黑色感光性树脂组成物及其应用技术领域
本发明是有关一种黑色感光性树脂组成物，及使用该黑色感光性树脂组成物所形
成的黑色图案以制造彩色滤光片及液晶显示组件；特别是提供一种黑色感光性树脂组成物
及其应用，该黑色感光性树脂组成物所形成的黑色图案具有低介电常数和高精细度图案的
直线性佳的优点。
背景技术
近年来，随着液晶显示器的各种技术的蓬勃发展，且为了提高液晶显示器的对比
度及显示质量，通常会于液晶显示器中的彩色滤光片的条纹(stripe)及点(dot)之间隙间
设置黑色矩阵(black matrix)。该黑色矩阵可防止像素间的漏光(light leakage)引起的
对比度(contrast ratio)下降及色纯度(color purity)下降等缺陷。此外，为确保两基板
(例如彩色滤光片和TFT基板)间保有一定的间隔(晶胞间隙；cell gap)，在液晶显示设备、
有机EL显示设备等显示设备中亦会使用间隙体(spacer)。
近期，为因应彩色液晶显示设备的进一步高清晰、高亮度化，业界提出主动矩阵型
的液晶显示设备，此液晶显示设备的设置方式包括：(1)整合式彩色滤光片方式(Color
filter on array；COA)，其是将包含黑色矩阵及像素层的彩色滤光片设置于TFT组件基板
侧；(2)整合式黑色矩阵方式(black matrix on array；BOA)，其仅将黑色矩阵设置于TFT组
件基板侧(参照特日本专利开平10-206888号公报、日本专利特开2002-277899号公报等)。
上述方式不必取得与组件对准位置的边缘，因此，与于TFT组件基板的相反侧基板上形成黑
色矩阵及像素层的一般方式相比，可提高开口率并具有高亮度。
为对应此发展，日本专利特开平10-114873号公报、日本专利特开2002-311232号
公报提出一种树脂黑色矩阵，此树脂黑色矩阵即使直接装载于TFT组件基板上，亦不会引起
电路短路，且可赋予一定的体积电阻率。这些专利所提出的树脂黑色矩阵是以碳黑用作遮
旋光性成分。碳黑于广泛区域内具有吸收，遮旋光性非常高，因此几乎所有树脂黑色矩阵均
使用碳黑作为遮旋光性成分，然而用以形成此树脂黑色矩阵的感光性树脂组成物却具有介
电常数和高精细度图案的直线性不佳的缺陷，而降低所形成的黑色矩阵的效能。
另一方面，日本特开2011-170075号申请案提出可将碳黑(carbon black)等遮光
剂加入间隙体中，以制得具有遮旋光性的黑色间隙体。
具有组件形成于其上的基板，例如TFT基板，常应用于液晶显示设备等显示设备
上。就TFT基板而言，必须将黑色条状间隙体形成于所对应基板的组件上，或是相对上述基
板的另一基板的组件上。为考虑组件的高度，在组件形成的部分或是其他部分，需改变黑色
条状间隙体的高度，可通过改变形成黑色条状间隙体的曝光量，以一次形成不同高度的黑
色条状间隙体。较佳地，上述方法是以半色调光罩(half-tone mask)进行。
然而，前述感光性树脂组成物所制得的黑色间隙体的介电常数不佳，且高精细度
图案的直线性较差。
综合所述，如何使黑色感光性树脂组成物所制得的黑色图案，包括黑色矩阵与黑
色间隙体，具有良好的介电常数及高精细度图案的直线性，以达到目前业界的要求，为本发
明所属技术领域中努力研究的目标。
发明内容
本发明利用提供含有特殊光起始剂及黑色颜料的黑色感光性树脂组成物，而得到
由此黑色感光性树脂组成物所形成的低介电常数及高精细度图案的直线性佳的黑色图案。
因此，本发明提供一种黑色感光性树脂，其包含：
碱可溶性树脂(A)；
具有乙烯性不饱和基的化合物(B)；
光起始剂(C)；
溶剂(D)；及
黑色颜料(E)，
其中：
该光起始剂(C)包含一具有式(C-I)所示结构的第一光起始剂(C-1)：
于式(C-I)中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此独立地为氢、C1-C20烷基、
COR16、OR17、卤素、NO2或
或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此独立地为经
取代的C2-C10烯基；
或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此独立地共同为-(CH2)p-Y-
(CH2)q-；
或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此独立地共同为
但条件为R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8中的至少一对是
R9、R10、R11及R12彼此独立地为氢、C1-C20烷基，该C1-C20烷基未经取
代或经一或多个以下基团取代：卤素、苯基、CN、OH、SH、C1-C4-烷氧基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4
烷基)；
或R9、R10、R11及R12彼此独立地为未经取代的苯基或经一或多个以下基团取代的苯
基：C1-C6烷基、卤素、CN、OR17、SR18或NR19R20；
或R9、R10、R11及R12彼此独立地为卤素、CN、OR17、SR18、SOR18、SO2R18或NR19R20，其中该
等取代基OR17、SR18或NR19R20视情况经由经由该等基团R17、R18、R19及/或R20与萘基环中一个
碳原子形成5元或6元环；或R9、R10、R11及R12彼此独立地为COR16或NO2；
Y是O、S、NR26或直接键；
p是整数0、1、2或3；
q是整数1、2或3；
X是CO或直接键；
R13是C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、R17、COOR17、OR17、
SR18、CONR19R20、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2或
或R13是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O、S、SO、SO2、NR26或CO，或是C2-C12烯基，其是
未经间杂或间杂有一或多个O、CO或NR26，其中该经间杂的C2-C20烷基及该未经间杂或经间杂
的C2-C12烯基未经取代或经一或多个卤素取代；
或R13是C4-C8环烯基、C2-C12炔基或未经间杂或间杂有一或多个O、S、CO或NR26的C3-
C10环烷基；
或R13是苯基或萘基，其各为未经取代或经一或多个以下基团取代：OR17、SR18、
NR19R20、COR16、CN、NO2、卤素、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、间杂有
一或多个O、S、CO或NR26-的C2-C20烷基；或其各经C3-C10环烷基或间杂有一或多个O、S、CO或
NR26的C3-C10环烷基取代；
k是整数1至10；
R14是氢、C3-C8环烷基、C2-C5烯基、C1-C20烷氧基或C1-C20烷基，其未经取代或经一或
多个以下基团取代：卤素、苯基、C1-C20烷基苯基或CN；
或R14是苯基或萘基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-C6烷基、C1-C4
卤代烷基、卤素、CN、OR17、SR18及/或NR19R20；
或R14是C3-C20杂芳基、C1-C8烷氧基、苄氧基或苯氧基，该苄氧基及苯氧基未经取代
或经一或多个以下基团取代：C1-C6烷基、C1-C4卤代烷基及/或卤素；
R15是C6-C20芳基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：苯基、
卤素、C1-C4卤代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2、SO-C1-C10烷基、SO2-C1-C10烷
基、间杂有一或多个O、S或NR26的C2-C20烷基；或其各经C1-C20烷基取代，该C1-C20烷基未经取
代或经一或多个以下基团取代：卤素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8环烷基、C3-C20杂芳基、
C6-C20芳氧基羰基、C3-C20杂芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；
或R15是氢、C2-C12烯基、未经间杂或间杂有一或多个O、CO或NR26的C3-C8环烷基；
或R15是C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、OR17、SR18、C3-C8
环烷基、C3-C20杂芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20杂芳氧基羰基、NR19R20、COOR17、CONR19R20、PO
(OCkH2k+1)2、苯基；或该C1-C20烷基是经苯基取
代，该苯基是经卤素、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、OR17、SR18或NR19R20取代；
或R15是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O、SO或SO2，且该经间杂的C2-C20烷基未经取
代或经一或多个以下基团取代：卤素、OR17、COOR17、CONR19R20、苯基或经OR17、SR18或NR19R20取
代的苯基；
或R15是C2-C20烷酰基或苯甲酰基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-C6
烷基、卤素、苯基、OR17、SR18或NR19R20；
或R15未经取代或经一或多个OR17取代的萘甲酰基或是C3-C14杂芳基羰基；
或R15是C2-C12烷氧基羰基，其是未经间杂或间杂有一或多个O且该经间杂或未经间
杂的C2-C12烷氧基羰基未经取代或经一或多个羟基取代；
或R15是苯氧基羰基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-C6烷基、卤素、C1-
C4卤代烷基、苯基、OR17、SR18或NR19R20；
或R15是CN、CONR19R20、NO2、C1-C4卤代烷基、S(O)m-C1-C6烷基、未经取代或经C1-C12烷
基或SO2-C1-C6烷基取代的S(O)m-苯基；
或R15是SO2O-苯基，其未经取代或经C1-C12烷基取代；或是二苯基膦酰基或二(C1-
C4烷氧基)-膦酰基；
m是1或2；
R′14具有针对R14所给出含义中的一个；
R′15具有针对R15所给出含义中的一个；
X1是O、S、SO或SO2；
X2是O、CO、S或直接键；
R16是C6-C20芳基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：苯
基、卤素、C1-C4卤代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20或间杂有一或多个O、S或NR26的C1-C20烷
基；或其各经一或多个C1-C20烷基取代，该C1-C20烷基未经取代或经一或多个以下基团取代：
卤素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8环烷基、C3-C20杂芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20杂芳氧基
羰基、OR17、SR18或NR19R20；
或R16是氢、C1-C20烷基，该C1-C20烷基未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、
苯基、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O
(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)；
或R16是C2-C12烷基，其间杂有一或多个O、S或NR26；
或R16是(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C12烯基或C3-C8环烷基；
或R16是经SR18取代的苯基，其中该基团R18表示键结至该COR16基团所连接的该咔唑
部分的该苯基或萘基环的直接键；
n是1至20；
R17是氢、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤
素、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O
(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-苯基、(CO)OH、(CO)O(C1-C4烷基)、C3-C20环烷基、SO2-(C1-C4卤代
烷基)、O(C1-C4卤代烷基)或间杂有一或多个O的C3-C20环烷基；
或R17是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O、S或NR26；
或R17是(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷酰基、C2-C12烯基、C3-
C6烯酰基或未经间杂或间杂有一或多个O、S、CO或NR26的C3-C20环烷基；
或R17是C1-C8烷基-C3-C10环烷基，其是未经间杂或间杂有一或多个O；
或R17是苯甲酰基，其未经取代或经一或多个C1-C6烷基、卤素、OH或C1-C3烷氧基取
代；
或R17是苯基、萘基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：卤
素、OH、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基
硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基-胺基或
或R17形成键结至该基团所处的苯基
或萘基环的其中一个碳原子的直接键；
R18是氢、C2-C12烯基、C3-C20环烷基或苯基-C1-C3烷基，其中该C2-C12烯基、C3-C20环
烷基或苯基-C1-C3烷基是未经间杂或间杂有一或多个O、S、CO、NR26或COOR17；
或R18是C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：OH、SH、CN、C3-C6烯氧
基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-
苯基或(CO)OR17；
或R18是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O、S、CO、NR26或COOR17；
或R18是(CH2CH2O)nH、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C8烷酰基或C3-C6烯酰基；
或R18是苯甲酰基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-C6烷基、卤素、OH、
C1-C4烷氧基或C1-C4烷基硫基；
或R18是苯基、萘基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：卤
素、C1-C12烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基
硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基胺基、(CO)O(C1-C8烷基)、(CO)-C1-C8烷基、(CO)N
(C1-C8烷基)2或
R19及R20彼此独立地为氢、C1-C20烷基、C2-C4羟基烷基、C2-C10烷氧基烷基、C2-C5烯
基、C3-C20环烷基、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷酰基、C1-C8烷酰基氧基、C3-C12烯酰基、SO2-(C1-C4
卤代烷基)或苯甲酰基；
或R19及R20是苯基、萘基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取
代：卤素、C1-C4卤代烷基、C1-C20烷氧基、C1-C12烷基、苯甲酰基或C1-C12烷氧基；
或R19及R20与其所连接的N原子一起形成未经间杂或间杂有O、S或NR17的5元或6元
饱和或不饱和环，且该5元或6元饱和或不饱和环未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-
C20烷基、C1-C20烷氧基、＝O、OR17、SR18、NR21R22、(CO)R23、NO2、卤素、C1-C4-卤代烷基、CN、苯基、
或未经间杂或间杂有一或多个O、S、CO或NR17的C3-C20环烷基；
或R19及R20与其所连接的N原子一起形成杂芳香族环系统，该环系统未经取代或经
一或多个以下基团取代：C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C20烷氧基、＝O、OR17、SR18、NR21R22、
(CO)R23、卤素、NO2、CN、苯基或未经间杂或间杂有一或多个O、S、
CO或NR17的C3-C20环烷基；
R21及R22彼此独立地为氢、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C10环烷基或苯基；
或R21及R22与其所连接的N原子一起形成未经间杂或间杂有O、S或NR26的5元或6元
饱和或不饱和环，且该5元或6元饱和或不饱和环未稠合或该5元或6元饱和或不饱和环与苯
环稠合；
R23是氢、OH、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、间杂有一或多个O、CO或NR26的C2-C20烷基、
未经间杂或间杂有O、S、CO或NR26的C3-C20环烷基，或R23是苯基、萘基、苯基-C1-C4烷基、OR17、
SR08或NR21R22；
R24是(CO)OR17、CONR19R20、(CO)R17；或R24是R19及R20所给出含义中的一个；
R25是COOR17、CONR19R20、(CO)R17；或R25是R17所给出含义中的一个；
R26是氢、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C20烷基，其间杂有一或多个O或CO；或是苯
基-C1-C4烷基、C3-C8环烷基，其是未经间杂或间杂有一或多个O或CO；或是(CO)R19；或是苯
基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-C20烷基、卤素、C1-C4卤代烷基、OR17、SR18、
NR19R20或
但条件为在该分子中存在至少一个基团或
该黑色颜料(E)包含一第一黑色颜料(E-1)，其中该第一黑色颜料(E-1)包含一具
有式(E-I)所示的化合物、其几何异构物、其盐或其几何异构物的盐：
于式(E-I)中，R1e及R6e相互独立为氢原子、CH3、CF3、氟原子或氯原子；R2e、R3e、R4e、
R5e、R7e、R8e、R9e及R10e是和其他全部相互独立为氢原子、卤素原子、R11e、COOH、COOR11e、COO-、
CONH2、CONHR11e、CONR11eR12e、CN、OH、OR11e、COCR11e、OOCNH2、OOCNHR11e、OOCNR11eR12e、NO2、NH2、
