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1、10申请公布号CN104078383A43申请公布日20141001CN104078383A21申请号201410104338122申请日20140320102013003343220130328KR102014001703420140214KRH01L21/6720060171申请人圆益IPS股份有限公司地址韩国京畿道72发明人徐康镇刘成真李炳祐金昌洙梁皓植74专利代理机构北京青松知识产权代理事务所特殊普通合伙11384代理人郑青松54发明名称基板处理系统及基板处理方法57摘要本发明涉及处理基板，更详细地说涉及包括一个以上搬送模块及一个以上的工序模块，执行基板处理的基板处理系统及利用此的基板。
2、处理方法。本发明公开了基板处理系统，作为基板与以一方向移送的生产线连接以执行基板处理的基板处理系统，其特征在于，包括多个搬送模块，按顺序配置包括与所述生产线连接的第1搬送模块；一个以上的工序模块，在所述多个搬送模块中至少连接一个，执行基板处理；多个缓冲模块，相互连接所述多个搬送模块之间。所述多个搬送模块及所述多个缓冲模块，接收从所述生产线传达的基板，执行基板处理后，为了使完成基板处理的基板返回至所述生产线，以构成的单一闭合曲线的线路进行配置。30优先权数据51INTCL权利要求书3页说明书9页附图4页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书3页说明书9页附图4页10申请公布号。
3、CN104078383ACN104078383A1/3页21一种基板处理系统，作为基板与以一方向移送的生产线连接以执行基板处理的基板处理系统，其特征在于，包括多个搬送模块，按顺序配置，包括与所述生产线连接的第1搬送模块；一个以上的工序模块，至少连接在在所述多个搬送模块中的一个，执行基板处理；多个缓冲模块，相互连接所述多个搬送模块之间，所述多个搬送模块及所述多个缓冲模块，接收从所述生产线传达的基板，执行基板处理后，为了使完成基板处理的基板返回至所述生产线，以构成单一闭合曲线的线路进行配置。2根据权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，还包括基板交换模块，设置在所述生产线与所述第1搬送模块之间，。
4、构成与所述生产线的基板交换，及与所述第1搬送模块的基板交换。3根据权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于，所述基板交换模块，包括盒部，基板形成层次积载多个；上下移动部，使所述盒部上下移动。4根据权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于，所述基板交换模块，追加设置基板排序部，排序积载的基板的水平位置。5根据权利要求1至4中任意一项所述的基板处理系统，其特征在于，所述搬送模块，包括搬送机器人，包括基板安装部，安装基板；线形移动部，使基板安装部线形移动；与旋转移动部，使所述线形移动部旋转。6根据权利要求5所述的基板处理系统，其特征在于，所述多个搬送模块，包括所述第1搬送模块及按顺序配置的第2搬送模。
5、块、第3搬送模块、第4搬送模块及第5搬送模块，所述多个缓冲模块，包括第1缓冲模块，连接所述第1搬送模块及所述第2搬送模块；第2缓冲模块，连接所述第2搬送模块及所述第3搬送模块；第3缓冲模块，连接所述第3搬送模块及所述第4搬送模块；第4缓冲模块，连接所述第4搬送模块及所述第5搬送模块；第5缓冲模块，连接所述第5搬送模块及所述第1搬送模块。7根据权利要求6所述的基板处理系统，其特征在于，所述第2至第5搬送模块中至少任意一个，结合执行基板处理的一个以上的工序模块。8根据权利要求6所述的基板处理系统，其特征在于，所述第1至第5缓冲模块中的一部分为，第1翻转模块，翻转使基板处理面向下侧；与第2翻转模块，。
6、使其与所述第1翻转模块跟进的配置，根据所述翻转模块，使基板处理面向下侧翻转的基板面向上侧进行再反转。9根据权利要求8所述的基板处理系统，其特征在于，所述第1翻转模块为所述第1缓冲模块，所述第2翻转模块为所述第3缓冲模块。权利要求书CN104078383A2/3页310根据权利要求9所述的基板处理系统，其特征在于，所述第3搬送模块，结合一个以上的工序模块，在所述第3搬送模块设置的第3搬送机器人，从所述第2翻转模块提取基板传达至所述工序模块，将从所述工序模块基板处理的基板传达至所述第2翻转模块。11根据权利要求6所述的基板处理系统，其特征在于，从所述第1搬送模块至所述第2至第3搬送模块中的任意一个。
