包括如权利要求1所述的阵列基板的液晶显示面板。7根据权利要求6所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第二绝缘层还设置于部分粘合区域内。8根据权利要求6或7所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第二绝缘层为取向膜。9一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括步骤1、在形成有包括信号线、TFT及像素电极的图形的阵列基板上形成取向膜；步骤2、去除全部或部分形成在阵列基板的粘合区域内的取向膜，并去除压接区域的透明导电。

4、层上方的取向膜。权利要求书CN102109713ACN102109716A1/4页3一种液晶显示面板、阵列基板及其制备方法技术领域0001本发明实施例涉及液晶显示器，尤其涉及一种液晶显示器的液晶显示面板、阵列基板及其制备方法。背景技术0002薄膜晶体管液晶显示装置THINFILMTRANSISTORLIQUIDCRYSTALDISPLAY，简称TFTLCD是一种主要的平板显示装置FLATPANELDISPLAY，简称为FPD，由液晶面板及背光模组构成。0003图1为现有的薄膜晶体管液晶显示器的液晶面板沿阵列基板的栅线的剖面图。如图1所示，液晶面板按功能可分为面板区域100和压接区域200，面板。

5、区域100的四个边上具有粘合区域300。其中，面板区域为液晶显示面板的工作区域；粘合区域为用于粘合阵列基板和彩膜基板的区域；压接区域为将阵列基板与外部驱动电路板压接的区域。0004另外，按结构，液晶面板包括阵列基板、彩膜基板20、粘合部30、保护部40、导电胶层50、阵列基板侧取向膜14、彩膜基板侧取向膜24及驱动电路板60等。0005其中，阵列基板包括透明基板10、栅线11、栅绝缘层12、钝化层13、透明导电层15、薄膜晶体管未图示、数据线未图示、公共电极线未图示、公共电极及像素电极未图示等。其中，透明导电层仅设置于压接区域，像素电极和薄膜晶体管TFT通常仅设置在面板区域，其他结构皆横跨面板。

6、区域和压接区域。由于图1为沿栅线11的剖面图，因此未图示与栅线平行的公共电极线，与栅线垂直的数据线。沿公共电极线的剖面图与沿栅线的剖面图一致。而沿数据线的剖面图中，数据线位于栅绝缘层和钝化层之间。0006粘合部30设置在粘合区域300内，用于粘合阵列基板和彩膜基板20。粘合阵列基板和彩膜基板的工艺叫做对盒工艺。保护部40一般为硅胶，涂覆在面板区域100和压接区域200之间的钝化层13上。导电胶层50为各项异性导电胶ANISOTROPICCONDUCTIVEFILM，简称ACF，用于将驱动电路板60与透明导电层15连接。驱动电路板60一般采用覆晶薄膜CHIPONFILM，简称COF。0007现有。

7、的液晶显示器阵列基板及彩膜基板的制造工艺，为了节省成本，一般制造出设计有多个阵列基板或彩膜基板结构的大型的基板，然后将大型的阵列基板和大型的彩膜基板进行对盒工艺粘合在一起。对盒工艺后，需要用切割工具将阵列基板和彩膜基板分别进行切割。切割工艺后，为了保护切割部分，涂覆一层硅胶形成保护部，并将驱动电路板压接在阵列基板的压接区域。如此便得到图1中所示的面板结构。0008现有的液晶面板经常出现如下三种不良00091钝化层和栅绝缘层等绝缘层涂覆不良，导致压接区域和面板区域之间的栅线、数据线或公共电极线等信号线暴露于空气中。此时一些导电异物粉尘会导致信号线短路，或一些清洗液等液体会腐蚀信号线使其断线。此处。

8、，不论是否有完整的保护部覆盖，也需要返工修复。00102切割工艺中，切割彩膜基板时，彩膜基板的碎片落到压接区域和面板区域之间说明书CN102109713ACN102109716A2/4页4的钝化层上，划破钝化层和栅绝缘层，使信号线断线或导电碎片使信号线之间短路等。此时无论保护部覆盖完整与否，皆需要返工修复。00113上述两种情形中，如果还发生保护部不能完全覆盖压接区域和面板区域之间的不良时，信号线的将处于更加危险的境地，几乎不可避免地需要进行返工修复。发明内容0012本发明实施例提供一种液晶显示面板、阵列基板及其制备方法，用以减少上述现有技术中的缺陷的发生，提高液晶显示面板的制作良品率，减少返。

9、工，降低成本。0013本发明实施例提供一种阵列基板，包括压接区域及粘合区域，所述压接区域及粘合区域之间的第一绝缘层上，围绕粘合区域设置有第二绝缘层。0014上述的阵列基板，其中所述第二绝缘层还设置于部分粘合区域内。0015上述的阵列基板，其中所述第二绝缘层为取向膜。0016上述的阵列基板，其中所述第一绝缘层为设置在栅线或公共电极线上方的栅绝缘层及钝化层。0017上述的阵列基板，其中所述第一绝缘层为设置于数据线上方的钝化层。0018本发明实施例还提供一种包括上述的阵列基板的液晶显示面板。0019上述的液晶显示面板，其中所述第二绝缘层还设置于部分粘合区域内。0020上述的液晶显示面板，其中所述第二。