NHR11e、NR1leR12e、NHCOR12e、NR11eCOR12e、N＝CH2、N＝CHR11e、N＝CR11eR12e、SH、SR11e、SOR11e、
SO2R11e、SO3R11e、SO3H、SO3-、SO2NH2、SO2NHR11e或SO2NR11eR12e；且选自由R2e与R3e、R3e与R4e、R4e与
R5e、R7e与R8e、R8e与R9e、及R9e与R10e所组成的群组中的至少1个组合，是为相互直接键结，或者
通过氧原子、硫原子、NH或NR11e桥接而相互键结；R11e及R12e相互独立为碳数1至12的烷基、碳
数3至12的环烷基、碳数2至12的烯基、碳数3至12的环烯基或碳数2至12的炔基。
本发明亦提供一种黑色图案，其是通过前述的黑色感光性树脂组成物经预烤处
理、曝光处理、显影处理及后烤处理所形成。
本发明再提供一种液晶显示组件，包含前述的黑色图案。
具体实施方式
本发明提供一种黑色感光性树脂，其包含：
碱可溶性树脂(A)；
具有乙烯性不饱和基的化合物(B)；
光起始剂(C)；
溶剂(D)；及
黑色颜料(E)，
其中：该光起始剂(C)包含一具有式(C-I)所示结构的第一光起始剂(C-1)：
于式(C-I)中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此独立地为氢、C1-C20烷基、
COR16、OR17、卤素、NO2或
或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此独立地为经
取代的C2-C10烯基；
或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此独立地共同为-(CH2)p-Y-
(CH2)q-；
或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此独立地共同为
但条件为R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8中的至少一对是
R9、R10、R11及R12彼此独立地为氢、C1-C20烷基，该C1-C20烷基未经取
代或经一或多个以下基团取代：卤素、苯基、CN、OH、SH、C1-C4-烷氧基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4
烷基)；
或R9、R10、R11及R12彼此独立地为未经取代的苯基或经一或多个以下基团取代的苯
基：C1-C6烷基、卤素、CN、OR17、SR18或NR19R20；
或R9、R10、R11及R12彼此独立地为卤素、CN、OR17、SR18、SOR18、SO2R18或NR19R20，其中该
等取代基OR17、SR18或NR19R20视情况经由该基团R17、R18、R19及/或R20与萘基环中一个碳原子
形成5元或6元环；
或R9、R10、R11及R12彼此独立地为COR16或NO2；
Y是O、S、NR26或直接键；
p是整数0、1、2或3；
q是整数1、2或3；
X是CO或直接键；
R13是C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、R17、COOR17、OR17、
SR18、CONR19R20、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2或
或R13是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O、S、SO、SO2、NR26或CO，或是C2-C12烯基，其是
未经间杂或间杂有一或多个O、CO或NR26，其中该经间杂的C2-C20烷基及该未经间杂或经间杂
的C2-C12烯基未经取代或经一或多个卤素取代；
或R13是C4-C8环烯基、C2-C12炔基或未经间杂或间杂有一或多个O、S、CO或NR26的C3-
C10环烷基；
或R13是苯基或萘基，其各为未经取代或经一或多个以下基团取代：OR17、SR18、
NR19R20、COR16、CN、NO2、卤素、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、间杂有
一或多个O、S、CO或NR26-的C2-C20烷基；或其各经C3-C10环烷基或间杂有一或多个O、S、CO或
NR26的C3-C10环烷基取代；
k是整数1至10；
R14是氢、C3-C8环烷基、C2-C5烯基、C1-C20烷氧基或C1-C20烷基，其未经取代或经一或
多个以下基团取代：卤素、苯基、C1-C20烷基苯基或CN；
或R14是苯基或萘基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-C6烷基、C1-C4
卤代烷基、卤素、CN、OR17、SR18及/或NR19R20；
或R14是C3-C20杂芳基、C1-C8烷氧基、苄氧基或苯氧基，该苄氧基及苯氧基未经取代
或经一或多个以下基团取代：C1-C6烷基、C1-C4卤代烷基及/或卤素；
R15是C6-C20芳基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：苯基、
卤素、C1-C4卤代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2、SO-C1-C10烷基、SO2-C1-C10烷
基、间杂有一或多个O、S或NR26的C2-C20烷基；或其各经C1-C20烷基取代，该C1-C20烷基未经取
代或经一或多个以下基团取代：卤素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8环烷基、C3-C20杂芳基、
C6-C20芳氧基羰基、C3-C20杂芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；
或R15是氢、C2-C12烯基、未经间杂或间杂有一或多个O、CO或NR26的C3-C8环烷基；
或R15是C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、OR17、SR18、C3-C8
环烷基、C3-C20杂芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20杂芳氧基羰基、NR19R20、COOR17、CONR19R20、PO
(OCkH2k+1)2、苯基；或该C1-C20烷基是经苯基取
代，该苯基是经卤素、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、OR17、SR18或NR19R20取代；
或R15是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O、SO或SO2，且该经间杂的C2-C20烷基未经取
代或经一或多个以下基团取代：卤素、OR17、COOR17、CONR19R20、苯基或经OR17、SR18或NR19R20取
代的苯基；
或R15是C2-C20烷酰基或苯甲酰基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-C6
烷基、卤素、苯基、OR17、SR18或NR19R20；
或R15未经取代或经一或多个OR17取代的萘甲酰基或是C3-C14杂芳基羰基；
或R15是C2-C12烷氧基羰基，其是未经间杂或间杂有一或多个O且该经间杂或未经间
杂的C2-C12烷氧基羰基未经取代或经一或多个羟基取代；
或R15是苯氧基羰基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-C6烷基、卤素、C1-
C4卤代烷基、苯基、OR17、SR18或NR19R20；
或R15是CN、CONR19R20、NO2、C1-C4卤代烷基、S(O)m-C1-C6烷基、未经取代或经C1-C12烷
基或SO2-C1-C6烷基取代的S(O)m-苯基；
或R15是SO2O-苯基，其未经取代或经C1-C12烷基取代；或是二苯基膦酰基或二(C1-C4
烷氧基)-膦酰基；
m是1或2；
R′14具有针对R14所给出含义中的一个；
R′15具有针对R15所给出含义中的一个；
X1是O、S、SO或SO2；
X2是O、CO、S或直接键；
R16是C6-C20芳基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：苯基、
卤素、C1-C4卤代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20或间杂有一或多个O、S或NR26的C1-C20烷基；
或其各经一或多个C1-C20烷基取代，该C1-C20烷基未经取代或经一或多个以下基团取代：卤
素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8环烷基、C3-C20杂芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20杂芳氧基羰
基、OR17、SR18或NR19R20；
或R16是氢、C1-C20烷基，该C1-C20烷基未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、
苯基、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O
(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)；
或R16是C2-C12烷基，其间杂有一或多个O、S或NR26；
或R16是(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C12烯基或C3-C8环烷基；
或R16是经SR18取代的苯基，其中该基团R18表示键结至该COR16基团所连接的该咔唑
部分的该苯基或萘基环的直接键；
n是1至20；
R17是氢、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤
素、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O
(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-苯基、(CO)OH、(CO)O(C1-C4烷基)、C3-C20环烷基、SO2-(C1-C4卤代
烷基)、O(C1-C4卤代烷基)或间杂有一或多个O的C3-C20环烷基；
或R17是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O、S或NR26；
或R17是(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷酰基、C2-C12烯基、C3-
C6烯酰基或未经间杂或间杂有一或多个O、S、CO或NR26的C3-C20环烷基；
或R17是C1-C8烷基-C3-C10环烷基，其是未经间杂或间杂有一或多个O；
或R17是苯甲酰基，其未经取代或经一或多个C1-C6烷基、卤素、OH或C1-C3烷氧基取
代；
或R17是苯基、萘基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：卤
素、OH、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基
硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基-胺基或
或R17形成键结至该基团所处的苯基
或萘基环的其中一个碳原子的直接键；
R18是氢、C2-C12烯基、C3-C20环烷基或苯基-C1-C3烷基，其中该C2-C12烯基、C3-C20环
烷基或苯基-C1-C3烷基是未经间杂或间杂有一或多个O、S、CO、NR26或COOR17；
或R18是C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：OH、SH、CN、C3-C6烯氧
基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-
苯基或(CO)OR17；
或R18是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O、S、CO、NR26或COOR17；
或R18是(CH2CH2O)nH、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C8烷酰基或C3-C6烯酰基；
或R18是苯甲酰基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-C6烷基、卤素、OH、
C1-C4烷氧基或C1-C4烷基硫基；
或R18是苯基、萘基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：卤
素、C1-C12烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基
硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基胺基、(CO)O(C1-C8烷基)、(CO)-C1-C8烷基、(CO)N
(C1-C8烷基)2或
R19及R20彼此独立地为氢、C1-C20烷基、C2-C4羟基烷基、C2-C10烷氧基烷基、C2-C5烯
基、C3-C20环烷基、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷酰基、C1-C8烷酰基氧基、C3-C12烯酰基、SO2-(C1-C4
卤代烷基)或苯甲酰基；
或R19及R20是苯基、萘基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取
代：卤素、C1-C4卤代烷基、C1-C20烷氧基、C1-C12烷基、苯甲酰基或C1-C12烷氧基；
或R19及R20与其所连接的N原子一起形成未经间杂或间杂有O、S或NR17的5元或6元
饱和或不饱和环，且该5元或6元饱和或不饱和环未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-
C20烷基、C1-C20烷氧基、＝O、OR17、SR18、NR21R22、(CO)R23、NO2、卤素、C1-C4-卤代烷基、CN、苯基、
或未经间杂或间杂有一或多个O、S、CO或NR17的C3-C20环烷基；
或R19及R20与其所连接的N原子一起形成杂芳香族环系统，该环系统未经取代或经
一或多个以下基团取代：C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C20烷氧基、＝O、OR17、SR18、NR21R22、
(CO)R23、卤素、NO2、CN、苯基或未经间杂或间杂有一或多个O、S、
CO或NR17的C3-C20环烷基；
R21及R22彼此独立地为氢、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C10环烷基或苯基；
或R21及R22与其所连接的N原子一起形成未经间杂或间杂有O、S或NR26的5元或6元
饱和或不饱和环，且该5元或6元饱和或不饱和环是未稠合或该5元或6元饱和或不饱和环与
苯环稠合；
R23是氢、OH、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、间杂有一或多个O、CO或NR26的C2-C20烷基、
未经间杂或间杂有O、S、CO或NR26的C3-C20环烷基，或R23是苯基、萘基、苯基-C1-C4烷基、OR17、
SR18或NR21R22；
R24是(CO)OR17、CONR19R20、(CO)R17；或R24是R19及R20所给出含义中的一个；
R25是COOR17、CONR19R20、(CO)R17；或R25是R17所给出含义中的一个；
R26是氢、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C20烷基，其间杂有一或多个O或CO；或是苯
基-C1-C4烷基、C3-C8环烷基，其是未经间杂或间杂有一或多个O或CO；或是(CO)R19；或是苯
基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-C20烷基、卤素、C1-C4卤代烷基、OR17、SR18、
NR19R20或
但条件为在该分子中存在至少一个基团或
该黑色颜料(E)包含一第一黑色颜料(E-1)，其中该第一黑色颜料(E-1)包含一具
有式(E-I)所示的化合物、其几何异构物、其盐或其几何异构物的盐：
于式(E-I)中，R1e及R6e相互独立为氢原子、CH3、CF3、氟原子或氯原子；R2e、R3e、R4e、
R5e、R7e、R8e、R9e及R10e是和其他全部相互独立为氢原子、卤素原子、R11e、COOH、COOR11e、COO-、
CONH2、CONHR11e、CONR11eR12e、CN、OH、OR11e、COCR11e、OOCNH2、OOCNHR11e、OOCNR11eR12e、NO2、NH2、
NHR11e、NR11eR12e、NHCOR12e、NR11eCOR12e、N＝CH2、N＝CHR11e、N＝CR11eR12e、SH、SR11e、SOR11e、
SO2R11e、SO3R11e、SO3H、SO3-、SO2NH2、SO2NHR11e或SO2NR11eR12e；且选自由R2e与R3e、R3e与R4e、R4e与
R5e、R7e与R8e、R8e与R9e、及R9e与R10e所组成的群组中的至少1个组合，是为相互直接键结，或者
通过氧原子、硫原子、NH或NR11e桥接而相互键结；R11e及R12e相互独立为碳数1至12的烷基、碳
数3至12的环烷基、碳数2至12的烯基、碳数3至12的环烯基或碳数2至12的炔基。
根据本发明的碱可溶性树脂(A)可包含具有不饱和基的树脂(A-1)。其次，该碱可
溶性树脂(A)可选择性地包含其他碱可溶性树脂(A-2)。
该具有不饱和基的树脂(A-1)是由一混合物聚合形成。该混合物可包含具有至少
二个环氧基的环氧化合物(a-1-1)及具有至少一个羧酸基与至少一个乙烯性不饱和基的化
合物(a-1-2)。再者，该混合物可选择性地包含羧酸酐化合物(a-1-3)及具有环氧基的化合
物(a-1-4)。
该具有至少二个环氧基的环氧化合物(a-1-1)包含具有如下式(I)所示的结构的
化合物、具有如下式(II)所示的结构的化合物及上述化合物的组合：
于式(I)中，R1a至R4a分别独立地代表氢原子、卤素原子、碳数为1至5的烷基、碳数
为1至5的烷氧基、碳数为6至12的芳香基或碳数为6至12的芳烷基。
该具有如式(I)所示的结构的化合物可包含具有环氧基的双酚茀型化合物，其中
该具有环氧基的双酚茀型化合物可由双酚茀型化合物(bisphenol fluorene)与卤化环氧
丙烷(epihalohydrin)反应而得。
前述的双酚茀型化合物的具体例可包含9，9-双(4-羟基苯基)茀[9，9-bis(4-
hydroxyphenyl)fluorene]、9，9-双(4-羟基-3-甲基苯基)茀[9，9-bis(4-hydroxy-3-
methylphenyl)fluorene]、9，9-双(4-羟基-3-氯苯基)茀[9，9-bis(4-hydroxy-3-
chlorophenyl)fluorene]、9，9-双(4-羟基-3-溴苯基)茀[9，9-bis(4-hydroxy-3-
bromophenyl)fluorene]、9，9-双(4-羟基-3-氟苯基)茀[9，9-bis(4-hydroxy-3-
