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1、10申请公布号CN104131572A43申请公布日20141105CN104131572A21申请号201410408268922申请日20140819E02D17/20200601A01G1/0020060171申请人福建农林大学地址350002福建省福州市仓山区上下店路15号72发明人蔡丽平马祥庆侯晓龙邹显花74专利代理机构福州元创专利商标代理有限公司35100代理人蔡学俊54发明名称一种用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法57摘要本发明涉及一种用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法，按以下步骤进行（1）在红壤强度侵蚀坡面上沿各等高线分别挖水平沟组，所述水平沟组包括若干条水平沟，水平沟的横断面呈梯形；。
2、（2）在同一水平沟组内相邻的两条水平沟之间挖种植穴，种植穴的横截面呈梯形；（3）在水平沟内种植灌木和草本，在种植穴内种草；（4）在同一水平沟组内开挖浅沟，在浅沟内均匀撒播水土保持草籽，形成水平草带链；（5）等一年之后强度侵蚀坡地环境改善后，在水平沟和种植穴内再种植乔木。本方法用于红壤强度侵蚀坡地水土流失治理和植被恢复的生态环境的治理，增加坡地蓄水保土，创造有利于植被恢复的生态环境，提高红壤强度侵蚀区的治理效果。51INTCL权利要求书1页说明书4页附图2页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书4页附图2页10申请公布号CN104131572ACN104131572。
3、A1/1页21一种用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法，其特征在于，按以下步骤进行（1）在红壤强度侵蚀坡面上沿各等高线分别挖水平沟组，所述水平沟组包括若干条水平沟，所述水平沟的横断面呈梯形；（2）在同一水平沟组内相邻的两条水平沟之间挖种植穴，所述种植穴的横截面呈梯形；（3）在水平沟内种植灌木和草本，在种植穴内种草；（4）在水平沟和种植穴临近坡面外侧处开挖浅沟，并在同一水平沟组内开挖连通水平沟和种植穴的浅沟，使同一水平沟组内的浅沟相连通，然后在浅沟内均匀撒播水土保持草籽，形成水平草带链；（5）等一年之后强度侵蚀坡地环境改善后，在水平沟正中央和种植穴内再种植乔木。2根据权利要求1所述的用于治理红壤强度侵。
4、蚀坡地的方法，其特征在于所述水平沟的梯形横断面的沟顶开口宽为55CM、沟底宽为20CM、沟深为40CM、沟长为4M，所述水平沟外侧斜面坡度为75，其内侧斜面坡度为60，开挖水平沟时的表土与底土分开堆放，底土用于外侧斜坡作埂，表土用于种植植物回填、覆土。3根据权利要求1所述的用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法，其特征在于所述相邻两水平沟组中的相邻三条水平沟呈品字形排列，所述同一水平沟组内相邻水平沟水平间距为2M，相邻水平沟组的上下行距为2M，水平沟的条沟密度为650条/HM2。4根据权利要求1所述的用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法，其特征在于所述种植穴的穴顶直径为50CM，穴底直径为30CM，穴深为4。
5、0CM。5根据权利要求1所述的用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法，其特征在于在水平沟内种植灌木和草本、以及一年后在水平沟和种植穴内种植乔木苗时，在种植前要下好基肥，所述基肥采用生物有机肥，并保证每条水平沟沟内至少施生物有机肥15KG，每个种植穴内至少施生物有机肥025KG，将生物有机肥均匀撒施于水平沟和种植穴底部，然后用开挖水平沟和种植穴时的表土覆盖，覆盖深度为水平沟或种植穴深度的2/3，将土和生物有机肥充分拌匀。6根据权利要求1所述的用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法，其特征在于在水平沟内种植灌木和乔木苗时，苗木截杆高2030CM后定植，栽植深度比原圃地根颈深35CM，然后踩实，水平沟正中央第一年种。