7、维持第1压力，剩余搬送模块维持与所述第1压力不同的第2压力，连接维持所述第1压力的搬送模块及维持所述第2压力的搬送模块的缓冲模块，在第1压力及第2压力之间进行压力变换。12根据权利要求1至4中任意一项所述的基板处理系统，其特征在于，所述第1搬送模块及与其按顺序配置的一个以上的搬送模块维持第1压力，剩余搬送模块维持与所述第1压力不同的第2压力，连接维持所述第1压力的搬送模块及维持所述第2压力的搬送模块的缓冲模块，在第1压力及第2压力之间进行压力变换。13根据权利要求1至4中任意一项所述的基板处理系统，其特征在于，所述缓冲模块的至少一部分，腔室与所述搬送模块结合的水平结合方向，对根据所述搬送模块的。
8、搬送机器人的基板直线移送路径形成倾斜，与所述搬送模块结合。14根据权利要求1至4中任意一项所述的基板处理系统，其特征在于，所述多个缓冲模块中的一部分为，以导入基板时为基准，为了使其后端向其他搬送模块导入，使基板水平旋转的基板水平旋转模块。15利用权利要求1至4中任意一项的基板处理系统的基板处理方法，其特征在于，根据以单一闭合曲线线路配置所述多个搬送模块及所述多个缓冲模块，基板以顺时针方向移送的第1基板处理及基板以逆时针方向移送的第2基板处理中，选择性的执行任意一个或全部执行。16利用权利要求1至4中任意一项的基板处理系统的基板处理方法，其特征在于，根据以单一闭合曲线线路配置所述多个搬送模块及所。
9、述多个缓冲模块，基板至少以顺时针方向及逆时针方向中的一个方向移送。17根据权利要求16所述的基板处理方法，其特征在于，以所述第1搬送模块为起点，经过所述单一闭合曲线线路配置，一次或多次反复基板重新到达所述第1搬送模块的周期。18根据权利要求16所述的基板处理方法，其特征在于，包括在相同或类似的第1工序，及在所述第1工序间执行的一个以上的第2工序，按顺序配置，执行所述第1工序的一个以上的第1工序模块结合的第1工序搬送模块，及执行所述第2工序的一个以上的第2工序模块结合的第2工序搬送模块，在所述第1工序模块执行所述第1工序，将执行所述第1工序的基板，经过所述第1工序搬送模块及所述第2工序搬送模块，。
10、传达至所述第2工序模块执行所述第2工序，将完成所述第2工序的基板，经过所述第2工序搬送模块及所述第1工序搬送模块，传达至所述第1工序模块执行所述第1工序。权利要求书CN104078383A3/3页419根据权利要求16所述的基板处理方法，其特征在于按顺序执行第1工序、第2工序及第3工序，按顺序配置，分别执行所述第1工序及所述第3工序的第1工序模块，及结合第3工序模块的第1工序搬送模块，及执行所述第2工序的一个以上的第2工序模块结合的第2工序搬送模块，在所述第1工序模块执行所述第1工序，将执行所述第1工序的基板，经过所述第1工序搬送模块及所述第2工序搬送模块，传达至所述第2工序模块执行所述第2工。
11、序，将完成所述第2工序的基板，经过所述第2工序搬送模块及所述第1工序搬送模块，传达至所述第3工序模块模块，执行所述第3工序20根据权利要求19所述的基板处理方法，其特征在于，所述第1工序及所述第3工序在第1压力下执行，所述第2工序在与所述第1压力不同的第2压力下执行。21根据权利要求20所述的基板处理方法，其特征在于，所述第1压力为真空压，并且所述第2压力为大气压。22根据权利要求19所述的基板处理方法，其特征在于，所述第1至第3工序执行2次以上。23根据权利要求19所述的基板处理方法，其特征在于，所述第1工序及第3工序为沉积工序。权利要求书CN104078383A1/9页5基板处理系统及基板。
12、处理方法技术领域0001本发明涉及基板处理，更详细地说涉及包括一个以上搬送模块及一个以上的工序模块，执行基板处理的基板处理系统及利用此的基板处理方法。背景技术0002基板处理系统是指，在半导体、用于LCD面板的基板、OLED基板、太阳电子基板等基板的基板的处理面，执行沉积、蚀刻等规定的基板处理的系统。0003还有，一般地说基板处理系统的构成，包括一个以上的工序模块，为了执行基板处理；搬送模块，向工序模块内导入基板或提取基板。在一个搬送模块，具有集群（CLUSTER）类型，结合多个工序模块；与直线（INLINE）类型，按顺序结合装载锁定模块、工序模块及卸载锁定模块。0004另一方面，基板处理系统。