fluorophenyl)fluorene]、9，9-双(4-羟基-3-甲氧基苯基)茀[9，9-bis(4-hydroxy-3-
methoxyphenyl)fluorene]、9，9-双(4-羟基-3，5-二甲基苯基)茀[9，9-bis(4-hydroxy-3，
5-dimethylphenyl)fluorene]、9，9-双(4-羟基-3，5-二氯苯基)茀[9，9-bis(4-hydroxy-3，
5-dichlorophenyl)fluorene]、9，9-双(4-羟基-3，5-二溴苯基)茀[9，9-bis(4-hydroxy-3，
5-dibromophenyl)fluorene]、双酚茀型化合物的类似化合物，或者上述化合物的任意组
合。
前述卤化环氧丙烷(epihalohydrin)的具体例可包含3-氯-1，2-环氧丙烷
(epichlorohydrin)、3-溴-1，2-环氧丙烷(epibromohydrin)、卤化环氧丙烷的类似化合物，
或者上述化合物的任意组合。
该具有环氧基的双酚茀型化合物的具体例可包含(1)新日铁化学制造的商品，例
如：型号为ESF-300的产品或类似产品；(2)大阪瓦斯制造的商品，例如：型号为PG-100或EG-
210的产品，或者类似产品；(3)S.M.S Technology Co.制造的商品，例如：型号为SMS-
F9PhPG、SMS-F9CrG或SMS-F914PG的产品，或者类似产品。
于式(II)中，R5a至R18a分别独立地代表氢原子、卤素原子、碳数为1至8的烷基或碳
数为6至15的芳香基；且a代表0至10的整数。
具有如式(II)所示的结构的化合物可在碱金属氢氧化物的存在下，使具有如下式
(II-1)所示的结构的化合物与卤化环氧丙烷进行反应而得：
于式(II-1)中，R5a至R18a及a的定义如前所述，在此不另赘述。
具有如式(II)所示的结构的化合物的合成方法是先在酸催化剂存在下，对具有如
下式(II-1-1)所示的结构的化合物及酚(phenol)类化合物进行缩合反应，以形成具有如式
(II-1)所示的结构的化合物：
于式(II-1-1)中，R19a及R20a分别独立地代表氢原子、卤素原子、碳数为1至8的烷基
或碳数为6至15的芳香基；A1及A2分别独立地代表卤素原子、碳数为1至6的烷基或碳数为1至
6的烷氧基。上述的烷基较佳为甲基、乙基或第三丁基，且烷氧基较佳为甲氧基或乙氧基。
前述酚类化合物的具体例可包含酚(phenol)、甲酚(cresol)、乙酚
(ethylphenol)、n-丙酚(n-propylphenol)、异丁酚(isobutylphenol)、t-丁酚(t-
butylphenol)、辛酚(octylphenol)、壬基苯酚(nonylphenol)、茬酚(xylenol)、甲基丁基苯
酚(methylbutylphenol)、二第三丁基酚(di-t-butylphenol)、乙烯苯酚(vinylphenol)、丙
烯苯酚(propenylphenol)、乙炔苯酚(ethinylphenol)、环戊苯酚(cyclopentylphenol)、环
己基酚(cyclohexylphenol)、环己基甲酚(cyclohexylcresol)或酚类化合物的类似化合
物。该酚类化合物可单独一种或混合多种使用。
基于前述具有如式(II-1-1)所示的结构的化合物的使用量为1摩尔，该酚类化合
物的使用量为0.5摩尔至20摩尔，且较佳为2摩尔至15摩尔。
上述酸催化剂的具体例可包含盐酸、硫酸、对甲苯磺酸(p-toluenesulfonic
acid)、草酸(oxalic acid)、三氟化硼(boron trifluoride)、无水氯化铝(aluminium
chloride anhydrous)、氯化锌(zinc chloride)或酸催化剂的类似物。该酸催化剂可单独
一种或混合多种使用。
该酸催化剂较佳可为对甲苯磺酸、硫酸、盐酸或上述化合物的任意组合。
该酸催化剂的使用量并无特别的限制。基于前述具有如式(IV-1-1)所示的结构的
化合物的使用量为100重量份，该酸催化剂的使用量为0.1重量份至30重量份。
前述的缩合反应可在无溶剂或有机溶剂的存在下进行，其中该有机溶剂的具体例
可为甲苯(toluene)、二甲苯(xylene)、甲基异丁基酮(methyl isobutyl ketone)或其类似
物。该有机溶剂可为单独一种或混合多种使用。
基于前述具有如式(II-1-1)所示的结构的化合物及酚类化合物的总使用量为100
重量份，该有机溶剂的使用量为50重量份至300重量份，较佳为100重量份至250重量份。
该缩合反应的反应温度可为40℃至180℃，且反应时间可为1小时至8小时。
在完成该缩合反应后，可选择性地进行中和处理或水洗处理。
上述的中和处理是将反应后的溶液的pH值调整为3至7，较佳为5至7。
上述的水洗处理可利用中和剂来进行。该中和剂可为碱性物质，且中和剂的具体
例可包含氨(ammonia)、磷酸二氢钠(sodium dihydrogen phosphate)；氢氧化钠(sodium
hydroxide)或氢氧化钾(potassium hydroxide)等碱金属氢氧化物；氢氧化钙(calcium
hydroxide)或氢氧化镁(magnesium hydroxide)等碱土类金属氢氧化物；二伸乙三胺
(diethylene triamine)、三伸乙四胺(triethylenetetramine)、苯胺(aniline)或苯二胺
(phenylene diamine)等有机胺或上述化合物的任意组合。该中和剂可单独一种或混合多
种使用。
该水洗处理可采用熟知的方法进行。例如：将含有中和剂的水溶液加至反应后的
溶液中，并反复进行萃取。经中和处理或水洗处理后，溶液中未反应的酚类化合物及溶剂可
通过减压加热处理去除，并进行浓缩，以获得具有如式(II-1)所示的结构的化合物。
当缩合反应完成后，加入过量的卤化环氧丙烷，以使卤化环氧丙烷与具有如式
(II-1)所示的结构的化合物进行脱卤化氢反应(dehydrohalogenation)，而可制得具有如
式(II)所示的结构的化合物。
前述卤化环氧丙烷的具体例可包含3-氯-1，2-环氧丙烷、3-溴-1，2-环氧丙烷或上
述化合物的组合。
当进行前述的脱卤化氢反应前，氢氧化钠或氢氧化钾等碱金属氢氧化合物可预先
添加或于反应过程中加至反应溶液中。该脱卤化氢反应的反应温度可为20℃至120℃，且反
应时间可为1小时至10小时。
在一实施例中，前述的碱金属氢氧化合物可为水溶液。在此实施例中，当碱金属氢
氧化合物水溶液连续加至脱卤化氢反应的反应系统中，同时可于减压或常压下，连续蒸馏
出水及卤化环氧丙烷，以分离并去除水，且卤化环氧丙烷可连续地回流至反应系统中。
当进行脱卤化氢反应前，氯化四甲铵(tetramethyl ammonium chloride)、溴化四
甲铵(tetramethyl ammonium bromide)、三甲基苄基氯化铵(trimethyl benzyl ammonium
chloride)等四级铵盐可添加至反应系统中，以作为催化剂，并在50℃至150℃反应1小时至
5小时后，将碱金属氢氧化物或其水溶液加至反应系统中。然后，于20℃至120℃反应1小时
至10小时，以进行脱卤化氢反应。
基于前述具有如式(II-1)所示的结构的化合物中的羟基总当量数为1当量，该卤
化环氧丙烷的使用量为1当量至20当量，且较佳为2当量至10当量。基于前述具有如式(II-
1)所示的结构的化合物中的羟基总当量数为1当量，脱卤化氢反应中之碱金属氢氧化物的
使用量为0.5当量至15当量，且较佳为0.9当量至11当量。
为了使上述脱卤化氢反应顺利进行，甲醇或乙醇等醇类化合物可添加至反应系统
中。此外，二甲砜(dimethyl sulfone)或二甲亚砜(dimethyl sulfoxide)等非质子性
(aprotic)的极性溶剂亦可加至反应系统中。
当使用醇类化合物时，基于上述的卤化环氧丙烷的总使用量为100重量份，醇类化
合物的使用量为2重量份至20重量份，且较佳为4重量份至15重量份。当使用非质子性的极
性溶剂时，基于卤化环氧丙烷的总使用量为100重量份，非质子性的极性溶剂的使用量为5
重量份至100重量份，且较佳为10重量份至90重量份。
当前述的脱卤化氢反应后，反应系统可选择性地进行水洗处理。然后，于温度为
110℃至250℃且压力为1.3kPa(10mmHg)以下的环境中，去除卤化环氧丙烷、醇类化合物及
非质子性的极性溶剂。
为了避免所形成的环氧树脂具有加水分解性的卤素，进行脱卤化氢反应后的溶液
可加入甲苯、甲基异丁基酮(methyl isobutyl ketone)等溶剂及氢氧化钠或氢氧化钾等碱
金属氢氧化物水溶液，并再次进行脱卤化氢反应。在前述的脱卤化氢反应中，基于前述具有
如式(II-1)所示的结构的化合物中的羟基总当量数为1当量，碱金属氢氧化合物的使用量
为0.01当量至0.3当量，且较佳为0.05当量至0.2当量。此外，该脱卤化氢反应的反应温度可
为50℃至120℃，且反应时间可为0.5小时至2小时。
当脱卤化氢反应完成后，反应溶液中的盐类可通过过滤及水洗等步骤去除，且甲
苯、甲基异丁基酮等溶剂可通过加热减压的方式馏除，以形成具有如式(II)所示的结构的
化合物。该具有如式(II)所示的结构的化合物的具体例可包含日本化药制造的商品，其型
号为NC-3000、NC-3000H、NC-3000S及NC-3000P等。
该具有至少一个羧酸基与至少一个乙烯性不饱和基的化合物(a-1-2)可选自于由
下述(1)至(3)所组成的族群：
(1)丙烯酸、甲基丙烯酸、2-甲基丙烯酰氧乙基丁二酸(2-
methacryloyloxyethylbutanedioic acid)、2-甲基丙烯酰氧丁基丁二酸、2-甲基丙烯酰氧
乙基己二酸、2-甲基丙烯酰氧丁基己二酸、2-甲基丙烯酰氧乙基六氢邻苯二甲酸、2-甲基丙
烯酰氧乙基马来酸、2-甲基丙烯酰氧丙基马来酸、2-甲基丙烯酰氧丁基马来酸、2-甲基丙烯
酰氧丙基丁二酸、2-甲基丙烯酰氧丙基己二酸、2-甲基丙烯酰氧丙基四氢邻苯二甲酸、2-甲
基丙烯酰氧丙基邻苯二甲酸、2-甲基丙烯酰氧丁基邻苯二甲酸或2-甲基丙烯酰氧丁基氢邻
苯二甲酸等化合物；
(2)由具有羟基的(甲基)丙烯酸酯与二元羧酸化合物反应而得的化合物，其中该
二元羧酸化合物的具体例可包含己二酸、丁二酸、马来酸或邻苯二甲酸等化合物；
(3)由具有羟基的(甲基)丙烯酸酯与下述的羧酸酐化合物(a-1-3；请参照后述内
容，在此不另赘述)反应而得的半酯化合物，其中该具有羟基的(甲基)丙烯酸酯的具体例可
包含2-羟基乙基丙烯酸酯[(2-hydroxyethyl)acrylate]、2-羟基乙基甲基丙烯酸酯[(2-
hydroxyethyl)methacrylate]、2-羟基丙基丙烯酸酯[(2-hydroxypropyl)acrylate]、2-羟
基丙基甲基丙烯酸酯[(2-hydroxypropyl)methacrylate]、4-羟基丁基丙烯酸酯[(4-
hydroxybutyl)acrylate]、4-羟基丁基甲基丙烯酸酯[(4-hydroxybutyl)methacrylate]或
季戊四醇三甲基丙烯酸酯等化合物。
该羧酸酐化合物(a-1-3)可选自于二元羧酸酐化合物、四元羧酸酐化合物或上述
化合物的任意组合。
前述的二元羧酸酐化合物可包含但不限于丁二酸酐(butanedioic anhydride)、
顺丁烯二酸酐(maleic anhydride)、衣康酸酐(itaconic anhydride)、邻苯二甲酸酐
(phthalic anhydride)、四氢邻苯二甲酸酐(tetrahydrophthalic anhydride)、六氢邻苯
二甲酸酐(hexahydrophthalic anhydride)、甲基四氢邻苯二甲酸酐、甲基六氢邻苯二甲酸
酐、甲基桥亚甲基四氢邻苯二甲酸酐(methyl endo-methylene tetrahydro phthalic
anhydride)、氯茵酸酐(chlorendic anhydride)、戊二酸酐或偏三苯甲酸酐(1，3-
dioxoisobenzofuran-5-carboxylic anhydride)等二元羧酸酐化合物。
前述的四元羧酸酐化合物可包含但不限于二苯甲酮四甲酸二酐(benzophenone
tetracarboxylic dianhydride，BTDA)、双苯四甲酸二酐或双苯醚四甲酸二酐等四元羧酸
酐化合物。
该具有环氧基的化合物(a-1-4)的具体例可包含甲基丙烯酸环氧丙酯、3，4-环氧
基环己基甲基丙烯酸酯、具有不饱和基的缩水甘油醚化合物、具有环氧基的不饱和化合物
或上述化合物的组合。
前述具有不饱和基的缩水甘油醚化合物的具体例包含长濑化成工业股份有限公
司制造的商品，其型号为Denacol EX-111、Denacol EX-121、Denacol EX-141、Denacol EX-
145、Denacol EX-146、Denacol EX-171及Denacol EX-192。
该具有不饱和基的树脂(A-1)可由具有如式(I)所示的结构的具有至少二个环氧
基的环氧化合物(a-1-1)及具有至少一个羧酸基与至少一个乙烯性不饱和基的化合物(a-
1-2)进行反应，以形成具有羟基的反应产物。然后，将所制得的反应产物与羧酸酐化合物
(a-1-3)进行反应，以制得本发明具有不饱和基的树脂(A-1)。基于前述具有羟基的反应产
物的羟基总当量数为1当量，该羧酸酐化合物(a-1-3)的酸酐基的当量数为0.4当量至1当
量，且较佳为0.75当量至1当量。当使用多个羧酸酐化合物(a-1-3)时，此些羧酸酐化合物
(a-1-3)可依序添加或同时添加至反应中。当羧酸酐化合物(a-1-3)包含二元羧酸酐化合物
及四元羧酸酐化合物时，二元羧酸酐化合物及四元羧酸酐化合物的当量比例为1/99至90/
10，较佳为5/95至80/20。上述反应的操作温度范围为50℃至130℃。
该具有不饱和基的树脂(A-1)可由具有如式(II)所示的结构的具有至少二个环氧
基的环氧化合物(a-1-1)及具有至少一个羧酸基与至少一个乙烯性不饱和基的化合物(a-
1-2)进行反应，以形成具有羟基的反应产物。然后，将所制得的反应产物与羧酸酐化合物
(a-1-3)及/或具有环氧基的化合物(a-1-4)进行反应，以制得本发明具有不饱和基的树脂
(A-1)。基于具有如式(II)所示的结构的具有至少二个环氧基的环氧化合物(a-1-1)中的环
氧基的总当量数为1当量，该具有至少一个羧酸基及至少一个乙烯性不饱和基的化合物(a-
1-2)的酸价当量数为0.8当量至1.5当量，且较佳为0.9当量至1.1当量。基于前述具有羟基
的反应产物的羟基总量为100摩尔百分比，该羧酸酐化合物(a-1-3)的使用量为10摩尔百分
比至100摩尔百分比，较佳为20摩尔百分比至100摩尔百分比，且更佳为30摩尔百分比至100
摩尔百分比。
当制备前述具有不饱和基的树脂(A-1)时，为了加速反应速率，碱性化合物一般会
添加至反应溶液中，以作为反应催化剂。该反应催化剂的具体例可包含但不限于三苯基膦
(triphenyl phosphine)、三苯基锑(triphenyl stibine)、三乙胺(triethylamine)、三乙
醇胺(triethanolamine)、氯化四甲基铵(tetramethylammonium chloride)或氯化苄基三
乙基铵(benzyltriethylammonium chloride)等化合物。前述的反应催化剂可单独一种或
混合多种使用。
基于前述具有至少二个环氧基的环氧化合物(a-1-1)及具有至少一个羧酸基与至
少一个乙烯性不饱和基的化合物(a-1-2)的总使用量为100重量份，该反应催化剂的使用量
为0.01重量份至10重量份，且较佳为0.3重量份至5重量份。
其次，为了控制前述具有不饱和基的树脂(A-1)的聚合度，阻聚剂(inhibitor)可
加至反应溶液中。该阻聚剂的具体例可包含但不限于甲氧基酚(methoxyphenol)、甲基氢醌
(methylhydroquinone)、氢醌(hydroquinone)、2，6-二第三丁基对甲酚(2，6-di-t-butyl-
p-cresol)或吩噻嗪(phenothiazine)等化合物。该阻聚剂可单独一种或混合多种使用。
基于前述具有至少二个环氧基的环氧化合物(a-1-1)及具有至少一个羧酸基与至
少一个乙烯性不饱和基的化合物(a-1-2)的总使用量为100重量份，该阻聚剂的使用量为
0.01重量份至10重量份，且较佳为0.1重量份至5重量份。
此外，当制备前述具有不饱和基的树脂(A-1)时，聚合反应溶剂可加至反应溶液
中。该聚合反应溶剂的具体例可包含但不限于乙醇、丙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇、2-丁醇、己
醇或乙二醇等醇类化合物；甲乙酮或环己酮等酮类化合物；甲苯或二甲苯等芳香族烃类化
合物；赛珞素或丁基赛珞素(butyl cellosolve)等赛珞素(cellosolve)化合物；卡必妥或
丁基卡必妥等卡必妥化合物；丙二醇单甲醚等丙二醇烷基醚类化合物；二丙二醇单甲醚[di
(propylene glycol)methyl ether]等多丙二醇烷基醚[poly(propylene glycol)alkyl
ether]化合物；醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙二醇乙醚醋酸酯(ethylene glycol monoethyl
ether acetate)或丙二醇甲醚醋酸酯(propylene glycol methyl ether acetate)等醋酸
酯化合物；乳酸乙酯(ethyl lactate)或乳酸丁酯(butyl lactate)等乳酸烷酯(alkyl
lactate)化合物；或者二烷基二醇醚化合物。该聚合反应溶剂可单独一种或混合多种使用。
本发明所制得具有不饱和基的树脂(A-1)的酸价为50mgKOH/g至150mgKOH/g。
本发明的具有不饱和基的树脂(A-1)的重量平均分子量一般为600至10,000，较佳
为800至8,000，更佳为1,000至6,000。具有不饱和基的树脂(A-1)可为单一树脂，也可使用
两种或两种以上不同分子量的树脂并用来达成。
基于碱可溶性树脂(A)的使用量为100重量份，该具有不饱和基的树脂(A-1)的使
用量为30重量份至100重量份，较佳为40重量份至100重量份，且更佳为50重量份至100重量
份。
当本发明的碱可溶性树脂(A)包含该具有不饱和基的树脂(A-1)时，则由此黑色感
光性树脂组成物所制得的黑色图案其高精细度图案的直线性更佳。
前述的其他碱可溶性树脂(A-2)可包含但不限于具有羧酸基或羟基的树脂。该其
他碱可溶性树脂(A-2)的具体例可为前述具有不饱和基的树脂(A-1)以外的丙烯酸树脂、胺
基甲酸酯(urethane)树脂、酚醛清漆树脂等碱可溶性树脂。
基于碱可溶性树脂(A)的使用量为100重量份，该其他碱可溶性树脂(A-2)的使用
量为0重量份至70重量份，较佳为0重量份至60重量份，且更佳为0重量份至50重量份。
根据本发明的具有乙烯性不饱和基的化合物(B)包含一具有乙烯性不饱和基的第
一化合物(B-1)，该具有乙烯性不饱和基的第一化合物(B-1)包含式(B-I)所示的化合物：
于式(B-I)中，R1b为氢原子或甲基，R2b为氢原子、丙烯酰基或甲基丙烯酰基，及b为
2至3的整数。
于本发明的具体例中，该具有乙烯性不饱和基的第一化合物(B-1)包含但不限于
三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯、四季戊四醇九(甲基)丙烯
酸酯或四季戊四醇十(甲基)丙烯酸酯或上述化合物的任意组合。
基于碱可溶性树脂(A)的使用量为100重量份，该具有乙烯性不饱和基的第一化合
物(B-1)的使用量为30重量份至300重量份，较佳为40重量份至250重量份，且更佳为50重量
份至200重量份。