6、草，第二年改种一株乔木，在乔木左右各种植三株灌木，灌木株距05M；种植穴内第一年种草，第二年改种一株乔木，每1HM2种植乔木1300株，灌木3900株，所述灌木和乔木以优良乡土水土保持树种为主。7根据权利要求1所述的用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法，其特征在于所述浅沟的沟深为至少5CM，所述的水土保持草籽为宽叶雀稗种籽60KG/HM2，或为百喜草种籽105KG/HM2，将草籽拌生物有机肥或稻田土后均匀撒在浅沟内。权利要求书CN104131572A1/4页3一种用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法技术领域0001本发明涉及一种用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法。背景技术0002在我国南方红壤区花岗岩母质发育。
7、的土壤粗晶粒含量高，土体结构松散，抗蚀性差，极易产生水土流失。当地面植被遭到破坏后，土壤裸露而直接受到坡面径流的强烈冲刷，长期侵蚀使得坡地大部分表土丧失，心土裸露，有的甚至剥蚀到母质层，坡地表层布满粗晶体沙砾，土壤肥力低下，干热化程度高，植被自然恢复极为困难，成为制约当地社会经济发展的重要瓶颈。0003传统的红壤区水土流失治理多采用生物措施或工程措施，工程措施有等高水平沟、竹节沟、水平梯田、水平台地等，可拦蓄径流泥沙。而生物措施有植树、种草、秸秆覆盖等，可增加地表覆盖。在红壤区侵蚀程度轻的坡地治理中，采用工程措施或生物措施均可起到较好水土保持作用。但在红壤强度侵蚀坡地，特别是长期水土流失导致粗。
8、晶体颗粒多的坡地，地表温度高，土壤贫瘠，单独采用生物措施或工程措施水土流失治理效果差，植被难以恢复。发明内容0004本发明针对上述现有技术存在的问题做出改进，即本发明所要解决的技术问题是提供一种用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法，用于红壤强度侵蚀坡地水土流失治理和植被恢复的生态环境的治理，增加坡地蓄水保土，创造有利于植被恢复的生态环境，提高红壤强度侵蚀区的治理效果。0005为了解决上述技术问题，本发明的技术方案是一种用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法，按以下步骤进行（1）在红壤强度侵蚀坡面上沿各等高线分别挖水平沟组，所述水平沟组包括若干条水平沟，所述水平沟的横断面呈梯形；（2）在同一水平沟组内相邻的两。
9、条水平沟之间挖种植穴，所述种植穴的横截面呈梯形；（3）在水平沟内种植灌木和草本，在种植穴内种草；（4）在水平沟和种植穴临近坡面外侧处开挖浅沟，并在同一水平沟组内开挖连通水平沟和种植穴的浅沟，使同一水平沟组内的浅沟相连通，然后在浅沟内均匀撒播水土保持草籽，形成水平草带链；（5）等一年之后强度侵蚀坡地环境改善后，在水平沟正中央和种植穴内再种植乔木。0006进一步的，所述水平沟的梯形横断面的沟顶开口宽为55CM、沟底宽为20CM、沟深为40CM、沟长为4M，所述水平沟外侧斜面坡度为75，其内侧斜面坡度为60，开挖水平沟时的表土与底土分开堆放，底土用于外侧斜坡作埂，表土用于种植植物回填、覆土。0007。
10、进一步的，所述相邻两水平沟组中的相邻三条水平沟呈品字形排列，所述同一水说明书CN104131572A2/4页4平沟组内相邻水平沟水平间距为2M，相邻水平沟组的上下行距为2M，水平沟的条沟密度为650条/HM2。0008进一步的，所述种植穴的穴顶直径为50CM，穴底直径为30CM，穴深为40CM。0009进一步的，在水平沟内种植灌木和草本、以及一年后在水平沟和种植穴内种植乔木苗时，在种植前要下好基肥，所述基肥采用生物有机肥，并保证每条水平沟沟内至少施生物有机肥15KG，每个种植穴内至少施生物有机肥025KG，将生物有机肥均匀撒施于水平沟和种植穴底部，然后用开挖水平沟和种植穴时的表土覆盖，覆盖深度。
11、为水平沟或种植穴深度的2/3，将土和生物有机肥充分拌匀。0010进一步的，在水平沟内种植灌木和乔木苗时，苗木截杆高2030CM后定植，栽植深度比原圃地根颈深35CM，然后踩实，水平沟正中央第一年种草，第二年改种一株乔木，在乔木左右各种植三株灌木，灌木株距05M；种植穴内第一年种草，第二年改种一株乔木，每1HM2种植乔木1300株，灌木3900株，所述灌木和乔木以优良乡土水土保持树种为主。0011进一步的，所述浅沟的沟深为至少5CM，所述的水土保持草籽为宽叶雀稗种籽60KG/HM2，或为百喜草种籽105KG/HM2，将草籽拌生物有机肥或稻田土后均匀撒在浅沟内。0012与现有技术相比，本发明具有以。
12、下有益效果本发明所述的强度侵蚀坡地治理技术，是根据坡面径流调控理论，采用坡面工程与生物措施相结合的等高乔灌草植物链技术。在强度侵蚀区，由于植被稀少而地表裸露，坡面径流冲刷强烈，通过布设坡面工程等高水平沟、种植穴、浅沟，可以截短坡长，削减径流冲刷力，同时能有效拦截坡面径流泥沙，由于沟、穴深，容积大，能够拦蓄较多的地表径流，促进水分入渗及养分沉积，改善沟、穴内土壤水分及养分状况，沟壁有一定的遮荫作用，改变了沟内土壤的光照条件，可以降低沟内的土壤水分蒸发，为植物生长创造有利条件，沟、穴内乔、灌、草快速生长，覆盖地表，形成茂密的水平草灌丛等高乔灌草植物链。而沟、穴内植物的生长反过来能更好地保护坡面工程。