13、与以单一的工序构成相比，根据生产线移送基板的同时按顺序构成多个工序，且正在频繁的进行根据基板的大型化、导入新技术的一部产线的变更（工序变更）、工序增加等。0005尤其是，变更工序或追加工序时，应变更已设置的生产线或设置新的生产线。0006但是，与新规生产线的设置不同，在现有的生产线要追加设置工序系统的情况，在已设置的生产线的周边设置多个柱等，在追加设置工序系统上存在受到各种制约的问题。0007尤其是，已设置生产线的情况，根据优选的设置在工厂内，因此追加设置工序系统时，柱子的存在与邻接的生产线干涉问题等，存在制约空间的问题。0008另外，根据工序种类，为了反复执行热处理后的再沉积等一系列的工序，。
14、基板处理系统构成直线构造的情况，根据固定基板移送方向，以一系列工序的反复次数设置装置，当然存在增加设置系统费用的问题，还存在增加为了执行基板处理的设置空间的问题。发明内容0009要解决的课题0010为了解决如上所述的问题，本发明提供基板处理系统及基板处理方法的目的在于，具有构成系统的模块与基板以一方向移送的生产线连接，接收从生产线传达的基板，执行基板处理后，重新将基板传达至生产线构成单一闭合曲线的线路配置，进而可解决为了设置系统的空间性制约。0011另外，本发明提供基板处理系统及基板处理方法的其他目的在于，在具有构成系统的模块与基板以一方向移送的生产线连接，接收从生产线传达的基板，执行基板处理。
15、后，重新将基板传达至生产线以构成单一闭合曲线的线路配置基板处理系统，根据执行工序的特性，可运营多样形态的基板移送，因此可进行多样的基板处理。0012课题的解决方法0013本发明作为为达成如上所述的本发明的目的所提出，本发明公开了基板处理系统，作为基板与以一方向移送的生产线连接，以执行基板处理的基板处理系统的特征在于，说明书CN104078383A2/9页6包括多个搬送模块，按顺序配置，包括与所述生产线连接的第1搬送模块；一个以上的工序模块，至少连接在所述多个搬送模块中的一个，执行基板处理；多个缓冲模块，相互连接所述多个搬送模块之间。所述多个搬送模块及所述多个缓冲模块，接收从所述生产线传达的基板。
16、，执行基板处理后，为了使完成基板处理的基板返回至所述生产线，以构成单一闭合曲线的线路进行配置。0014还包括基板交换模块，设置在所述生产线与所述第1搬送模块之间，进行与所述生产线的基板交换，及与所述第1搬送模块的基板交换。0015所述基板交换模块，可包括盒（CASSETTE）部，基板形成层次积载多个；上下移动部，使所述盒部上下移动。0016所述基板交换模块，可追加设置基板排序部，排序积载的基板的水平位置。0017所述搬送模块，可包括搬送机器人，包括基板安装部，安装基板；线形移动部，使基板安装部线形移动；与旋转移动部，使所述线形移动部旋转。0018所述多个搬送模块，包括所述第1搬送模块及按顺序配。
17、置的第2搬送模块、第3搬送模块、第4搬送模块及第5搬送模块。所述多个缓冲模块，可包括第1缓冲模块，连接所述第1搬送模块及所述第2搬送模块；第2缓冲模块，连接所述第2搬送模块及所述第3搬送模块；第3缓冲模块，连接所述第3搬送模块及所述第4搬送模块；第4缓冲模块，连接所述第4搬送模块及所述第5搬送模块；第5缓冲模块，连接所述第5搬送模块及所述第1搬送模块。0019所述第2至第5搬送模块中至少任意一个，可结合执行基板处理的一个以上的工序模块。0020所述第1至第5缓冲模块中的一部分，可以是第1翻转模块，翻转使基板处理面向下侧；与第2翻转模块，使其与所述第1翻转模块跟进的进行配置，根据所述翻转模块，使。
18、基板处理面向下侧翻转的基板面向上侧再反转。0021所述地1翻转模块可以是所述第1缓冲模块，所述第2翻转模块可以是所述第3缓冲模块。0022所述第3搬送模块，结合一个以上的工序模块，并且在所述第3搬送模块设置的第3搬送机器人，从所述第2翻转模块提取基板传达至所述工序模块，并且可将从所述工序模块基板处理的基板传达至所述第2翻转模块。0023从所述第1搬送模块至所述第2至第3搬送模块中的任意一个维持第1压力，并且剩余搬送模块维持与所述第1压力不同的第2压力，并且连接维持所述第1压力的搬送模块，及维持所述第2压力的搬送模块的缓冲模块，可在第1压力及第2压力之间进行压力变换。0024所述第1搬送模块及与。