若使用该具有乙烯性不饱和基的第一化合物(B-1)，则由此黑色感光性树脂组成
物所制得的黑色图案其高精细度的图案直线性较佳。
于本发明的另一具体例中，该具有乙烯性不饱和基的化合物(B)可进一步地包含
一具有乙烯性不饱和基的第二化合物(B-2)，该具有乙烯性不饱和基的第二化合物(B-2)是
选自于具有一个乙烯性不饱和基的化合物或具有两个以上(含两个)乙烯性不饱和基的化
合物。
该具有一个乙烯性不饱和基的化合物的具体例可包含但不限于(甲基)丙烯酰胺
[(meth)acrylamide]、(甲基)丙烯酰吗啉、(甲基)丙烯酸-7-胺基-3，7-二甲基辛酯、异丁氧
基甲基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸异冰片基氧乙酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙
烯酸-2-乙基己酯、乙基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、第三辛基(甲基)丙烯酰胺、二丙酮(甲
基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸二
环戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二环戊烯酯、N，N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸四
氯苯酯、(甲基)丙烯酸-2-四氯苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸四氢糠酯[tetrahydrofurfuryl
(meth)acrylate]、(甲基)丙烯酸四溴苯酯、(甲基)丙烯酸-2-四溴苯氧基乙酯、(甲基)丙烯
酸-2-三氯苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸三溴苯酯、(甲基)丙烯酸-2-三溴苯氧基乙酯、2-羟
基-(甲基)丙烯酸乙酯、2-羟基-(甲基)丙烯酸丙酯、乙烯基己内酰胺、氮-乙烯基吡咯烷酮、
(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸五氯苯酯、(甲基)丙烯酸五溴苯酯、聚单(甲基)丙
烯酸乙二酯、聚单(甲基)丙烯酸丙二酯或(甲基)丙烯酸冰片酯等化合物。该具有一个乙烯
性不饱和基的化合物)可单独一种或混合多种使用。
该具有二个以上(包含二个)的乙烯性不饱和基的化合物的具体例可包含但不限
于乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸二环戊烯酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四
乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三(2-羟基乙基)异氰酸二(甲基)丙烯酸酯、三(2-羟基乙基)异
氰酸三(甲基)丙烯酸酯、己内酯改质的三(2-羟基乙基)异氰酸三(甲基)丙烯酸酯、三(甲
基)丙烯酸三羟甲基丙酯、环氧乙烷(ethylene oxide；EO)改质的三(甲基)丙烯酸三羟甲基
丙酯、环氧丙烷(propylene oxide；PO)改质的三(甲基)丙烯酸三羟甲基丙酯、三丙二醇二
(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇
二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、聚酯二(甲
基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五
(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、己内酯改质的二季戊四醇六(甲基)丙烯
酸酯、己内酯改质的二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸二三羟甲基丙酯[di
(trimethylolpropane)tetra(meth)acrylate]、经环氧乙烷改质的双酚A二(甲基)丙烯酸
酯、经环氧丙烷改质的双酚A二(甲基)丙烯酸酯、经环氧乙烷改质的氢化双酚A二(甲基)丙
烯酸酯、经环氧丙烷改质的氢化双酚A二(甲基)丙烯酸酯、经环氧丙烷改质的甘油三(甲基)
丙烯酸酯、经环氧乙烷改质的双酚F二(甲基)丙烯酸酯、酚醛清漆聚缩水甘油醚(甲基)丙烯
酸酯或上述化合物的任意组合。该具有二个以上(包含二个)的乙烯性不饱和基的化合物可
单独一种或混合多种使用。
该具有乙烯性不饱和基的第二化合物(B-2)较佳可为三丙烯酸三羟甲基丙酯、二
季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯或上述化合物的任意组合。
基于碱可溶性树脂(A)的使用量为100重量份，该具有乙烯性不饱和基的化合物
(B)的使用量为30重量份至300重量份，较佳为40重量份至250重量份，且更佳为50重量份至
200重量份。
本发明的光起始剂(C)可为通过照光产生自由基的物质，且前述具有自由基的物
质可引发聚合物与聚合物之间、聚合物与寡聚合物之间或聚合物与单体之间的交联反应，
而可形成具有良好机械强度的图案(例如：黑色矩阵或黑色间隙体)。
根据本发明的光起始剂(C)包含一具有式(C-I)所示结构的第一光起始剂(C-1)，
其次，该光起始剂(C)可选择性地包含如式(C-II)所示结构的第二光起始剂(C-2)，另可选
择性包含其他光起始剂(C-3)，以下分述。
根据本发明的光起始剂(C)包含一具有式(C-I)所示结构的光起始剂(C-1)：
其中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此独立地为氢、C1-C20烷基、COR16、
OR17、卤素、NO2或或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此独立
地为经取代的C2-C10烯基或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8
彼此独立地共同为-(CH2)P-Y-(CH2)q-；
或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此独立地共同为
但条件为R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8中至少一对是
R9、R10、R11及R12彼此独立地为氢、C1-C20烷基，该C1-C20烷基未经取代或经一或多个
以下基团取代：卤素、苯基、CN、OH、SH、C1-C4-烷氧基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)；
或R9、R10、R11及R12彼此独立地为未经取代的苯基或经一或多个以下基团取代的苯
基：C1-C6烷基、卤素、CN、OR17、SR18或NR19R20；
或R9、R10、R11及R12彼此独立地为卤素、CN、OR17、SR18、SOR18、SO2R18或NR19R20，其中该
取代基OR17、SR18或NR19R20经由基团R17、R18、R19及/或R20与萘基环中一个碳原子形成5元或6
元环；
或R9、R10、R11及R12彼此独立地为COR16或NO2；
Y是O、S、NR26或直接键；
p是整数0、1、2或3；
q是整数1、2或3；
X是CO或直接键；
R13是C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、R17、COOR17、OR17、
SR18、CONR19R20、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2或
或R13是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O、S、SO、SO2、NR26或CO，
或是C2-C12烯基，其未经间杂或间杂有一或多个O、CO或NR26，其中经间杂的C2-C20烷
基及未经间杂或经间杂的C2-C12烯基未经取代或经一或多个卤素取代；
或R13是C4-C8环烯基、C2-C12炔基或未经间杂或间杂有一或多个O、S、CO或NR26的C3-
C10环烷基；
或R13是苯基或萘基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：OR17、SR18、
NR19R20、COR16、CN、NO2、卤素、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、间杂有一或多
个O、S、CO或NR26的C2-C20烷基；或其各经C3-C10环烷基或间杂有一或多个O、S、CO或NR26的C3-
C10环烷基取代；
k是整数1至10；
R14是氢、C3-C8环烷基、C2-C5烯基、C1-C20烷氧基或C1-C20烷基，其未经取代或经一或
多个卤素、苯基、C1-C20烷基苯基或CN取代；
或R14是苯基或萘基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-C6烷基、C1-C4
卤代烷基、卤素、CN、OR17、SR18及/或NR19R20；
或R14是C3-C20杂芳基、C1-C8烷氧基、苄氧基或苯氧基，该苄氧基及苯氧基未经取代
或经一或多个C1-C6烷基、C1-C4卤代烷基及/或卤素取代；
R15是C6-C20芳基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：苯基、
卤素、C1-C4卤代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2、SO-C1-C10烷基、SO2-C1-C10烷
基、间杂有一或多个O、S或NR26的C2-C20烷基；或其各经C1-C20烷基取代，该C1-C20烷基未经取
代或经一或多个以下基团取代：卤素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8环烷基、C3-C20杂芳基、
C6-C20芳氧基羰基、C3-C20杂芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；
或R15是氢、C2-C12烯基、未经间杂或间杂有一或多个O、CO或NR26的C3-C8环烷基；
或R15是C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、OR17、SR18、C3-C8
环烷基、C3-C20杂芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20杂芳氧基羰基、NR19R20、COOR17、CONR19R20、PO
(OCkH2k+1)2、苯基；或该C1-C20烷基经苯基取代，该苯基经
卤素、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、OR17、SR18或NR19R20取代；
或R15是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O、SO或SO2，且该经间杂的C2-C20烷基未经取
代或经一或多个以下基团取代：卤素、OR17、COOR17、CONR19R20、苯基或经OR17、SR18或NR19R20取
代的苯基；
或R15是C2-C20烷酰基或苯甲酰基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-C6
烷基、卤素、苯基、OR17、SR18或NR19R20；
或R15未经取代或经一或多个OR17取代的萘甲酰基或是C3-C14杂芳基羰基；
或R15是C2-C12烷氧基羰基，其未经间杂或间杂有一或多个O且该经间杂或未经间杂
的C2-C12烷氧基羰基未经取代或经一或多个羟基取代；
或R15是苯氧基羰基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-C6烷基、卤素、C1-
C4卤代烷基、苯基、OR17、SR18或NR19R20；
或R15是CN、CONR19R20、NO2、C1-C4卤代烷基、S(O)m-C1-C6烷基、未经取代或经C1-C12烷
基或SO2-C1-C6烷基取代的S(O)m-苯基；
或R15是SO2O-苯基，其未经取代或经C1-C12烷基取代；或是二苯基膦酰基或二(C1-C4
烷氧基)-膦酰基；
m是1或2；
R′14是R14所给出含义中的一个；
R′15是R15所给出含义中的一个；
X1是O、S、SO或SO2；
X2是O、CO、S或直接键；
R16是C6-C20芳基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：苯基、
卤素、C1-C4卤代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20或间杂有一或多个O、S或NR26的C1-C20烷基；
或其各经一或多个C1-C20烷基取代，该C1-C20烷基未经取代或经一或多个以下基团取代：卤
素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8环烷基、C3-C20杂芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20杂芳氧基羰
基、OR17、SR18或NR19R20；
或R16是氢、C1-C20烷基，该C1-C20烷基未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、
苯基、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O
(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)；
或R16是C2-C12烷基，其间杂有一或多个O、S或NR26；
或R16是(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C12烯基或C3-C8环烷基；
或R16是经SR18取代的苯基，其中基团R18表示键结至其中连接有COR16的咔唑部分的
苯基或萘基环的直接键；
n是1至20；
R17是氢、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤
素、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、
OCO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-苯基、(CO)OH、(CO)O(C1-C4烷基)、C3-C20环烷基、SO2-(C1-C4卤代
烷基)、O(C1-C4卤代烷基)或间杂有一或多个O的C3-C20环烷基；
或R17是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O、S或NR26；
或R17是(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷酰基、C2-C12烯基、C3-
C6烯酰基或未经间杂或间杂有一或多个O、S、CO或NR26的C3-C20环烷基；
或R17是C1-C8烷基-C3-C10环烷基，其未经间杂或间杂有一或多个O；
或R17是苯甲酰基，其未经取代或经一或多个C1-C6烷基、卤素、OH或C1-C3烷氧基取
代；
或R17是苯基、萘基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：卤
素、OH、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基
硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基-胺基或
或R17形成键结至其上具有基团的苯基或萘
基环的一个碳原子的直接键；
R18是氢、C2-C12烯基、C3-C20环烷基或苯基-C1-C3烷基，其中C2-C12烯基、C3-C20环烷
基或苯基-C1-C3烷基未经间杂或间杂有一或多个O、S、CO、NR26或COOR17；
或R18是C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：OH、SH、CN、C3-C6烯氧
基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-
苯基或(CO)OR17；
或R18是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O、S、CO、NR26或COOR17；
或R18是(CH2CH2O)nH、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C8烷酰基或C3-C6烯酰基；
或R18是苯甲酰基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-C6烷基、卤素、OH、
C1-C4烷氧基或C1-C4烷基硫基；
或R18是苯基、萘基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：卤
素、C1-C12烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基
硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基胺基、(CO)O(C1-C8烷基)、(CO)-C1-C8烷基、(CO)N
(C1-C8烷基)2或
R19及R20彼此独立地为氢、C1-C20烷基、C2-C4羟基烷基、C2-C10烷氧基烷基、C2-C5烯
基、C3-C20环烷基、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷酰基、C1-C8烷酰基氧基、C3-C12烯酰基、SO2-(C1-C4
卤代烷基)或苯甲酰基；
或R19及R20是苯基、萘基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取
代：卤素、C1-C4卤代烷基、C1-C20烷氧基、C1-C12烷基、苯甲酰基或C1-C12烷氧基；
或R19及R20与其所连接的N原子一起形成未经间杂或间杂有O、S或NR17的5元或6元
饱和或不饱和环，且该5元或6元饱和或不饱和环未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-
C20烷基、C1-C20烷氧基、＝O、OR17、SR18、NR21R22、(CO)R23、NO2、卤素、C1-C4-卤代烷基、CN、苯基、
或C3-C20环烷基，该C3-C20环烷基未经间杂或间杂有一或多个O、S、CO或
NR17；
或R19及R20与其所连接的N原子一起形成杂芳香族环系统，该环系统未经取代或经
一或多个以下基团取代：C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C20烷氧基、＝O、OR17、SR18、NR21R22、
(CO)R23、卤素、NO2、CN、苯基或C3-C20环烷基，该C3-C20环烷基未经间杂或
间杂有一或多个O、S、CO或NR17；
R21及R22彼此独立地为氢、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C10环烷基或苯基；