10、绝缘层为取向膜。0021本发明实施例还提供一种阵列基板的制备方法，包括0022步骤1、在形成有包括信号线、TFT及像素电极的图形的阵列基板上形成取向膜；0023步骤2、去除全部或部分形成在阵列基板的粘合区域内的取向膜，并去除压接区域的透明导电层上方的取向膜。0024本发明实施例的液晶显示面板、阵列基板及其制备方法，通过在压接区域及粘合区域之间设置第二绝缘层，可以可靠地保护彩膜基板的碎片或第一绝缘层涂覆不良导致的信号线断线或短路，提高液晶显示器的良品率，减少返工，降低成本。附图说明0025为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地。

11、介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。0026图1为现有的薄膜晶体管液晶显示器的液晶面板沿阵列基板的栅线的剖面图；0027图2为本发明阵列基板的平面示意图；0028图3为本发明液晶显示面板第一实施例的沿栅线的剖面图；0029图4为本发明阵列基板的制备方法的流程图。具体实施方式0030本发明的阵列基板，包括压接区域及粘合区域，压接区域及粘合区域之间的第一绝缘层上，围绕粘合区域设置有第二绝缘层。说明书CN102109713ACN102109716A3/4页50031本发明实施例的液晶显示面。

12、板、阵列基板及其制备方法，通过在压接区域及粘合区域之间设置第二绝缘层，可以可靠地保护彩膜基板的碎片或第一绝缘层涂覆不良导致的信号线断线或短路，提高液晶显示器的良品率，减少返工，降低成本。0032第二绝缘层还可以设置于部分粘合区域内，只要不影响粘接部对阵列基板和彩膜基板的粘接力度即可。第二绝缘层可以采用取向膜材料形成，在阵列基板上形成取向膜时，同时形成第二绝缘层。0033为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人。

13、员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。0034图2为本发明阵列基板的平面示意图。图3为本发明液晶显示面板第一实施例的沿栅线的剖面图，图示出了保护部出现涂覆不良时的情形。如图2及图3所示，本发明的液晶面板按功能可分为面板区域100和压接区域200，面板区域100的四个边上具有粘合区域300。其中，面板区域100为液晶显示面板的工作区域，用于显示图像；粘合区域300为用于粘合阵列基板和彩膜基板20的区域；压接区域为将阵列基板与外部驱动电路板60连接的区域。0035按结构，液晶面板包括阵列基板、彩膜基板20、粘合部30、保护部40、导电胶层50、阵列基板侧取向膜。

14、14、彩膜基板侧取向膜24及驱动电路板60等。0036其中，阵列基板包括透明基板10、栅线11、栅绝缘层12、钝化层13、透明导电层15、薄膜晶体管18、数据线16、公共电极线17、公共电极未图示及像素电极未图示等。其中，透明导电层15仅设置于压接区域200，公共电极、像素电极和薄膜晶体管18通常仅设置在面板区域100，其他结构皆横跨面板区域100和压接区域200。0037粘合部30设置在粘合区域300内，用于粘合阵列基板和彩膜基板20。导电胶层50为ACF，用于将驱动电路板60与透明导电层15连接。驱动电路板60一般采用COF，COF上设有栅驱动芯片或数据驱动芯片。0038本发明中，粘合部3。

15、0和导电胶层50之间设置有第二绝缘层19。第二绝缘层19围绕粘合部30设置。第二绝缘层19也可以部分设置在粘合区域300内，位于粘合部30的下方，只要不影响粘合部30的粘合力度即可。为了节省工艺，第二绝缘层19可以采用取向膜的材料，形成取向膜的同时制作完成。0039保护部40一般为硅胶，涂覆在面板区域100和压接区域200之间的第二绝缘层19上。0040值得一提的是，沿公共电极线的剖面图与沿栅线的剖面图一致，因此省略；而沿数据线的剖面图中，与图1不同之处在于数据线位于栅绝缘层和钝化层之间，由于数据线上方只有钝化层，因此比栅线更加容易出现断线或短路的问题，即本发明的第二绝缘层对于数据线有更大的保。

16、护作用。0041本发明实施例，通过在压接区域及粘合区域之间设置第二绝缘层，即时保护部出现涂覆不良，也可以可靠地保护彩膜基板的碎片或第一绝缘层涂覆不良导致的信号线断线或短路，提高液晶显示器的良品率，减少返工，降低成本。0042图4为本发明阵列基板的制备方法的流程图。如图4所示，本发明阵列基板的制说明书CN102109713ACN102109716A4/4页6备方法，包括如下步骤0043步骤1、在形成有信号线、TFT及像素电极等的图形的阵列基板上形成取向膜；0044步骤2、去除全部或部分形成在阵列基板的粘合区域内的取向膜，并去除压接区域的透明导电层上方的取向膜。0045去除取向膜，可以采用现有的刻。

17、蚀法等常规手段。0046本发明阵列基板的制备方法，在形成取向膜的同时，形成了第二绝缘层，无需单独的工艺，即可得到第二绝缘层，简化了工艺，节省了时间和费用。0047最后应说明的是以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。说明书CN102109713ACN102109716A1/2页7图1图2说明书附图CN102109713ACN102109716A2/2页8图3图4说明书附图CN102109713A。