19、其按顺序配置的一个以上的搬送模块维持第1压力，剩余搬送模块维持与所述第1压力不同的第2压力，并且连接维持所述第1压力的搬送模块及维持所述第2压力的搬送模块的缓冲模块，可在第1压力及第2压力之间进行压力变换。0025所述缓冲模块的至少一部分，腔室与所述搬送模块结合的水平结合方向，对根据所述搬送模块的搬送机器人的基板线路移送路径形成倾斜，可与所述搬送模块结合。0026所述多个缓冲模块中的一部分，可以是基板水平旋转模块，以导入基板时为基准，为了使其后端面向其他搬送模块导入，使基板水平旋转。说明书CN104078383A3/9页70027另外，本发明作为利用具有如上所述构成的基板处理系统的基板处理方法。
20、，公开了基板处理方法，其特征在于，根据以单一闭合曲线线路配置所述多个搬送模块及所述多个缓冲模块，基板至少以顺时针方向及逆时针方向中的一种方向移送。0028另外，本发明作为利用具有如上所述构成的基板处理系统的基板处理方法，公开了基板处理方法，其特征在于，根据以单一闭合曲线在线配置所述多个搬送模块及所述多个缓冲模块，在基板以顺时针方向移送的第1基板处理及基板以逆时针方向移送的第2基板处理中，选择性的执行任意一种或执行全部。0029另外，本发明作为利用具有如上所述构成的基板处理系统的基板处理方法，公开了基板处理方法，其特征在于，根据以单一闭合曲线线路配置所述多个搬送模块及所述多个缓冲模块，至少以顺时。
21、针方向及逆时针方向中的一种方向移送基板。0030以所述第1搬送模块为起点，经过所述单一闭合曲线线路配置，可一次或多次反复基板重新到达第1搬送模块的周期。0031包括相同或类似的第1工序，及在所述第1工序间执行的一个以上的第2工序，并且按顺序配置，执行所述第1工序的一个以上的第1工序模块结合的第1工序搬送模块，及执行所述第2工序的一个以上的第2工序模块结合的第2工序搬送模块，并且在所述第1工序模块执行所述第1工序，将执行所述第1工序的基板，经过所述第1工序搬送模块及所述第2工序搬送模块，传达至所述第2工序模块执行所述第2工序，将完成所述第2工序的基板，经过所述第2工序搬送模块及所述第1工序搬送模。
22、块，传达至所述第1工序模块可执行所述第1工序。0032按顺序执行第1工序、第2工序及第3工序，并且按顺序配置，分别执行所述第1工序及所述第3工序的第1工序模块，及结合第3工序模块的第1工序搬送模块，及执行所述第2工序的一个以上的第2工序模块结合的第2工序搬送模块，并且在所述第1工序模块执行所述第1工序，将执行所述第1工序的基板，经过所述第1工序搬送模块及所述第2工序搬送模块，传达至所述第2工序模块执行所述第2工序，将完成所述第2工序的基板，经过所述第2工序搬送模块及所述第1工序搬送模块，传达至所述第3工序模块，可执行所述第3工序。0033在第1压力下执行所述第1工序及所述第3工序，并且在与所述。
23、第1压力不同的第2压力下可执行所述第2工序。0034所述第1压力为真空压，并且所述第2压力可以是大气压。0035所述第1至第3工序可执行2次以上。0036所述第1工序及第3工序可以是沉积工序。0037（发明的效果）0038根据本发明的基板处理系统及基板处理方法，具有构成系统的模块，尤其是搬送模块及缓冲模块，与基板以一方向移送的生产线连接，接收从生产线传达的基板，执行基板处理后重新将基板传达至生产线的单一闭合曲线线路进行配置，进而具有可解决为了设置系统的空间性制约的优点。0039另外，根据本发明的基板处理系统级基板处理方法，根据搬送机器人线路配置移送基板的多个搬送模块，及连接搬送模块之间的多个缓。
24、冲模块，为了使缓冲模块中的一部分具有翻转及再翻转、基板的水平旋转、压力变换等多样的功能，进而具有可执行多样的基说明书CN104078383A4/9页8板处理的优点。0040另外，根据本发明的基板处理系统及基板处理方法，在构成系统的模块，尤其是搬送模块及缓冲模块，与基板以一方向移送的生产线连接，接收从生产线传达的基板，执行基板处理后重新将基板传达至生产线的单一闭合曲线线路配置的基板处理系统，根据执行工序的特性，可运营多样形态的基板移送，可多样的处理基板的优点。0041具体地说，根据本发明的基板处理系统及基板处理方法，在处理要求反复数次一连串工序的基板时，使在具有单一闭合曲线线路配置的基板处理系统。
25、的搬送模块中的一部分，结合执行该工序的工序模块，构成使一连串的工序执行，根据其配置以顺时针方向或逆时针方向旋转数次，使一连串工序反复数次，进而具有更加有效处理基板功能的优点。0042另外，根据本发明的基板处理系统及基板处理方法，包括根据基板处理系统的处理基板相同或类似的第1工序，及在其之间执行的第2工序的情况，按顺序配置执行第1工序的一个以上的工序模块结合的第1工序搬送模块，与执行第2工序的一个以上的工序模块结合的第2工序搬送模块，对执行第1工序的基板执行第2工序后，从第2工序搬送模块重新传达至第1工序搬送模块执行第1工序，进而将为了处理基板的工序模块及搬送模块的数最小化，具有可将基板处理系统。