或R21及R22与其所连接的N原子一起形成未经间杂或间杂有O、S或NR26的5元或6元
饱和或不饱和环，且该5元或6元饱和或不饱和环未稠合或该5元或6元饱和或不饱和环是与
苯环稠合；
R23是氢、OH、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、间杂有一或多个O、CO或NR26的C2-C20烷基、
未经间杂或间杂有O、S、CO或NR26的C3-C20环烷基，或R23是苯基、萘基、苯基-C1-C4烷基、OR17、
SR18或NR21R22；R24是(CO)OR17、CONR19R20、(CO)R17；或R24是R19及R20所给出含义中的一个；
R25是COOR17、CONR19R20、(CO)R17；或R25是R17所给出含义中的一个；R26是氢、C1-C20烷
基、C1-C4卤代烷基、间杂有一或多个O或CO的C2-C20烷基；或是苯基-C1-C4烷基、未经间杂或
间杂有一或多个O或CO的C3-C8环烷基；或是(CO)R19；或是苯基，其未经取代或经一或多个以
下基团取代：C1-C20烷基、卤素、C1-C4卤代烷基、OR17、SR18、NR19R20或
但条件为在该分子中存在至少一个基团
该具有式(C-I)所示结构的光起始剂(C-1)的特征在于其在咔唑部分上包含一或
多个成环(annelated)不饱和环。换言的，R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8中至
少一对是
在一实施例中，该具有式(C-I)所示结构的光起始剂(C-1)，该C1-C20烷基是直链或
支链且是(例如)C1-C18-、C1-C4-、C1-C12-、C1-C8-、C1-C8-或C1-C4烷基或C4-C12-或C4-C8烷基。
实施例是甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、第二丁基、异丁基、第三丁基、戊基、己基、庚基、
2，4，4-三甲基戊基、2-乙基己基、辛基、壬基、癸基、十二基、十四基、十五基、十六基、十八基
及二十基。C1-C6烷基具有与上文针对C1-C20烷基所给出相同的含义且具有最高相应C原子
数。
该含有一或多个C-C多重键的未经取代或经取代的C1-C20烷基是指如下文所解释
的烯基。
该C1-C4卤代烷基是如下文所定义经卤素取代的如上文所定义C1-C4烷基。烷基基
团是(例如)单-或多卤化，直至所有H-原子替换为卤素。其是(例如)CnHxHaly，其中x+y＝2n+
1且Hal是卤素，较佳为F。具体实施例是氯甲基、三氯甲基、三氟甲基或2-溴丙基，尤其为三
氟甲基或三氯甲基。C2-C4羟基烷基是指经一或两个O原子取代的C2-C4烷基。烷基基团是直
链或支链。实施例是2-羟基乙基、1-羟基乙基、1-羟基丙基、2-羟基丙基、3-羟基丙基、1-羟
基丁基、4-羟基丁基、2-羟基丁基、3-羟基丁基、2，3-二羟基丙基或2，4-二羟基丁基。C2-C10
烷氧基烷基是间杂有一个O原子的C2-C10烷基。C2-C10烷基具有与上文针对C1-C20烷基所给出
相同的含义且具有最高相应C原子数。实施例是甲氧基甲基、甲氧基乙基、甲氧基丙基、乙氧
基甲基、乙氧基乙基、乙氧基丙基、丙氧基甲基、丙氧基乙基、丙氧基丙基。
该间杂有一或多个O、S、NR26或CO的C2-C20烷基经O、S、NR26或CO间杂(例如)1至9次、
1至5次、1至3次或1次或2次。若存在一个以上间杂基团，则其为相同种类或不同。该两个O原
子由至少一个亚甲基、较佳至少两个亚甲基(即伸乙基)隔开。该等烷基是直链或支链。举例
而言，将存在以下结构单元：-CH2-CH2-O-CH2CH3、-[CH2CH2O]y-CH3(其中y＝1至9)、-(CH2-
CH2O)7-CH2CH3、-CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH2CH3、-CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH3、-CH2-CH2-S-CH2CH3、-
CH2-CH(CH3)-NR26-CH2-CH3、-CH2-CH2-COO-CH2CH3或-CH2-CH(CH3)-OCO-CH2-CH2CH3。
该C3-C10环烷基、C3-C10环烷基及C3-C8环烷基在本申请案上下文中应理解为至少包
含一个环的烷基。其是(例如)环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环辛基、戊基环戊基及环己
基。C3-C10环烷基在本发明上下文中亦包含二环，换言之，包括桥联环，例如
及相应环。其他实施例是诸如
(例如)或等结构、以及桥联或稠合环系统，举例而言，该术语亦是涵盖
等。
该间杂有O、S、CO、NR26的C3-C20环烷基具有上文给出的含义，其中烷基中至少一个CH2-
基团替换为O、S、CO或NR26。实施例是诸如(例如
)、
等结构。
该C1-C8烷基-C3-C10环烷基是经一或多个具有最多8个碳原子的烷基取代的如上文
所定义的C3-C10环烷基。实施例是等。
该间杂有一或多个O的C1-C8烷基-C3-C10环烷基是经一或多个具有最多8个碳原子
的烷基取代的如上文所定义的O间杂C3-C10环烷基。实施例是等。
该C1-C12烷氧基是经一个O原子取代的C1-C12烷基。C1-C12烷基具有与上文针对C1-
C20烷基所给出相同的含义且具有最高相应C原子数。该C1-C4烷氧基是直链或支链，例如甲
氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、第二丁氧基、异丁氧基或第三丁氧基。C1-C8烷氧
基及C1-C4-烷氧基具有与上文所述相同的含义且具有最高相应C原子数。
该C1-C12烷基硫基是经一个S原子取代的C1-C12烷基。C1-C20烷基具有与上文针对
C1-C20烷基所给出相同的含义且具有最高相应C原子数。该C1-C4烷基硫基是直链或支链，例
如甲基硫基、乙基硫基、丙基硫基、异丙基硫基、正丁基硫基、第二丁基硫基、异丁基硫基、第
三丁基硫基。
该苯基-C1-C3烷基是(例如)苄基、苯基乙基、α-甲基苄基或α，α-二甲基-苄基，尤其
为苄基。
该苯基-C1-C3烷氧基是(例如)苄氧基、苯基乙氧基、α-甲基苄氧基或α，α-二甲基苄
氧基，尤其为苄氧基。
该C2-C12烯基是单-或多不饱和且是(例如)C2-C10-、C2-C8-、C2-C5-烯基，例如乙烯
基、烯丙基、甲基烯丙基、1，1-二甲基烯丙基、1-丁烯基、3-丁烯基、2-丁烯基、1，3-戊二烯
基、5-己烯基、7-辛烯基或十二烯基，尤其为烯丙基。C2-C5烯基具有与上文针对C2-C12烯基所
给出相同的含义且具有最高相应C原子数。
该间杂有一或多个O、CO或NR26的C2-C12烯基经O、S、NR26或CO间杂(例如)1至9次、1
至5次、1至3次或1次或2次。若存在一个以上间杂基团，则其为相同种类或不同。该两个O原
子由至少一个亚甲基、较佳至少两个亚甲基(即伸乙基)隔开。该烯基是直链或支链且如上
文所定义。举例而言，可形成以下结构单元：-CH＝CH-O-CH2CH3、-CH＝CH-O-CH＝CH2等。
该C4-C8环烯基具有一或多个双键且是(例如)C4-C6-环烯基或C6-C8-环烯基。实施
例是环丁烯基、环戊烯基、环己烯基或环辛烯基，尤其为环戊烯基及环己烯基，较佳为环己
烯基。
该C3-C6烯氧基是单或多不饱和直链或支链且是上文针对烯基所给出含义中的一
个，且连接氧基具有最高相应C原子数。实施例是烯丙氧基、甲基烯丙氧基、丁烯氧基、戊烯
氧基、1，3-戊二烯氧基、5-己烯氧基。
该C2-C12炔基是单或多不饱和直链或支链且是(例如)C2-C8-、C2-C6-或C2-C4炔基。
实施例是乙炔基、丙炔基、丁炔基、1-丁炔基、3-丁炔基、2-丁炔基、戊炔基己炔基、2-己炔
基、5-己炔基、辛炔基等。
该C2-C20烷酰基是直链或支链且是(例如)C2-C18-、C2-C14-、C2-C12-、C2-C8-、C2-C6-
或C2-C4烷酰基或C4-C12-或C4-C8烷酰基。实施例是乙酰基、丙酰基、丁酰基、异丁酰基、戊酰
基、己酰基、庚酰基、辛酰基、壬酰基、癸酰基、十二酰基、十四酰基、十五酰基、十六酰基、十
八酰基、二十酰基，较佳为乙酰基。C1-C8烷酰基具有与上文针对C2-C20烷酰基所给出相同的
含义且具有最高相应C原子数。
该C2-C12烷氧基羰基是直链或支链且是(例如)甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰
基、正丁氧基羰基、异丁氧基羰基、1，1-二甲基丙氧基羰基、戊氧基羰基、己氧基羰基、庚氧
基羰基、辛氧基羰基、壬氧基羰基、癸氧基羰基或十二氧基羰基，尤其为甲氧基羰基、乙氧基
羰基、丙氧基羰基、正丁氧基羰基或异丁氧基羰基，较佳为甲氧基羰基。
该间杂有一或多个O的C2-C12烷氧基羰基是直链或支链。两个O原子由至少两个亚
甲基(即伸乙基)隔开。该经间杂的烷氧基羰基未经取代或经一或多个羟基取代。该C6-C20芳
氧基羰基是(例如)苯基氧基羰基[＝苯基-O-(CO)-]、萘氧基羰基、蒽氧基羰基等。C5-C20杂
芳氧基羰基是C5-C20杂芳基-O-CO-。
该C3-C10环烷基羰基是C3-C10环烷基-CO-，其中环烷基具有上文所示含义中的一个
且具有最高相应C原子数。该间杂有一或多个O、S、CO、NR26的C3-C10环烷基羰基是指经间杂环
烷基-CO-，其中经间杂环烷基是如上文所述所定义。
该C3-C10环烷氧基羰基是C3-C10环烷基-O-(CO)-，其中环烷基具有上文所示含义中
的一个且具有最高相应C原子数。间杂有一或多个O、S、CO、NR26的C3-C10环烷氧基羰基是指经
间杂环烷基-O-(CO)-，其中经间杂环烷基是如上文所述所定义。
该C1-C20烷基苯基是指经一或多个烷基取代的苯基，其中C原子的总和最多为20。
该C6-C20芳基是(例如)苯基、萘基、蒽基、菲基、芘基、基、并四苯基、联伸三苯基
等，尤其苯基或萘基，较佳为苯基。萘基是1-萘基或2-萘基。
在本发明上下文中，该C3-C20杂芳基是包含单环或多环系统，例如稠合环系统。实
施例是噻吩基、苯并[b]噻吩基、萘并[2，3-b]噻吩基、噻蒽基、呋喃基、二苯并呋喃基、唏
基、呫吨基、噻吨基、啡恶噻基、吡咯基、咪唑基、吡唑基、吡嗪基、嘧啶基、哒嗪基、中氮茚基、
异吲哚基、吲哚基、吲唑基、嘌呤基、喹嗪基、异喹啉基、喹啉基、酞嗪基、萘啶基、喹恶啉基、
喹唑啉基、啉基、喋啶基、咔唑基、β-咔啉基、菲啶基、吖啶基、萘嵌间二氮苯基、菲咯啉基、吩
嗪基、异噻唑基、吩噻嗪基、异恶唑基、呋呫基、吩恶基、7-菲基、蒽醌-2-基(＝9，10-二侧氧
基-9，10-二氢蒽-2-基)、3-苯并[b]噻吩基、5-苯并[b]噻吩基、2-苯并[b]噻吩基、4-二苯并
呋喃基、4，7-二苯并呋喃基、4-甲基-7-二苯并呋喃基、2-呫吨基、8-甲基-2-呫吨基、3-呫吨
基、2-啡恶噻基、2，7-啡恶噻基、2-吡咯基、3-吡咯基、5-甲基-3-吡咯基、2-咪唑基、4-咪唑
基、5-咪唑基、2-甲基-4-咪唑基、2-乙基-4-咪唑基、2-乙基-5-咪唑基、1H-四唑-5-基、3-吡
唑基、1-甲基-3-吡唑基、1-丙基-4-吡唑基、2-吡嗪基、5，6-二甲基-2-吡嗪基、2-中氮茚基、
2-甲基-3-异吲哚基、2-甲基-1-异吲哚基、1-甲基-2-吲哚基、1-甲基-3-吲哚基、1，5-二甲
基-2-吲哚基、1-甲基-3-吲唑基、2，7-二甲基-8-嘌呤基、2-甲氧基-7-甲基-8-嘌呤基、2-喹
嗪基、3-异喹啉基、6-异喹啉基、7-异喹啉基、3-甲氧基-6-异喹啉基、2-喹啉基、6-喹啉基、
7-喹啉基、2-甲氧基-3-喹啉基、2-甲氧基-6-喹啉基、6-酞嗪基、7-酞嗪基、1-甲氧基-6-酞
嗪基、1，4-二甲氧基-6-酞嗪基、1，8-萘啶-2-基、2-喹恶啉基、6-喹恶啉基、2，3-二甲基-6-
喹恶啉基、2，3-二甲氧基-6-喹恶啉基、2-喹唑啉基、7-喹唑啉基、2-二甲基胺基-6-喹唑啉
基、3-啉基、6-啉基、7-啉基、3-甲氧基-7-啉基、2-喋啶基、6-喋啶基、7-喋啶基、6，7-二甲氧
基-2-喋啶基、2-咔唑基、3-咔唑基、9-甲基-2-咔唑基、9-甲基-3-咔唑基、β-咔啉-3-基、1-
甲基-β-咔啉-3-基、1-甲基-β-咔啉-6-基、3-菲啶基、2-吖啶基、3-吖啶基、2-萘嵌间二氮苯
基、1-甲基-5-萘嵌间二氮苯基、5-菲咯啉基、6-菲咯啉基、1-吩嗪基、2-吩嗪基、3-异噻唑
基、4-异噻唑基、5-异噻唑基、2-吩噻嗪基、3-吩噻嗪基、10-甲基-3-吩噻嗪基、3-异恶唑基、
4-异恶唑基、5-异恶唑基、4-甲基-3-呋呫基、2-吩恶基、10-甲基-2-吩恶基等。
该C3-C20杂芳基尤其为噻吩基、苯并[b]噻吩基、噻蒽基、噻吨基、1-甲基-2-吲哚基
或1-甲基-3-吲哚基；尤其为噻吩基。
该C4-C20杂芳基羰基是经由CO基团连接至分子其余部分的如上文所定义C3-C20杂
芳基。
该经取代的芳基(苯基、萘基、C6-C20芳基或C5-C20杂芳基)是分别经1至7次、1至6次
或1至4次、尤其1次、2次或3次取代。显而易见，所定义芳基不能具有比芳基环处的自由位置
更多的取代基。
该苯基环上的取代基优选在苯基环上的位置4上或呈3，4-、3，4，5-、2，6-、2，4-或
2，4，6-组态。
该间杂1次或多次的经间杂基团间杂(例如)1至19次、1至15次、1至12次、1至9次、1
至7次、1至5次、1至4次、1至3次或1次或2次(显而易见，间杂原子数取决于拟间杂的C原子
数)。经1次或多次取代的经取代基团具有(例如)1至7个、1至5个、1至4个、1至3个或1个或2
个相同或不同取代基。
该经一或多个所定义取代基取代的基团是具有一个取代基或多个如所给出相同
或不同定义的取代基。卤素是氟、氯、溴及碘，尤其为氟、氯及溴，较佳为氟及氯。若R1及R2、R2
及R3、R3及R4或R5及R6、R6及R7、R7及R8彼此独立地共同为则形成(例
如)以下结构(Ia)-I(i)：
亦或(例如)诸如(Id)-(Ih)等结构：
较佳者是结构(Ia)。
该具有式(C-I)所示结构的光起始剂(C-1)的特征在于至少一个苯基环与咔唑部
分稠合以形成“萘基”环。亦即上述结构中的一个是以式(C-I)所示结构给出。
若R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此独立地共同为-(CH2)P-Y-
(CH2)q-，则形成(例如)诸如等结构。
若苯基或萘基环上的取代基OR17、SR18、SOR18、SO2R18或NR19R20经由基团R17、R18、R19
及/或R20与萘基环的一个碳原子形成5元或6元环，则获得包含3个或更多个环(包括萘基环)
的结构。
实施例是
等。
若R17形成键结至其上具有基团的苯基或萘基环
的一个碳原子的直接键，则形成(例如)诸如
等结构。
若R16是经SR18取代的苯基，其中基团R19表示键结至其中连接有COR16基团的咔唑部
分的苯基或萘基环的直接键，则形成(例如)诸如
等结构。亦即，若R16是经SR18
取代的苯基，其中基团R18表示键结至其中连接有COR16基团的咔唑部分的苯基或萘基环的
直接键，则噻吨基部分与咔唑部分的一个苯基或萘基环一起形成。
若R19及R20与其所连接的N原子一起形成视情况间杂有O、S或NR17的5元或6元饱和
或不饱和环，则形成饱和或不饱和环，例如氮丙啶、吡咯、噻唑、吡咯啶、恶唑、吡啶、1，3-二
嗪、1，2-二嗪、六氢吡啶或吗啉。较佳地，若R19及R20与其所连接的N原子一起形成视情况间
杂有O、S或NR17的5元或6元饱和或不饱和环，则形成未经间杂或间杂有O或NR17、尤其O的5元
或6元饱和环。
若R21及R22与其所连接的N原子一起形成视情况间杂有O、S或NR26的5元或6元饱和
或不饱和环，且苯环视情况与该饱和或不饱和环稠合，则形成饱和或不饱和环，例如氮丙
啶、吡咯、噻唑、吡咯啶、恶唑、吡啶、1，3-二嗪、1，2-二嗪、六氢吡啶或吗啉或相应成环环(例
如)等。
若R19及R20与其所连接的N原子一起形成杂芳香族环系统，则该环系统是包含一个
以上环(例如2个或3个环)以及来自相同种类或不同种类的一个或一个以上杂原子。适宜杂
原子是(例如)N、S、O或P、尤其N、S或O。实施例是咔唑、吲哚、异吲哚、吲唑、嘌呤、异喹啉、喹
啉、咔啉、吩噻嗪等。
术语“及/或”或“或/及”在本发明上下文中是表达不仅可存在所定义替代物(取代
基)中的一个，而且可存在总共若干所定义替代物(取代基)，即不同替代物(取代基)的混合物。
术语“至少”是定义一个或一个以上，例如一个或两者或三者、较佳一个或两者。
术语“视情况经取代”是指其提及的基团未经取代或经取代。
术语“视情况经间杂”是指其提及的基团未经间杂或经间杂。
在整个本说明书及下文的权利要求书中，除非上下文另有要求，否则词语“包含
(comprise)”或变体(例如，“comprises”或“comprising”)应理解为暗指包括所述整数或步
骤或整数群组或步骤群组，但并不排除任一其他整数或步骤或整数群组或步骤群组。术语
“(甲基)丙烯酸酯”在本申请案上下文中是指丙烯酸酯以及相应甲基丙烯酸酯。
本发明上下文中用于本发明化合物的文字中所示较佳者是指所有权利要求书类
别，也指针对组合物、用途、方法、彩色滤光片等权利要求书。
该具有式(C-I)所示结构的肟酯是通过文献中所述方法来制备，例如通过在以下
条件下使相应肟与酰卤、尤其氯化物或酸酐反应：在惰性溶剂(例如第三丁基甲基醚、四氢
呋喃(THF)或二甲基甲酰胺)中，在碱(例如三乙胺或吡啶)存在时，或在碱性溶剂(例如吡
啶)中。在下文中作为实施例，阐述式Ia化合物的制备，其中R7是肟酯基团且X是直接键是
[自适当肟开始实施化合物(Ib)-(Ih)的反应]：
R1、R2、R5、R6、R8、R13、R14及R15是如上文所定义，Hal是指卤素原子、尤其Cl。
R14较佳为甲基。
此等反应为彼等熟习此项技术者所熟知，且通常在-15℃至+50℃、较佳0至25℃的
温度下实施。
当X是CO时，相应肟是通过用亚硝酸烷基酯(例如亚硝酸甲酯、亚硝酸乙酯、亚硝酸
丙酯、亚硝酸丁酯或亚硝酸异戊酯)将亚甲基亚硝化来合成。然后，酯化是在与上文所述相
同的条件下实施：
因此，本发明也是通过在碱或碱的混合物存在下使相应肟化合物与式(a)的酰卤或
式(b)的酸酐反应来制备如上文所定义该具有式(C-I)所示结构的光起始剂(C-1)的方法。
其中Hal是卤素、尤其Cl，且R14是如上文所定义。
所需作为起始材料的肟可通过标准化学教材(例如J.March，Advanced Organic
Chemistry，第4版，Wiley Interscience，1992)或专著(例如S.R.Sandler&W.Karo，Organic
functional group preparations，第3卷，Academic Press)中所述多种方法来获得。
最便利的一种方法是(例如)在极性溶剂(例如二甲基乙酰胺(DMA)、DMA水溶液、乙
醇或乙醇水溶液)中使醛或酮与羟胺或其盐反应。在此情形下，添加诸如乙酸钠或吡啶等碱
来控制反应混合物的pH。众所周知，反应速度具有pH依赖性，且可在开始时或在反应期间连
续地添加碱。亦可使用诸如吡啶等碱性溶剂作为碱及/或溶剂或共溶剂。反应温度通常为室
温至混合物的回流温度，一般为约20℃至120℃。
相应酮中间体是(例如)通过文献(例如标准化学教材，例如J.March，Advanced
Organic Chemistry，第4版，Wiley Interscience，1992)中所述方法来制备。另外，连续弗
里德-克拉夫茨反应(Friedel-Crafts reaction)可有效用于合成中间体。此等反应为彼等
熟习此项技术者所熟知。
肟的另一便利合成是用亚硝酸或亚硝酸烷基酯将“活性”亚甲基亚硝化。碱性条件
