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1、10申请公布号CN102351186A43申请公布日20120215CN102351186ACN102351186A21申请号201110202614422申请日20110715C01B33/02200601B09B3/0020060171申请人浙江矽盛电子有限公司地址324300浙江省开化县工业园区银辉路8号矽盛电子72发明人金利民郜勇军74专利代理机构杭州天正专利事务所有限公司33201代理人舒良54发明名称一种表面具有金属镀层的硅料回收方法57摘要本发明涉及一种表面具有金属镀层的硅料回收方法，该方法是将带有金属镀层的硅料经过下列处理步骤A采用纯氢氟酸浸泡一定时间，直到表层的金属镀层发生脱。
2、落现象后停止；B采用王水煮泡一定时间；C采用普通的硅材料清洗工艺清洗；D采用离子水超洗。采用本发明，可以有效地将硅料表面具有的金属镀层去除，达到重新回收利用的目的。51INTCL19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书2页CN102351191A1/1页21一种表面具有金属镀层的硅料回收方法，其特征在于将带有金属镀层的硅料经过下列处理步骤A采用纯氢氟酸浸泡一定时间，直到表层的金属镀层发生脱落现象后停止；B采用王水煮泡一定时间；C采用普通的硅材料清洗工艺清洗；D采用离子水超洗。2根据权利要求1所述的一种表面具有金属镀层的硅料回收方法，其特征在于纯氢氟酸为工业级，体积浓。
3、度比为5556。3根据权利要求1所述的一种表面具有金属镀层的硅料回收方法，其特征在于采用纯氢氟酸浸泡时间在510天。4根据权利要求1所述的一种表面具有金属镀层的硅料回收方法，其特征在于王水为工业级硝酸和盐酸按体积13配比制成，配比前硝酸的体积浓度比为6263，配比前盐酸的体积浓度比为3638。5根据权利要求1所述的一种表面具有金属镀层的硅料回收方法，其特征在于采用王水煮泡一定时间，是指将硅料放入王水至浸没，加热至100120，保持时间在1小时以上。权利要求书CN102351186ACN102351191A1/2页3一种表面具有金属镀层的硅料回收方法技术领域0001本发明涉及一种表面具有金属镀层。
4、的硅料回收方法。背景技术0002目前，对于用重掺测试仪测试，有响声，表现为重掺的一种表面具有金属镀层的废硅料，通常情况下当废料处理，没有进行回收利用。发明内容0003本发明的目的是提供能去除表面金属，回收硅料的一种表面具有金属镀层的硅料回收方法。0004本发明采取的技术方案是一种表面具有金属镀层的硅料回收方法，其特征在于将带有金属镀层的硅料经过下列处理步骤0005A采用纯氢氟酸浸泡一定时间，直到表层的金属镀层发生脱落现象后停止；0006B采用王水煮泡一定时间；0007C采用普通的硅材料清洗工艺清洗；0008D采用离子水超洗。0009所述的纯氢氟酸为工业级，体积浓度比为5556。0010所述的采。
5、用纯氢氟酸浸泡时间在510天。0011所述的王水为工业级硝酸和盐酸按体积13配比制成，配比前硝酸的体积浓度比为6263，配比前盐酸的体积浓度比为3638。0012所述的采用王水煮泡一定时间，是指将硅料放入王水至浸没，加热至100120，保持时间在1小时以上。0013采用本发明，可以有效地将硅料表面具有的金属镀层去除，达到重新回收利用的目的。具体实施方式0014下面结合具体的实施例对本发明作进一步说明。0015本发明将带有金属镀层的硅料经过下列处理步骤0016一、采用体积浓度比为5556，工业级的纯氢氟酸浸泡510天，直到表层的金属镀层发生脱落现象后停止。0017二、制作王水，以工业级硝酸和盐酸按体积13配比制成，配比前硝酸的体积浓度比为6263，配比前盐酸的体积浓度比为3638。0018三、将硅料放入王水至浸没，并加热至100120，保持时间在1小时以上，然后取出。0019四、采用普通的硅材料清洗工艺清洗，即经过离子水清洗离子水超声烘干。0020五、采用离子水超洗。说明书CN102351186ACN102351191A2/2页40021通过上述步骤，可以有效地将硅料表面具有的金属镀层去除，达到重新回收利用的目的。说明书CN102351186A。