26、的制造费用及设置空间最小化的优点。附图说明0043图1是显示根据本发明的基板处理系统一事例的平面图。0044图2A至图2C是显示在图1的基板处理系统的搬送模块，移送基板过程的概念图。0045图3是显示在图1的基板处理系统，搬送模块与基板水平旋转模块构成倾斜结合的事例一部分的概略图。0046（附图标记说明）004710生产线20基板0048110150搬送模块210250缓冲模块0049310340工序模块0050具体实施例方式0051以下，关于根据本发明的基板处理系统及基板处理方法，参照附图如下进行详细说明。0052根据本发明的基板处理系统，如图1至图2C所示作为基板20与以一方向移送的生产线。
27、10连接，执行处理基板的基板处理系统，包括多个搬送模块110、120、130、140、150，按顺序配置，包括与生产线10连接的第1搬送模块110；一个以上的工序模块310、320、330、340，至少连接多个搬送模块中的一个，执行基板处理；多个缓冲模块210、220、230、240、250，相互连接多个搬送模块110、120、130、140、150之间。0053还有，其特征在于，所述多个搬送模块110、120、130、140、150及多个缓冲模块210、220、230、240、250，接收从生产线10传达的基板20，执行基板处理后，使完成基板处理的基板20返回至生产线10的以构成单一闭合曲线。
28、的线路进行配置。0054由一事例，所述多个搬送模块110、120、130、140、150及多个缓冲模块210、220、230、240、250，整体可以如同五角形的形态配置。0055所述搬送模块110、120、130、140、150，如图2A至2C所示，设置在形成封闭的内部说明书CN104078383A5/9页9空间的搬送腔室101，与设置在搬送腔室101内从其他模块提取基板20，或设置在将基板20传达至其他模块内的搬送机器人102内部。0056所述搬送腔室101，如果是与形成设置返送机器102的封闭的内部空间一起，可形成通过基板的2个以上的门（未图示）的构成，任何构成都可以。0057所述搬送机。
29、器人102，作为设置在搬送腔室101内，从其他模块提取基板20，或将基板20传达至其他模块内的构成，根据基板20的移送方式可多样的构成。0058由一事例，所述搬送机器人102如图2A至2C所示，可包括基板安装部102A，安装基板；线形移动部102B，使基板安装部102A线形移动；旋转移动部102C，使线形移动部102B旋转，进而使基板安装部102A旋转移动。0059具有如上所述构成的所述搬送模块110、120、130、140、150，如图2A至2C所示提取结合搬送机器人102的模块内的基板20，将基板20传达至其他模块内。0060这时，根据所述搬送模块110、120、130、140、150移送。
30、的基板20，如图1及图2C所示前端会换为后端（在图面以显示前端）。0061另一方面，所述多个搬送模块110、120、130、140、150，根据工序模块的数、处理基板的数、模块间的配置可多样的配置。由一事例，如图1所示可包括按顺序配置的第1至第5搬送模块110、120、130、140、150。0062另外，所述多个搬送模块110、120、130、140、150中至少任意一个，可结合一个以上的工序模块310、320、330、340。0063由一事例，多个搬送模块110、120、130、140、150包括第1至第5搬送模块110、120、130、140、150的情况，第2至第5搬送模块120、13。
31、0、140、150中的至少任意一个，可结合一个以上的工序模块310、320、330、340。0064更详细地说，所述第2搬送模块120，根据蒸发在OLED基板可结合形成电极的一个以上的工序模块310。在这里，在所述第2搬送模块120临时保管在处理基板时待使用的护罩（MASK），或为了维护护罩可追加结合为了向外部搬出的护罩模块410。0065还有，形成所述电极后，为了执行后续工序，在第3搬送模块130，可设置一个以上的工序模块320、330，在第4搬送模块340可设置一个工序模块340。0066所述工序模块310、320、330、340，根据基板处理的种类可多样的构成。0067由一事例，处理基板。