(如Organic Syntheses coll.第VI卷(J.Wiley&Sons，New York，1988)，第199页及第840页
中所述)与酸性条件(如Organic Synthesis coll.第V卷，第32页及第373页，coll.第III
卷，第191页及第513页，coll.第II卷，第202页、第204页及第363页中所述)二者适于制备在
本发明中用作起始材料的肟。一般自亚硝酸钠产生亚硝酸。亚硝酸烷基酯可为(例如)亚硝
酸甲酯、亚硝酸乙酯、亚硝酸丙酯、亚硝酸丁酯或亚硝酸异戊酯。
本发明另一实施例是具有游离式(IA)所示结构的光起始剂(C-1)：
其中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此独立地为氢、C1-C20烷基、COR16、
OR17、卤素、NO2或
或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此独立地为经取
代的C2-C10烯基；
或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此独立地共同为-(CH2)P-Y-
(CH2)q-；
或R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此独立地共同为
但条件为R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8中至少一对是
R9、R10、R11及R12彼此独立地为氢、C1-C20烷基，该C1-C20烷基未经取代或经一
或多个以下基团取代：卤素、苯基、CN、OH、SH、C1-C4-烷氧基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)；
或R9、R10、R11及R12彼此独立地为未经取代的苯基或经一或多个以下基团取代的苯
基：C1-C6烷基、卤素、CN、OR17、SR18或NR19R20；
或R9、R10、R11及R12彼此独立地为卤素、CN、OR17、SR18、SOR18、SO2R18或NR19R20，其中该取
代基OR17、SR18或NR19R20经由基团R17、R18、R19及/或R20与萘基环中一个碳原子形成5元或6元环；
或R9、R10、R11及R12彼此独立地为COR16或NO2；
Y是O、S、NR26或直接键；
p是整数0、1、2或3；
q是整数1、2或3；
X是CO或直接键；
R13是C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、R17、COOR17、OR17、
SR18、CONR19R20、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2或
或R13是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O、S、SO、SO2、NR26或CO，或是C2-C12烯基，其未
经间杂或间杂有一或多个O、CO或NR26，其中经间杂的C2-C20烷基及未经间杂或经间杂的C2-
C12烯基未经取代或经一或多个卤素取代；
或R13是C4-C8环烯基、C2-C12炔基或C3-C10环烷基，其未经间杂或间杂有一或多个O、
S、CO或NR26；
或R13是苯基或萘基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：OR17、SR18、
NR19R20、COR16、CN、NO2、卤素、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C20烷基，其间杂有
一或多个O、S、CO或NR26；或其各经C3-C10环烷基或间杂有一或多个O、S、CO或NR26的C3-C10环
烷基取代；
k是整数1至10；
R15是C6-C20芳基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：苯基、
卤素、C1-C4卤代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20、PO(OCkH2k+1)2、SO-C1-C10烷基、SO2-C1-C10烷
基、间杂有一或多个O、S或NR26的C2-C20烷基；或其各经C1-C20烷基取代，该C1-C20烷基未经取
代或经一或多个以下基团取代：卤素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8环烷基、C3-C20杂芳基、
C6-C20芳氧基羰基、C3-C20杂芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；
或R15是氢、C2-C12烯基、C3-C8环烷基，其未经间杂或间杂有一或多个O、CO或NR26；
或R15是C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、OR17、SR18、C3-C8
环烷基、C3-C20杂芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20杂芳氧基羰基、NR19R20、COOR17、CONR19R20、PO
(OCkH2k+1)2、苯基；或该C1-C20烷基经苯基取代，该苯基经卤素、
C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、OR17、SR18或NR19R20取代；或R15是C2-C20烷基，其间杂有一或多个
O、SO或SO2，且该经间杂的C2-C20烷基未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、OR17、
COOR17、CONR19R20、苯基或经OR17、SR18或NR19R20取代的苯基；
或R15是C2-C20烷酰基或苯甲酰基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-C6
烷基、卤素、苯基、OR17、SR18或NR19R20；
或R15未经取代或经一或多个OR17取代的萘甲酰基或是C3-C14杂芳基羰基；
或R15是C2-C12烷氧基羰基，其未经间杂或间杂有一或多个O且该经间杂或未经间杂
的C2-C12烷氧基羰基未经取代或经一或多个羟基取代；
或R15是苯氧基羰基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-C6烷基、卤素、C1-
C4卤代烷基、苯基、OR17、SR18或NR19R20；或R15是CN、CONR19R20、NO2、C1-C4卤代烷基、S(O)m-C1-C6
烷基、未经取代或经C1-C12烷基或SO2-C1-C6烷基取代的S(O)m-苯基；
或R15是SO2O-苯基，其未经取代或经C1-C12烷基取代；或是二苯基膦酰基或二(C1-C4
烷氧基)-膦酰基；
m是1或2；
R′15是R15所给出含义中的一个；
X1是O、S、SO或SO2；
X2是O、CO、S或直接键；
R16是C6-C20芳基或C3-C20杂芳基，其每一个未经取代或经一或多个以下基团取代：
苯基、卤素、C1-C4卤代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20或间杂有一或多个O、S或NR26的C1-C20
烷基；或其每一个经一或多个C1-C20烷基取代，该C1-C20烷基未经取代或经一或多个以下基
团取代：卤素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8环烷基、C3-C20杂芳基、C6-C20芳氧基羰基、C3-C20
杂芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；或R16是氢、未经取代或经一或多个以下基团取代的C1-
C20烷基：卤素、苯基、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-
(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)；或R16是间杂有一或多个O、S或NR26的
C2-C12烷基；或R16是(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C12烯基或C3-C8环烷基；
或R16是经SR18取代的苯基，其中基团R18表示键结至其中连接有COR16基团的咔唑部
分的苯基或萘基环的直接键；
n是1至20；
R17是氢、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤
素、OH、SH、CN、C3-C6烯氧基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O
(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-苯基、(CO)OH、(CO)O(C1-C4烷基)、SO2-(C1-C4卤代烷基)、O(C1-C4
卤代烷基)、C3-C20环烷基或间杂有一或多个O的C3-C20环烷基；或R17是C2-C20烷基，其间杂有
一或多个O、S或NR26；或R17是(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷酰基、C2-
C12烯基、C3-C6烯酰基或C3-C20环烷基，其未经间杂或间杂有一或多个O、S、CO或NR26；
或R17是C1-C8烷基-C3-C10环烷基，其未经间杂或间杂有一或多个O；
或R17是苯甲酰基，其未经取代或经一或多个C1-C6烷基、卤素、OH或C1-C3烷氧基取代；
或R17是苯基、萘基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：卤
素、OH、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基
硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基-胺基或
或R17形成键结至其上具有基团的苯基或萘基环的一个
碳原子的直接键；
R18是氢、C2-C12烯基、C3-C20环烷基或苯基-C1-C3烷基，其中C2-C12烯基、C3-C20环烷
基或苯基-C1-C3烷基未经间杂或间杂有一或多个O、S、CO、NR26或COOR17；
或R18是C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：OH、SH、CN、C3-C6烯氧
基、OCH2CH2CN、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-
苯基或(CO)OR17；
或R18是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O、S、CO、NR26或COOR17；或R18是(CH2CH2O)nH、
(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-C8烷酰基或C3-C6烯酰基；或R18是苯甲酰基，其未经取代或
经一或多个以下基团取代：C1-C6烷基、卤素、OH、C1-C4烷氧基或C1-C4烷基硫基；
或R18是苯基、萘基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：卤
素、C1-C12烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C12烷氧基、CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基
硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基胺基、(CO)O(C1-C8烷基)、(CO)-C1-C8烷基、(CO)N
(C1-C8烷基)2或
R19及R20彼此独立地为氢、C1-C20烷基、C2-C4羟基烷基、C2-C10烷氧基烷基、C2-C5烯
基、C3-C20环烷基、苯基-C1-C3烷基、SO2-(C1-C4卤代烷基)、C1-C8烷酰基、C1-C8烷酰基氧基、
C3-C12烯酰基或苯甲酰基；或R19及R20是苯基、萘基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多
个以下基团取代：卤素、C1-C4卤代烷基、C1-C20烷氧基、C1-C12烷基、苯甲酰基或C1-C12烷氧基；
或R19及R20与其所连接的N原子一起形成未经间杂或间杂有O、S或NR17的5元或6元
饱和或不饱和环，且该5元或6元饱和或不饱和环未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-
C20烷基、C1-C20烷氧基、＝O、OR17、SR18、NR21R22、(CO)R23、NO2、卤素、C1-C4-卤代烷基、CN、苯基、
或C3-C20环烷基，该C3-C20环烷基未经间杂或间杂有一或多个O、S、CO或NR17；或
R19及R20与其所连接的N原子一起形成杂芳香族环系统，该环系统未经取代或经一或多个以
下基团取代：C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C20烷氧基、＝O、OR17、SR18、NR21R22、(CO)R23、
卤素、NO2、CN、苯基或C3-C20环烷基，该C3-C20环烷基未经间杂或间杂有一或多
个O、S、CO或NR17；
R21及R22彼此独立地为氢、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C10环烷基或苯基；
或R21及R22与其所连接的N原子一起形成未经间杂或间杂有O、S或NR26的5元或6元
饱和或不饱和环，且该5元或6元饱和或不饱和环未稠合或该5元或6元饱和或不饱和环是与
苯环稠合；
R23是氢、OH、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、间杂有一或多个O、CO或NR26的C2-C20烷基、
未经间杂或间杂有O、S、CO或NR26的C3-C20环烷基，或R23是苯基、萘基、苯基-C1-C4烷基、OR17、
SR18或NR21R22；R24是(CO)OR17、CONR19R20、(CO)R17；或R24是R19及R20所给出含义中的一个；
R25是COOR17、CONR19R20、(CO)R17；或R25是R17所给出含义中的一个；R26是氢、C1-C20烷
基、C1-C4卤代烷基、C2-C20烷基，其间杂有一或多个O或CO；或是苯基-C1-C4烷基、C3-C8环烷
基，其未经间杂或间杂有一或多个O或CO；或是(CO)R19；或是苯基，其未经取代或经一或多个
以下基团取代：C1-C20烷基、卤素、C1-C4卤代烷基、OR17、SR18、NR19R20或
但条件为在该分子中存在至少一个基团
针对式(IA)所示结构的光起始剂(C-1)所定义基团的较佳者对应于如针对如下文
所给出式(C-I)所示结构的光起始剂(C-1)给出者，只是每一所定义肟酯基团(例如
)皆替换为相应游离肟基团
每一肟酯基团可以两种构型(Z)或(E)存在。可通过习用方法来分离异构体，但亦
可使用异构体混合物作为(例如)光起始物质。因此，本发明亦是关于式(C-I)所示结构的光
起始剂(C-1)的构型异构体的混合物。
较佳者是如上文所定义的式(C-I)所示结构的光起始剂(C-1)，其中，R1、R2、R3、R4、
R5、R6、R7及R8彼此独立地为氢、C1-C20烷基、COR16或NO2，或R1及R2、R2及R3、R3及
R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8彼此独立地共同为
但条件为R1及R2、R2及R3、R3及R4、R5及R6、R6及R7或R7及R8中至少一对是
X是CO或直接键；
R13是C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、OR17、SR18、COOR17、
CONR19R20或PO(OCkH2k+1)2；
或R13是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O、S、NR26或CO；
或R13是苯基或萘基，此二者未经取代或经一或多个或COR16取代；
R14是C1-C20烷基、苯基或C1-C8烷氧基；
R15是苯基、萘基、C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：苯基、
卤素、C1-C4卤代烷基、OR17、SR18或C2-C20烷基，其间杂有一或多个O或S；或其各经一或多个
C1-C20烷基取代，该C1-C20烷基未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、COOR17、
CONR19R2o、苯基、C3-C8环烷基、C3-C20杂芳基、C6-C20芳氧基羰基、C4-C20杂芳氧基羰基、OR17、
SR18、NR19R20或PO(OCkH2k+1)2；
或R15是C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：OR17、SR18、C3-C8环烷
基、C3-C20杂芳基、NR19R20、COOR17、CONR19R20或PO(OCkH2k+1)2；
R′14是R14所给出含义中的一个；
R′15是R15所给出含义中的一个；
R16是苯基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：OR17、SR18、NR19R20或间杂有一
或多个O、S或NR26的C2-C20烷基，或R16是苯基，其经一或多个C1-C20烷基取代，该C1-C20烷基未
经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8环烷基、C3-C20杂芳
基、C6-C20芳氧基羰基、C4-C20杂芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；
或R16是C1-C20烷基，其未经取代或经以下基团取代：卤素、苯基、OH、SH、CN、C3-C6烯
氧基、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)或(CO)O(C1-C4烷基)；
R17是C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、OCH2CH2(CO)O(C1-C4
烷基)、O(C1-C4烷基)、(CO)O(C1-C4烷基)、C3-C20环烷基或间杂有一或多个O的C3-C20环烷基；或
R17是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O；
R18是经(CO)OR17取代的甲基；
R19及R20彼此独立地为氢、苯基、C1-C20烷基、C1-C8烷酰基或C1-C8烷酰基氧基；
或R19及R20与其所连接的N原子一起形成杂芳香族环系统，该环系统未经取代或经
取代；
但条件为在该分子中存在至少一个基团
必须重视如上文所定义的式(C-I)所示结构的光起始剂(C-1)，其中R1、R2、R5、R6、R7
及R8彼此独立地为氢、COR16或NO2，R3及R4一起为
R9、R10、R11及R12是氢；
X是直接键；
R13是C1-C20烷基；
R14是C1-C20烷基；
R15是C1-C20烷基或苯基，其经一或多个OR17或C1-C20烷基取代；
