等离子增强化学气相沉积的方法及系统.pdf

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摘要
申请专利号:

CN200980101398.5

申请日:

2009.01.04

公开号:

CN101965417A

公开日:

2011.02.02

当前法律状态:

驳回

有效性:

无权

法律详情:

发明专利申请公布后的驳回IPC(主分类):C23C 16/513申请公布日:20110202|||专利申请权的转移IPC(主分类):C23C 16/513变更事项:申请人变更前权利人:东莞宏威数码机械有限公司变更后权利人:东莞宏威薄膜真空技术有限公司变更事项:地址变更前权利人:523081 中国广东省东莞市南城区石鼓村大龙路6号变更后权利人:523081 广东省东莞市南城区宏图高新科技开发区登记生效日:20111220|||实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/513申请日:20090104|||公开

IPC分类号:

C23C16/513; C23C16/50; C23C16/455; H01L31/18; H01L31/042

主分类号:

C23C16/513

申请人:

东莞宏威数码机械有限公司

发明人:

范振华

地址:

523081 中国广东省东莞市南城区石鼓村大龙路6号

优先权:

2008.01.01 US 11/968,188; 2008.06.19 US 12/142,730

专利代理机构:

广州三环专利代理有限公司 44202

代理人:

张艳美;郝传鑫

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内容摘要

一种处理基片或工件(108)的装置,其中,基片或者工件(108)用于制造太阳能电池板。所述装置包括多个细长电极(103)以及具有多个孔的喷射板(104)。每个孔对应一个细长电极(103),并在所述孔与所述细长电极(103)之间留有空隙(112)。因此,当给所述电极(103)和喷射板(104)施加射频源时,化学物质可通过所述空隙(112)喷射。

权利要求书

PCT国内申请,权利要求书已公开。

说明书

PCT国内申请,说明书已公开。

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资源描述

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1、10申请公布号CN101965417A43申请公布日20110202CN101965417ACN101965417A21申请号200980101398522申请日2009010411/968,18820080101US12/142,73020080619USC23C16/513200601C23C16/50200601C23C16/455200601H01L31/18200601H01L31/04220060171申请人东莞宏威数码机械有限公司地址523081中国广东省东莞市南城区石鼓村大龙路6号72发明人范振华74专利代理机构广州三环专利代理有限公司44202代理人张艳美郝传鑫54发明名称等。

2、离子增强化学气相沉积的方法及系统57摘要一种处理基片或工件108的装置,其中,基片或者工件108用于制造太阳能电池板。所述装置包括多个细长电极103以及具有多个孔的喷射板104。每个孔对应一个细长电极103,并在所述孔与所述细长电极103之间留有空隙112。因此,当给所述电极103和喷射板104施加射频源时,化学物质可通过所述空隙112喷射。30优先权数据85PCT申请进入国家阶段日2010061386PCT申请的申请数据PCT/CN2009/0700052009010487PCT申请的公布数据WO2009/082986ZH2009070951INTCL19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书0页说明书0页。

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