32、在执行根据蒸发源蒸发的沉积工序的情况，工序模块310可包括工序腔室，形成可通过基板的门，并且形成封闭的处理空间；与蒸发源，设置在工序腔室内蒸发沉积物质。0068另外，工序模块根据加热、冷却、溅射、CVD、PVD等基板处理种类，包括工序腔室，形成封闭的处理空间；与气体喷射部，将气体喷射至处理空间内等，可多样的构成。0069另一方面，所述工序模块在与搬送模块的结合中，为了避免与柱子等周边设施间的干涉，腔室与所述搬送模块结合的水平结合方向，对根据所述搬送模块的搬送机器人的基板直线移送路径形成倾斜，腔室可与所述搬送模块结合。0070所述多个缓冲模块210、220、230、240、250，作为分别在搬送。
33、模块110、120、130、140、150之间，使搬送模块连接设置的构成，可多样的构成，并且可包括缓冲腔室，形成与连接的搬送模块连通的门；基板安装部，设置在缓冲腔室内安装基板。0071还有，所述多个缓冲模块210、220、230、240、250具有对应搬送模块数量的数量。说明书CN104078383A6/9页10由一事例，在配置第1至第5搬送模块110、120、130、140、150时，可包括第1缓冲模块210，连接第1搬送模块110及第2搬送模块120；第2缓冲模块220，连接第2搬送模块120及第3搬送模块130；第3缓冲模块230，连接第3搬送模块130及第4搬送模块140；第4缓冲模块。
34、240，连接第4搬送模块140及第5搬送模块150；第5缓冲模块250，连接第5搬送模块150及第1搬送模块110。0072在这里，所述第1至第5缓冲模块210、220、230、240、250，根据连接的搬送模块及连接在搬送模块的工序模块，可具有如同变换压力、翻转基板、基板的水平旋转、加热或冷却的温度调节等多样的功能。0073另一方面，根据基板处理种类在一部分基板处理中，在基板处理面向下的状态要求执行基板处理，为此所述第1至第5缓冲模块210、220、230、240、250中的一部分，构成包括第1翻转模块，使基板处理面向下侧翻转；第2翻转模块，使其与第1翻转模块跟进的进行配置，根据翻转模块使基。
35、板处理面向下翻转的基板向上侧再翻转。0074所述第1翻转模块及第2翻转模块，作为将基板处理面向上侧或向下侧的构成，可包括翻转腔室，形成封闭的内部空间；与翻转部，设置在翻转腔室内，在拾取基板的状态使基板处里面向上侧或向下侧。0075所述翻转部，作为设置在翻转腔室内在提取基板的状态，使基板处理面向上侧或向下侧的构成，可多样的构成。0076这时，所述翻转部在翻转基板中，以与基板的移动方向构成平行的旋转轴（X轴）为中心使其翻转，或以与基板移动方向构成垂直的旋转轴（Y轴）为中心使其翻转。0077尤其是，所述翻转部以与基板移动方向构成垂直的旋转轴（Y轴）为中心使其翻转的情况，会更换基板的前端。0078另一。
36、方面，所述第1翻转模块及所述第2翻转模块，需位于在需翻转基板处理面的工序模块310的前后。由一事例，第1翻转模块为第1缓冲模块210，第2翻转模块为第3缓冲模块230。0079还有，所述缓冲模块的一部分为第1翻转模块及第2翻转模块的情况，设置在第3搬送模块130的第3搬送机器人，从第2翻转模块提取基板20传达至工序模块，并且可将从工序模块基板处理的基板传达至第2翻转模块。0080尤其是，对再翻转的基板20的处理基板的数量变多，且限制在第4搬送模块140结合工序模块情况，如上所述将移送基板的一部分逆向移送，进而具有在限制的空间内可执行多样的基板处理的优点。0081另外，根据处理基板的种类在真空压。
37、下执行处理基板，或在低真空压或大气压下执行处理基板等，存在在基板移送路径中需要变换压力的情况。0082就此，根据本发明的基板处理系统，以第1压力维持从第1搬送模块110按顺序配置的一个以上的搬送模块，以与第1压力不同的第2压力维持剩余的搬送模块，并且连接维持第1压力的搬送模块及维持第2压力的搬送模块的缓冲模块，可在第1压力及第2压力之间进行压力变换。0083具体地说，根据本发明的基板处理系统，直到第1搬送模块110及第2至第3搬送模块120、130中任意一个维持第1压力，例如，维持真空压，并且剩余的搬送模块140、150维持与第1压力不同的第2压力，例如，大气压，并且连接维持第1压力的搬送模块。