13、，促进径流泥沙的拦蓄沉积，有效控制水土流失，因而可以取得良好的植被恢复与蓄水保土效果。具有方法简单、成本低，操作简便、治理效果理想的优点，特别适宜在强度侵蚀区水土流失治理过程中推广应用。0013下面结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细的说明。附图说明0014图1为本发明实施例中水平沟的梯形横断面示意图。0015图2为本发明实施例中种植穴的梯形横截面示意图。0016图3为本发明实施例多条水平沟组的俯视图。0017图4为本发明实施例一条水平沟组的局部剖视图。0018图5为本发明实施例中水平沟沿斜坡布置的侧视图。0019图中1水平沟组，11水平沟，12种植穴，13浅沟，2红壤强度侵蚀坡，S1水。
14、平沟开口宽度，S2水平沟沟底宽度，D1种植穴的穴顶直径，D2种植穴的穴底直径，H1水平沟的深度，H2种植穴的深度，L1水平沟长度，L2同一组内相邻水平沟的距离，L3相邻水平沟组的距离，H相邻水平沟组的上下行距，A水平沟外侧斜面坡度，B水平沟内侧斜面坡度。说明书CN104131572A3/4页5具体实施方式0020实施例一如图15所示，一种用于治理红壤强度侵蚀坡地的方法，按以下步骤进行（1）在红壤强度侵蚀坡2面上沿各等高线分别挖水平沟组1，所述水平沟组1包括若干条水平沟11，所述水平沟11的横断面呈梯形；（2）在同一水平沟组1内相邻的两条水平沟11之间挖种植穴12，所述种植穴12的横截面呈梯形；。
15、（3）在水平沟11内第一年种植灌木和草本，等一年之后强度侵蚀坡地环境改善后，第二年将正中央的草本改种乔木；（4）在种植穴12内第一年种草，等一年之后强度侵蚀坡地环境改善后，第二年改种乔木；（5）在水平沟11和种植穴12临近坡面外侧处开挖浅沟，并在同一水平沟组1内开挖连通水平沟和种植穴的浅沟，使同一水平沟组内的浅沟13相连通，然后在浅沟13内均匀撒播水土保持草籽，形成水平草带链。0021本实施例中等高水平沟、种植穴、浅沟，可以截短坡长，削减径流冲刷力，同时能有效拦截坡面径流泥沙，由于沟、穴深，容积大，能够拦蓄较多的地表径流，促进水分入渗及养分沉积，改善沟、穴内土壤水分及养分状况，沟壁有一定的遮荫。
16、作用，改变了沟内土壤的光照条件，可以降低沟内的土壤水分蒸发，为植物生长创造有利条件，沟、穴内乔、灌、草快速生长，覆盖地表，形成茂密的水平草灌丛等高乔灌草植物链。而沟、穴内植物的生长反过来能更好地保护坡面工程，促进径流泥沙的拦蓄沉积，有效控制水土流失，因而可以取得良好的植被恢复与蓄水保土效果本实施例中，所述水平沟11的梯形横断面的沟顶开口宽S1为55CM、沟底宽S2为20CM、沟深H1为40CM、沟长L1为4M，所述水平沟外侧斜面坡度A为75，其内侧斜面坡度B为60，开挖水平沟11的出土用于外侧斜坡作埂。0022本实施例中，所述相邻两水平沟组中的相邻三条水平沟呈品字形排列，所述同一水平沟组内相邻。
17、水平沟水平间距L2为2M，相邻水平沟组的上下行距H为2M，水平沟的条沟密度为650条/HM2。0023本实施例中，所述种植穴12的穴顶直径D1为50CM，穴底直径D2为30CM，穴深H2为40CM。0024本实施例中，在水平沟内种植灌木和草本、以及一年后在水平沟和种植穴内种植乔木苗时，在种植前要下好基肥，所述基肥采用生物有机肥，并保证每条水平沟沟内至少施生物有机肥15KG，每个种植穴内至少施生物有机肥025KG，将生物有机肥均匀撒施于水平沟和种植穴底部，然后用开挖水平沟和种植穴时的表土覆盖，覆盖深度为水平沟或种植穴深度的2/3，将土和生物有机肥充分拌匀。0025本实施例中，在水平沟内种植灌木和。
18、乔木苗时，苗木截杆高2030CM后定植，栽植深度比原圃地根颈深35CM，然后踩实，水平沟正中央第一年种草，第二年改种一株乔木，在乔木左右各种植三株灌木，灌木株距05M；种植穴内第一年种草，第二年改种一株乔木，每1HM2种植乔木1300株，灌木3900株，所述灌木和乔木以乡土水土保持树种为主。0026本实施例中，所述浅沟的沟深为至少5CM，所述的水土保持草籽为宽叶雀稗种籽说明书CN104131572A4/4页660KG/HM2，或为百喜草种籽105KG/HM2，将草籽拌生物有机肥或稻田土后均匀撒在浅沟内。灌木以胡枝子为主。0027本实施例中，应在水平条沟、种植穴灌木和草本种植后第二年，土壤环境改善后再在水平沟正中央和种植穴内改种乔木，乔木树种一般以乡土水土保持树种为主，如马尾松、木荷、杨梅、枫香、闽粤栲、山杜英等。0028以上所述仅为本发明的较佳实施例，凡依本发明申请专利范围所做的均等变化与修饰，皆应属本发明的涵盖范围。说明书CN104131572A1/2页7图1图2图3图4说明书附图CN104131572A2/2页8图5说明书附图CN104131572A。