R16是苯基，其经一或多个C1-C20烷基或OR17取代；且
R17未经取代或经一或多个卤素取代的C1-C20烷基或是间杂有一或多个O的C2-C20烷基；
但条件为在该分子中存在至少一个基团
本发明的标的进一步是如上文所定义的式(C-I)所示结构的光起始剂(C-1)，其
中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此独立地为氢，或R1及R2、R3及R4或R5及R6彼此独立地共同为
但条件为R1及R2、R3及R4或R5及R6中至少一对为
或R2是COR16、NO2或
或R7是或COR16；
R9、R11及R12是氢；
R10是氢、OR17或COR16；
X是CO或直接键；
R13是C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、R17、OR17、SR18或PO
(OCkH2k+1)2；
或R13是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O；
或R13是苯基；
k是整数2；
R14是C1-C20烷基或噻吩基；
R15是苯基或萘基，其各未经取代或经一或多个OR17或C1-C20烷基取代；或R15是噻吩
基、氢、C1-C20烷基，该C1-C20烷基未经取代或经一或多个以下基团取代：OR17、SR18、C3-C8环烷
基、NR19R20或COOR17；
或R15是C2-C20烷基，其间杂有SO2；
R16是苯基或萘基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：OR17、SR18、NR19R20或
C1-C20烷基；
或R16是噻吩基；
R17是氢、C1-C8烷酰基、C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团：卤素、O
(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基或间杂有一或多个O的C3-C20环烷基；
或R17是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O；
R18是C3-C20环烷基、C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个OH、O(CO)-(C2-C4)烯基
或(CO)OR17取代；
或R18是苯基，其未经取代或经一或多个卤素取代；
R19及R20彼此独立地为C1-C8烷酰基或C1-C8烷酰基氧基；
或R19及R20与其所连接的N原子一起形成间杂有O的5元或6元饱和环；
但条件为在该分子中存在至少一个基团
本发明化合物的实施例是如上文所定义的式(Ia)-(Ig)化合物。式(Ia)、(Ib)、
(Ic)、尤其式(Ia)或(Ic)或式(Ia)、(Ic)或(Id)、尤其式(Ia)的化合物令人关注。
举例而言，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7及R8彼此独立地为氢、或COR16，或R1
及R2、R2及R3、R3及R4或R5及R6、R6及R7、R7及R8彼此独立地共同为
举例而言，R3及R4或R1及R2共同为或R3及R4及R5及R6共同为
R3及R4尤其共同为
举例而言，R1、R5、R6及R8是氢。
R7尤其为氢、或COR16。或R7是或COR16、尤其为
R2尤其为COR16或或R2与R1一起为
R2尤其为COR16。
X较佳为直接键。
举例而言，R9、R10、R11及R12彼此独立地为氢、C1-C20烷基、未经取代的苯基或经一或
多个以下基团取代的苯基：C1-C6烷基、卤素、OR17或SR18；或R9、R10、R11及R12彼此独立地为卤
素、OR17、SR18或NR19R20，其中取代基OR17、SR18或NR19R20经由基团R17、R18、R19及/或R20与萘基环
的一个碳原子形成5元或6元环；或R9、R10、R11及R12彼此独立地为或COR16。
具体而言，举例而言，R9、R10、R11及R12彼此独立地为氢、C1-C20烷基、未经取代的苯
基或经一或多个以下基团取代的苯基：C1-C6烷基、卤素、OR17或SR18；或R9、R10、R11及R12彼此
独立地为卤素、OR17、SR18或NR19R20；或R9、R10、R11及R12彼此独立地为或COR16。
举例而言，R9、R10、R11及R12彼此独立地为氢、C1-C20烷基、未经取代的苯基或经一或
多个C1-C6烷基取代的苯基；或R9、R10、R11及R12彼此独立地为或COR16。
在另一实施例中，举例而言，R9、R10、R11及R12彼此独立地为氢、C1-C20烷基、未经取
代的苯基或经一或多个以下基团取代的苯基：C1-C6烷基、卤素、OR17或SR18；或R9、R10、R11及
R12彼此独立地为卤素、OR17、SR18或NR19R20，其中取代基OR17、SR18或NR19R20经由基团R17、R18、
R19及/或R20与萘基环的一个碳原子形成5元或6元环。
此外，举例而言，R9、R10、R11及R12彼此独立地为氢、C1-C20烷基、未经取代的苯基或
经一或多个以下基团取代的苯基：C1-C6烷基、卤素、OR17或SR18，或R9、R10、R11及R12彼此独立
地为卤素、OR17、SR18、NR19R20或COR16。
或举例而言，R9、R10、R11及R12彼此独立地为氢、C1-C20烷基、未经取代的苯基或经一
或多个以下基团取代的苯基：C1-C6烷基、卤素、OR17或SR18，或R9、R10、R11及R12彼此独立地为
卤素、OR17、COR16或NR19R20。
较佳地，R9、R11及R12是氢且R10是氢、OR17或COR16。
R13是(例如)C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、COOR17或
CONR19R20；或R13是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O、S、SO、SO2、NR26或CO，或是C2-C12烯基，其
视情况间杂有一或多个O、CO或NR26，或R13是C3-C10环烷基，其视情况间杂有一或多个O、S、
CO、NR26，或R13是苯基或萘基，此二者未经取代或经一或多个以下基团取代：OR17、SR18、
NR19R20、COR16、NO2、卤素、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C20烷基，其间杂
有一或多个O；或是C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、R17、COOR17、
OR17、SR18、CONR19R20或PO(OCkH2k+1)2；或是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O。
此外，R13是(例如)C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、R17、
COOR17、OR17、SR18、CONR19R20或PO(OCkH2k+1)2；或是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O；或是C2-
C12烯基、C3-C10环烷基；或R13是苯基或萘基，此二者未经取代或经一或多个以下基团取代：
OR17、SR18、NR19R20、COR16、NO2、卤素、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C20烷
基，其间杂有一或多个O。
在另一实施例中，R13是(例如)C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取
代：卤素、R17、OR17、SR18或PO(OCkH2k+1)2；或是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O；或是C2-C12烯
基、C3-C10环烷基、苯基或萘基。
或R13是(例如)C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、R17、OR17、
SR18或PO(OCkH2k+1)2；或是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O；或是苯基、C2-C12烯基或C3-C10环烷基。
或R13是(例如)C1-C20烷基、苯基、C2-C12烯基或C3-C10环烷基。
或R13是(例如)C1-C20烷基、C2-C12烯基或C3-C10环烷基。
较佳地，R13是C1-C20烷基，尤其为C1-C8烷基，例如2-乙基己基。
R14是(例如)氢、C3-C8环烷基、C2-C5烯基、C1-C20烷氧基或C1-C20烷基，其未经取代或
经一或多个卤素或苯基取代；或R14是苯基或萘基，此二者未经取代或经一或多个以下基团
取代：C1-C6烷基、C1-C4卤代烷基、卤素、OR17、SR18及/或NR19R20；或R14是C3-C5杂芳基，例如噻
吩基，或是C1-C8烷氧基、苄氧基或苯氧基。
或R14是(例如)C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个卤素或苯基取代；或R14是C3-
C5杂芳基(例如噻吩基)或未经取代或经取代一或多个以下基团取代的苯基：C1-C6烷基、C1-
C4卤代烷基、卤素、OR17、SR18及/或NR19R20；或R14是C1-C8烷氧基、苄氧基或苯氧基。
在另一实施例中，R14表示C1-C20烷基，其未经取代或经苯基取代；或R14是苯基，其
未经取代或经一或多个C1-C6烷基取代。
较佳地，R14是C1-C20烷基、C3-C5杂芳基(例如噻吩基)，或是苯基，尤其为C1-C20烷基
或噻吩基，尤其为C1-C8烷基。
R15是(例如)C6-C20芳基或C5-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取
代：苯基、卤素、C1-C4卤代烷基、CN、NO2、OR17、SR18、NR19R20、C1-C20烷基；或R15是氢、C3-C8环烷
基，该C3-C8环烷基视情况间杂有一或多个O、CO或NR26；或R15是C1-C20烷基，其未经取代或经
一或多个以下基团取代：卤素、OR17、C3-C8环烷基、C5-C20杂芳基、C8-C20苯氧基羰基、C5-C20杂
芳氧基-羰基、NR19R20、COOR17、CONR19R20、PO(OCkH2k+1)2、苯基或经以下基团取代
的苯基：卤素、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、OR17或NR19R20；或R15是C2-C20烷基，其间杂有一或
多个O、S或SO2，或R15是C2-C20烷酰基、苯甲酰基、C2-C12烷氧基羰基、苯氧基羰基、CONR19R20、
NO2或C1-C4卤代烷基。
此外，R15是(例如)氢、C6-C20芳基，尤其为苯基或萘基，其各未经取代或经C1-C12烷
基取代；或是C3-C5杂芳基，例如噻吩基；或是C3-C8环烷基、C1-C20烷基，其未经取代或经一或
多个以下基团取代：OR17、SR17、C3-C8-环烷基、NR19R20或COOR17；或R15是C2-C20烷基，其间杂有
一或多个O或SO2。
该具有式(C-I)所示结构的光起始剂(C-1)令人关注，其中R15是(例如)氢、苯基、萘
基，其各未经取代或经C1-C8烷基取代；或R15是噻吩基、C1-C20烷基，其未经取代或经一或多
个以下基团取代：OR17、SR17、C3-C8-环烷基、NR19R20或COOR17；或R15是C2-C20烷基，其间杂有一
或多个O或SO2。
R15尤其为(例如)C3-C8环烷基或C1-C20烷基，尤其为C1-C20烷基，尤其为C1-C12烷基。
R′14及R′15的较佳者分别是如上文针对R14及R15所给出者。
X1是(例如)O、S或SO，例如O或S，尤其为O。
R16是(例如)C6-C20芳基(尤其苯基或萘基、尤其苯基)或C5-C20杂芳基(尤其噻吩
基)，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：苯基、卤素、C1-G4卤代烷基、CN、NO2、OR17、
SR18、NR19R20或间杂有一或多个O的C1-C20烷基；或其各经一或多个C1-C20烷基取代，该C1-C20
烷基未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、COOR17、CONR19R20、苯基、C3-C8环烷基、C5-
C20杂芳基、C6-C20芳氧基羰基、C5-C20杂芳氧基羰基、OR17、SR18或NR19R20；或R16是氢、C1-C20烷
基，该C1-C20烷基未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、苯基、OH、SH、C3-C6烯氧基、
OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)；或
R16是C2-C12烷基，其间杂有一或多个O；或是(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-
C12烯基或C3-C8环烷基，且n是1至20，例如1至12或1至8，尤其为1或2。
此外，R16是(例如)苯基或萘基，尤其为苯基、噻吩基或咔唑，其各未经取代或经一
或多个以下基团取代：苯基、卤素、C1-C4卤代烷基、OR17、SR18、NR19R20或C1-C20烷基；或R16是
C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、苯基、OH、SH、C3-C6烯氧基、
OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-苯基、(CO)OH或(CO)O(C1-C4烷基)；或
R16是C2-C12烷基，其间杂有一或多个O；或是(CH2CH2O)n+1H、(CH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C2-
C12烯基或C3-C8环烷基，且n是1至20，例如1至12或1至8，尤其为1或2。
此外，R16是(例如)苯基或萘基，尤其为苯基，其各未经取代或经一或多个以下基团取
代：苯基、卤素、C1-C4卤代烷基、OR17、SR18、NR19R20或C1-C20烷基；或R16是C3-C5杂芳基，尤其为噻吩基。
R16尤其为(例如)苯基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：OR17、SR18、NR19R20
或C1-C20烷基，或R16是噻吩基。
较佳地，R16是(例如)苯基或萘基，其各未经取代或经一或多个C1-C20烷基取代。
R16尤其为苯基，其经一或多个C1-C20烷基取代。
R17是(例如)氢、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团
取代：卤素、OH、OCH2CH2(CO)O(C1-C4烷基)、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-
苯基、(CO)OH、(CO)O(C1-C4烷基)、C3-C20环烷基或间杂有一或多个O的C3-C20环烷基；或R17是
C2-C20烷基，其间杂有一或多个O；是(CH2CH2O)n+1H、(GH2CH2O)n(CO)-(C1-C8烷基)、C1-C8烷酰
基、C2-C12烯基、C3-C6烯酰基或C3-C20环烷基，其视情况间杂有一或多个O；或R17是苯甲酰基，
其未经取代或经一或多个C1-C6烷基、卤素、OH或C1-C3烷氧基取代；或R17是苯基、萘基或C5-
C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基团取代：卤素、OH、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、
CN、NO2、苯基-C1-C3烷氧基、苯氧基、C1-C12烷基硫基、苯基硫基、N(C1-C12烷基)2、二苯基-胺
基或
在另一实施例中，R17是(例如)氢、苯基-C1-C3烷基、C1-C20烷基，其未经取代或经一
或多个以下基团取代：卤素、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4烯基)或间杂有一或多个O的
C2-C20烷基；或是C1-C8烷酰基、C2-C12烯基、C3-C6烯酰基、间杂有一或多个O的C2-C20烷基、视
情况间杂有一或多个O的C3-C20环烷基；或是苯甲酰基，其未经取代或经一或多个以下基团
取代：C1-C6烷基、卤素、OH或C1-C3烷氧基；或是苯基或萘基，其各未经取代或经一或多个以
下基团取代：卤素、C1-C12烷基或C1-C12烷氧基。
R17亦为(例如)氢、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷酰基、C1-C20烷基，其未经取代或经一或
多个以下基团取代：卤素、C3-C20环烷基、O(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4烯基)或间杂有
一或多个O的C2-C20烷基，或R17是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O。
R17尤其为氢、C1-C8烷酰基、C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个以下基团取代：O
(CO)-(C1-C4烷基)、O(CO)-(C2-C4烯基)或间杂有一或多个O的C2-C20烷基，或R17是C2-C20烷
基，其间杂有一或多个O。
R18是(例如)C3-C20环烷基，其未经间杂或间杂有一或多个O；或R18是C1-C20烷基，其
未经取代或经一或多个以下基团取代：OH、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)或(CO)
OR17；或R18是C2-C20烷基，其间杂有一或多个O、S、CO、NR26或COOR17；或R18是C2-C8烷酰基或C3-
C6烯酰基、苯甲酰基；或R18是苯基、萘基或C3-C20杂芳基，其各未经取代或经一或多个以下基
团取代：卤素、C1-C12烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C12烷氧基或NO2。
在另一实施例中，R18是(例如)C3-C20环烷基、C1-C20烷基，其未经取代或经一或多个
以下基团取代：OH、O(CO)-(C2-C4)烯基、O(CO)-(C1-C4烷基)或(CO)OR17；或R18是苯基或萘基，
其各未经取代或经一或多个卤素或C1-C12烷基、尤其卤素取代。
R18是(例如)C1-C20烷基、C2-C12烯基、C3-C20环烷基、苯基-C1-C3烷基、C2-C8烷酰基、
苯甲酰基、苯基或萘基。
举例而言，R18是C1-C20烷基，其经一或多个以下基团取代：OH、O(CO)-(C2-C4)烯基、
O(CO)-(C1-C4烷基)或(CO)OR17，或R18是苯基，其经一或多个卤素取代。
较佳地，R18是C1-C8烷基，其如上文所定义经取代。
举例而言，R19及R20彼此独立地为氢、C1-C20烷基、C2-C4羟基烷基、C3-C20环烷基、苯
基-C1-C3烷基、苯基或萘基、C1-C8烷酰基、C1-C8烷酰基氧基、C3-C12烯酰基或苯甲酰基；或R19