38、及维持说明书CN104078383A107/9页11第2压力的搬送模块的缓冲模块220、250，可在第1压力及第2压力之间进行压力变换。0084这时，变换压力的缓冲模块220、250，为了在变换压力时将压力变换时间最小化，优选为使用内部空间最小化的腔室。0085另一方面，根据本发明的基板处理系统的特征为，根据搬送机器人移送基板的多个搬送模块，经过缓冲模块移动。如图2A至图2C所示，分别经过搬送模块的同时，以基板20的移送方向为基准，会更换基板20的前端及后端。0086还有，后续工序根据变更具有对基板20前端及后端的方向性的基板系统的一部分，更换基板20的前端及后端额情况，由于应变更为了已设置的。
39、后续工序的基板处理模块，因此存在对变更基板处理系统的限制，变更时追加费用的需求等问题。0087因此，根据本发明的基板处理系统，第1至第5缓冲模块210250中的一部分，优选为任意一个，更加优选为如图3所示第4缓冲模块240可构成基板水平旋转模块，以从搬送模块，例如从第4搬送模块140向缓冲腔室内导入基板20时为基准，为了向使其后端不同的搬送模块，例如第5搬送模块150导入，使基板20水平旋转。0088所述基板水平旋转模块，作为连接2个搬送模块，即，第4搬送模块140及第5搬送模块150的同时，将基板20从第4搬送模块140传达至第5搬送模块150中，使基板20以水平方向旋转的构成，可包括基板支。
40、撑单元30，支撑缓冲腔室，与通过缓冲腔室导入的基板20；及旋转单元，以基板的导入方向为基准，使基板的后端向第5搬送模块140，以水平方向使基板支撑单元30旋转。0089根据如上所述的构成，根据本发明的基板处理系统，经过搬送模块的同时矫正更换的基板的前端及后端，可防止由于更换基板的前端及后端影响后续工序。0090另一方面，所述缓冲模块，例如第4缓冲模块240，如图3所示至少一部分与搬送模块结合，为了避免与柱子等周边设施的干涉，与搬送模块结合的水平结合方向D，与根据移送基板20的搬送机器人的基板直线移送路径L形成倾斜，可与搬送模块结合。0091具体地说，第4缓冲模块240为了避免与柱子等周边设施的。
41、干涉，结合在第4搬送机器人140结合的水平结合方向D，与根据移送基板S的第4搬送机器人的基板S的直线移送路径L构成倾斜，可结合在第4搬送模块140。在这里，水平结合方向D可定义为，结合在第4搬送模块140的水平结合方向。0092这时，所述第4缓冲模块240为基板水平旋转模块的情况，根据第4缓冲模块240的旋转单元的驱动，使基板支撑单元30旋转，进而基板支撑单元30的水平中心线C，在位于与根据第4搬送机器人的基板S的直线移送路径L平行的状态，基板S可稳定的安装在基板支撑单元30。在这里，基板支撑单元30的水平中心线C，当基板支撑单元30具有直四角形的平面形态时，可定义为向第4搬送模块140的水平。
42、中心线。0093另外，所述第3搬送模块130以后直到第1搬送模块110，可设置结合在生产线侧的附加模块，优选为使其与生产线维持间隔的配置。0094为此，所述基板处理系统，如图1所示还可包括基板交换模块420，设置在生产线10与第1搬送模块110之间，进行与生产线10的基板交换及与第1搬送模块110的基板交换。0095所述基板交换模块420，作为为了与生产线10的基板交换，及与第1搬送模块110的基板交换的构成，可多样的构成，并且由一事例，可包括盒部（未图示），基板20构成层说明书CN104078383A118/9页12次积载多个；与上下移动部，使盒部上下移动。0096还有，所述基板交换模块42。
43、0，可包括外壳，基板20的移送环境在真空进行的情况，为了维持真空状态，形成卡式等设置在内部的封闭的内部空间。0097另一方面，所述基板交换模块420，为了更加稳定的传达基板，可追加设置基板排序部，排序积载在盒部的基板水平位置。0098所述基板排序部，作为为了排序基板水平状态的构成，加压角落部分水平移动基板，进而可执行为了稳定的移送基板的水平排序基板。0099具有如上所述构成的基板处理系统，如上所述的搬送模块110、120、130、140、150及缓冲模块210、220、230、240、250，以构成单一闭合曲线的线路进行配置，进而不变更现有的生产线，在现有的生产线追加新的工序，或为了使变更的工。
44、序执行，可追加在现有的生产线。0100另一方面，在发明的实施例，虽然举例说明了在所述基板处理系统的搬送模块110、120、130、140、150的配置，根据顺时针方向移送基板20，但是也可根据以逆时针方向移送等多样的方式移送基板20，当然根据此可多样的处理基板。0101即，具有如上所述构成的基板处理系统，根据配置多个搬送模块110、120、130、140、150及多个缓冲模块210、220、230、240、250，及至少结合在搬送模块110、120、130、140、150中一个工序模块310、320、330、340的种类，可多样的执行基板处理。0102由一事例，根据本发明的基板处理方法，根据单。
45、一闭合曲线线路配置多个搬送模块110、120、130、140、150及多个缓冲模块210、220、230、240、250，至少可以顺时针方向及逆时针方向中的一个方向移送基板20。0103更加详细地说，根据单一闭合曲线线路配置多个搬送模块110、120、130、140、150及多个缓冲模块210、220、230、240、250，至少可以顺时针方向及逆时针方向中的一个方向移送基板20。0104另外，根据本发明的基板处理方法，根据单一闭合曲线线路配置多个搬送模块110、120、130、140、150及多个缓冲模块210、220、230、240、250，在以顺时针方向移送基板20的第1基板处理，及以逆。
46、时针方向移送基板20的第2基板处理中，可选择性的执行任意一个或执行全部。0105还有，根据本发明的基板处理方法，以第1搬送模块110为起点，经过构成单一闭合曲线的线路配置，可反复1次或数次基板20到达至第1搬送模块110的周期。0106具体地说，根据本发明的基板处理方法，需要反复1次或数次执行相同的沉积及热处理等的后续处理的情况，使执行沉积工序的工序模块结合在第2搬送模块120，在后续配置的第3搬送模块130，结合并配置执行热处理等的后续处理工序的工序模块，根据工序条件可执行一次或数次周期，即基板20以第1搬送模块110为起点，经过第2搬送模块120及第3搬送模块130，重新到达第1搬送模块1。
47、10。0107在这里，所述第1搬送模块110、第2搬送模块120及第3搬送模块130，根据需要当然也可以顺时针方向以外的逆时针方向配置。0108另一方面，根据本发明的基板处理方法，可包括相同或类似第1工序及在第1工序之间执行的一个以上的第2工序。这时，基板处理系统，可按顺序配置执行第1工序的一个以上的第1工序模块结合的第1工序搬送模块120，及执行第2工序的一个以上的第2工序说明书CN104078383A129/9页13模块结合的第2搬送模块130。0109还有，根据本发明的基板处理方法，根据如上所述基板处理系统的构成，在第1工序模块执行第1工序，将执行第1工序的基板20，经过第1工序搬送模块。
48、120及第2工序搬送模块130，传达至第2工序模块执行第2工序，将完成第2工序的基板，经过第2工序搬送模块130及第1工序搬送模块120，传达至第1工序模块执行第1工序。0110另外，根据本发明的基板处理方法，按顺序执行第1工序、第2工序及第3工序，这时基板处理系统，可按顺序配置分别执行第1工序及所述第3工序的第1工序模块，及结合第3工序模块的第1工序搬送模块120，及执行第2工序的一个以上的第2工序模块结合的第2工序搬送模块130。0111还有，根据本发明的基板处理方法，根据如上所述的基板处理系统的构成，在第1工序模块执行第1工序，将执行第1工序的基板，经过第1工序搬送模块120及第2工序搬。
49、送模块130，传达至第2工序模块，执行第2工序，将完成第2工序的基板，经过第2工序搬送模块130及第1工序搬送模块110，传达至第3工序模块，执行第3工序。0112在这里，在第1压力下执行所述第1工序及所述第3工序，在与所述第1压力不同的第2压力下执行第2工序等，根据压力可区分工序。尤其是，所述第1压力为真空压，所述第2压力为大气压。0113另外，所述第1工序及第3工序为，利用之前说明的根据蒸发物质蒸发的沉积、等离子的沉积等的沉积工序，第2沉积工序为，在热处理等沉积工序的执行前或执行后要求的工序。0114另一方面，所述第1至第3工序可执行2次以上。0115以上，不过是说明关于根据本发明实现的优选实施例的一部分，因此与主旨相同本发明范围不应解释为限定在以上实施例，并且在以上说明的本发明技术思想，及与其根本一起的技术思想，应解释为包括在本发明的范围。说明书CN104078383A131/4页14图1说明书附图CN104078383A142/4页15图2A图2B说明书附图CN104078383A153/4页16图2C说明书附图CN104078383A164/4页17图3说明书附图CN104078383A17。