及R20与其所连接的N原子一起形成视情况间杂有O、S或NR17的5元或6元饱和或不饱和环；或
R19及R20与其所连接的N原子一起形成杂芳香族环系统，该环系统未经取代或经一或多个以
下基团取代：C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基或
此外，举例而言，R19及R20彼此独立地为氢、C1-C20烷基、C2-C4羟基烷基、C3-C20环烷
基、苯基-C1-C3烷基、C1-C8烷酰基、C1-C8烷酰基氧基、C3-C12烯酰基或苯甲酰基；或R19及R20与
其所连接的N原子一起形成视情况间杂有O或NR17的5元或6元饱和环；或R19及R20与其所连接
的N原子一起形成咔唑环。
举例而言，R19及R20彼此独立地为氢、C1-C20烷基、C2-C4羟基烷基、C3-C20环烷基、苯
基-C1-C3烷基、C1-C8烷酰基、C1-C8烷酰基氧基、C3-C12烯酰基或苯甲酰基；或R19及R20与其所
连接的N原子一起形成视情况间杂有O或NR17的5元或6元饱和环。
较佳地，R19及R20彼此独立地为C1-C8烷酰基、C1-C8烷酰基氧基；或R19及R20与其所连
接的N原子一起形成吗啉环。
举例而言，R21及R22彼此独立地为氢、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C10环烷基或苯
基；或R21及R22与其所连接的N原子一起形成吗啉环。R21及R22尤其彼此独立地为氢或C1-C20烷基。
R23是(例如)氢、OH、苯基或C1-C20烷基。R23尤其为氢、OH或C1-C4烷基。
R24的较佳者是如针对R19及R20所给出。R25的较佳者是如针对R17所给出。
R26是(例如)氢、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C20烷基，其间杂有一或多个O或CO；
或是苯基-C1-C4烷基、C3-C8环烷基，其视情况间杂有一或多个O或CO；或是(CO)R19或苯基，其
未经取代或经一或多个以下基团取代：C1-C20烷基、卤素、C1-C4卤代烷基、OR17、SR18、NR19R20。
或R26表示(例如)氢、C1-C20烷基、C1-C4卤代烷基；是苯基-C1-C4烷基、C3-C8环烷基、
(CO)R19或苯基，其未经取代或经一或多个C1-C20烷基取代。此外，R26是(例如)氢或C1-C20烷
基、尤其为C1-C4烷基。
本发明该具有式(C-I)所示结构的光起始剂(C-1)的实施例如下式(I-1)至式(I-
86)所示。
该具有式(C-I)所示结构的光起始剂(C-1)用于使包含至少一种烯是不饱和光可
聚合化合物的组合物光聚合的用途。
基于该碱可溶性树脂(A)的使用量为100重量份，该第一光起始剂(C-1)的使用量
为0.3重量份至30重量份，较佳为0.4重量份至20重量份，更佳为0.5重量份至10重量份。
当该具有式(C-I)所示结构的光起始剂(C-1)的使用量介于上述范围时，则由此黑
色感光性树脂组成物所制得的黑色图案其介电常数和高精细度图案的直线性较佳。
若本发明的黑色感光性树脂组成物不包含该第一光起始剂(C-1)，则由此黑色感
光性树脂组成物所制得的黑色图案具有介电常数和高精细度图案的直线性不佳的缺陷。
本发明的黑色感光性树脂组成物可选择性添加第二光起始剂(C-2)。本发明的第
二光起始剂(C-2)具有如下式(C-II)所示的结构：
于式(C-II)中，E27是独立地选自于氢原子、碳数为1至12的烷基、碳数为1至12的烷
氧基或卤素原子。
较佳地，第二光起始剂(C-2)可为1-氯-4-丙氧基噻吨酮(1-chloro-4-
proxythioxanthone，CPTX)或异丙基噻吨酮(Isopropylthioxanthone，ITX)。
异丙基噻吨酮为相对较便宜的光起始剂。而其他适用于本发明的黑色感光性树脂
组成物的第二光起始剂(C-2)可包含但不限于噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮(或称2，4-二乙
基-9H-噻唑-9-酮)、2-第三丁基噻吨酮、2-氯噻吨酮或2-丙氧基噻吨酮等。
基于碱可溶性树脂(A)的使用量为100重量份，该第二光起始剂(C-2)的使用量为
0.2重量份至2重量份，较佳为0.25重量份至1.5重量份，且更佳为0.3重量份至1重量份。
当本发明的黑色感光性树脂组成物含有该第二光起始剂(C-2)时，则由此黑色感
光性树脂组成物所制得的黑色图案其高精细度图案的直线性更佳。
本发明的黑色感光性树脂组成物另可选择性添加其他光起始剂(C-3)。
该其他光起始剂(C-3)的具体例可包含第一光起始剂(C-1)以外的O-酰基肟化合
物、三氮杂苯化合物、苯乙烷酮化合物、二咪唑化合物、二苯甲酮化合物、α-二酮化合物、酮
醇化合物、酮醇醚化合物、酰膦氧化物、醌类化合物、含卤素化合物、过氧化物或上述化合物
的任意组合。
上述第一光起始剂(C-1)以外的O-酰基肟化合物的具体例可包含1-[4-(苯基硫
代)苯基]-庚烷-1，2-二酮2-(O-苯酰基肟)、1-[4-(苯基硫代)苯基]-辛烷-1，2-二酮-2-(O-
苯酰基肟)、1-[4-(苯酰基)苯基]-庚烷-1，2-二酮-2-(O-苯酰基肟)、1-[9-乙基-6-(2-甲基
苯甲酰基)-9H-咔唑-3-取代基]-乙烷酮-1-(O-乙酰基肟)、1-[9-乙基-6-(3-甲基苯酰基)-
9H-咔唑-3-取代基]-乙烷酮-1-(O-乙酰基肟)、1-(9-乙基-6-苯酰基-9H-咔唑-3-取代基)-
乙烷酮-1-(O-乙酰基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氢呋喃基苯酰基)-9H-咔唑-
3-取代基]-1-(O-乙酰基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氢吡喃基苯酰基)-9H-咔
唑-3-取代基]-1-(O-乙酰基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氢呋喃基苯酰基)-
9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙酰基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氢吡喃基苯酰
基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙酰基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氢呋喃基
甲氧基苯酰基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙酰基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-
四氢吡喃基甲氧基苯酰基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙酰基肟)、乙烷酮-1-[9-乙基-6-
(2-甲基-5-四氢呋喃基甲氧基苯酰基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙酰基肟)、乙烷酮-1-
[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氢吡喃基甲氧基苯酰基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙酰基肟)、
乙烷酮-1-{9-乙基-6-[2-甲基-4-(2，2-二甲基-1，3-二氧杂戊环基)苯酰基]-9H-咔唑-3-
取代基}-1-(O-乙酰基肟)、乙烷酮-1-{9-乙基-6-[2-甲基-4-(2，2-二甲基-1，3-二氧杂戊
环基)甲氧基苯酰基]-9H-咔唑-3-取代基}-1-(O-乙酰基肟)等化合物，或者上述化合物的
任意组合。
较佳地，该第一光起始剂(C-1)以外的O-酰基肟化合物可为1-[4-(苯基硫代)苯
基]-辛烷-1，2-二酮-2-(O-苯酰基肟)，其可为汽巴精化有限公司制造的商品，且型号为
OXE-01；1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-取代基]-乙烷酮-1-(O-乙酰基肟)，
其可为汽巴精化有限公司制造的商品，且型号为OXE-02；乙烷酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-
四氢呋喃甲氧基苯酰基)-9H-咔唑-3-取代基]-1-(O-乙酰基肟)；乙烷酮-1-{9-乙基-6-[2-
甲基-4-(2，2-二甲基-1，3-二氧杂戊环基)甲氧基苯酰基]-9H-咔唑-3-取代基}-1-(O-乙酰
基肟)或上述化合物的任意组合。该O-酰基肟化合物可单独一种或混合多种使用。
上述三氮杂苯化合物的具体例可包含但不限于乙烯基-卤代甲基-s-三氮杂苯化
合物、2-(萘并-1-取代基)-4，6-双-卤代甲基-s-三氮杂苯化合物、4-(对-胺基苯基)-2，6-
二-卤代甲基-s-三氮杂苯化合物等化合物，或者上述化合物的任意组合。
前述乙烯基-卤代甲基-s-三氮杂苯化合物的具体例可包含2，4-双(三氯甲基)-6-
对-甲氧基苯乙烯基-s-三氮杂苯、2，4-双(三氯甲基)-3-(1-对-二甲基胺基苯基-1，3-丁二
烯基)-s-三氮杂苯或2-三氯甲基-3-胺基-6-对-甲氧基苯乙烯基-s-三氮杂苯等化合物，或
者上述化合物的任意组合。
前述2-(萘并-1-取代基)-4，6-双-卤代甲基-s-三氮杂苯化合物的具体例可包含
2-(萘并-1-取代基)-4，6-双-三氯甲基-s-三氮杂苯、2-(4-甲氧基-萘并-1-取代基)-4，6-
双-三氯甲基-s-三氮杂苯、2-(4-乙氧基-萘并-1-取代基)-4，6-双-三氯甲基-s-三氮杂苯、
2-(4-丁氧基-萘并-1-取代基)-4，6-双-三氯甲基-s-三氮杂苯、2-[4-(2-甲氧基乙基)-萘
并-1-取代基]-4，6-双-三氯甲基-s-三氮杂苯、2-[4-(2-乙氧基乙基)-萘并-1-取代基]-4，
6-双-三氯甲基-s-三氮杂苯、2-[4-(2-丁氧基乙基)-萘并-1-取代基]-4，6-双-三氯甲基-
s-三氮杂苯、2-(2-甲氧基-萘并-1-取代基)-4，6-双-三氯甲基-s-三氮杂苯、2-(6-甲氧基-
5-甲基-萘并-2-取代基)-4，6-双-三氯甲基-s-三氮杂苯、2-(6-甲氧基-萘并-2-取代基)-
4，6-双-三氯甲基-s-三氮杂苯、2-(5-甲氧基-萘并-1-取代基)-4，6-双-三氯甲基-s-三氮
杂苯、2-(4，7-二甲氧基-萘并-1-取代基)-4，6-双-三氯甲基-s-三氮杂苯、2-(6-乙氧基-萘
并-2-取代基)-4，6-双-三氯甲基-s-三氮杂苯或2-(4，5-二甲氧基-萘并-1-取代基)-4，6-
双-三氯甲基-s-三氮杂苯等化合物，或者上述化合物的任意组合。
前述4-(对-胺基苯基)-2，6-二-卤代甲基-s-三氮杂苯化合物的具体例可包含4-
[对-N，N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-[邻-甲基-
对-N，N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-[对-N，N-二
(氯乙基)胺基苯基]-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-[邻-甲基-对-N，N-二(氯乙基)胺
基苯基]-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-(对-N-氯乙基胺基苯基)-2，6-二(三氯甲基)-
s-三氮杂苯、4-(对-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-[对-
N，N-二(苯基)胺基苯基]-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-(对-N-氯乙基羰基胺基苯
基)-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-[对-N-(对-甲氧基苯基)羰基胺基苯基]-2，6-二
(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-[间-N，N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2，6-二(三氯甲基)-
s-三氮杂苯、4-[间-溴-对-N，N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2，6-二(三氯甲基)-s-三
氮杂苯、4-[间-氯-对-N，N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂
苯、4-[间-氟-对-N，N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-
[邻-溴-对-N，N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-[邻-
氯-对-N，N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-[邻-氟-
对-N，N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯基]-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-[邻-溴-对-N，
N-二(氯乙基)胺基苯基]-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-[邻-氯-对-N，N-二(氯乙基)
胺基苯基]-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-[邻-氟-对-N，N-二(氯乙基)胺基苯基]-2，
6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-[间-溴-对-N，N-二(氯乙基)胺基苯基]-2，6-二(三氯甲
基)-s-三氮杂苯、4-[间-氯-对-N，N-二(氯乙基)胺基苯基]-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂
苯、4-[间-氟-对-N，N-二(氯乙基)胺基苯基]-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-(间-溴-
对-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-(间-氯-对-N-乙氧基
羰基甲基胺基苯基)-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-(间-氟-对-N-乙氧基羰基甲基胺
基苯基)-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-(邻-溴-对-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2，
6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-(邻-氯-对-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2，6-二(三氯甲
基)-s-三氮杂苯、4-(邻-氟-对-N-乙氧基羰基甲基胺基苯基)-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮
杂苯、4-(间-溴-对-N-氯乙基胺基苯基)-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-(间-氯-对-N-
氯乙基胺基苯基)-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-(间-氟-对-N-氯乙基胺基苯基)-2，
6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-(邻-溴-对-N-氯乙基胺基苯基)-2，6-二(三氯甲基)-s-三
氮杂苯、4-(邻-氯-对-N-氯乙基胺基苯基)-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、4-(邻-氟-对-
N-氯乙基胺基苯基)-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯或2，4-双(三氯甲基)-6-{3-溴-4-[N，
N-双(乙氧基羰基甲基)胺基]苯基}-1，3，5-三氮杂苯等化合物，或者上述化合物的任意组
合。
上述三氮杂苯化合物较佳可为4-[间-溴-对-N，N-二(乙氧基羰基甲基)胺基苯
基]-2，6-二(三氯甲基)-s-三氮杂苯、2，4-双(三氯甲基)-6-对-甲氧基苯乙烯基-s-三氮杂
苯或上述化合物的组合。该三氮杂苯化合物可单独一种或混合多种使用。
上述苯乙烷酮化合物的具体例可包含对二甲胺苯乙烷酮、α，α’-二甲氧基氧化偶
氮苯乙烷酮、2，2’-二甲基-2-苯基苯乙烷酮、对-甲氧基苯乙烷酮、2-苄基-2-N，N-二甲胺-
1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮或2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-(4-吗啉代)-1-丙酮等化合
物，或者上述化合物的任意组合。该苯乙烷酮化合物较佳可为2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯
基]-2-(4-吗啉代)-1-丙酮、2-苄基-2-N，N-二甲胺-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮。上述的苯
乙烷酮化合物可单独一种或混合多种使用。
上述二咪唑化合物的具体例可包含2，2’-双(邻-氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基二咪
唑、2，2’-双(邻-氟苯基)-4，4’，5，5’-四苯基二咪唑、2，2’-双(邻-甲基苯基)-4，4’，5，5’-
四苯基二咪唑、2，2’-双(邻-甲氧基苯基)-4，4’，5，5’-四苯基二咪唑、2，2’-双(邻-乙基苯
基)-4，4’，5，5’-四苯基二咪唑、2，2’-双(对-甲氧基苯基)-4，4’，5，5’-四苯基二咪唑、2，
2’-双(2，2’，4，4’-四甲氧基苯基)-4，4’，5，5’-四苯基二咪唑、2，2’-双(2-氯苯基)-4，4’，
5，5’-四苯基二咪唑或2，2’-双(2，4-二氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基二咪唑等化合物，或者
上述化合物的任意组合。上述二咪唑化合物可单独一种或混合多种使用。该二咪唑化合物
较佳可为2，2’-双(2，4-二氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基二咪唑。
上述二苯甲酮化合物的具体例可包含二苯甲酮、4，4’-双(二甲胺)二苯甲酮或4，
4’-双(二乙胺)二苯甲酮等化合物，或者上述化合物的任意组合。该二苯甲酮化合物可单独
一种或混合多种使用。该二苯甲酮化合物较佳可为4，4’-双(二乙胺)二苯甲酮。
上述α-二酮化合物的具体例可包含苯偶酰或乙酰基等。
上述酮醇化合物的具体例可包含二苯乙醇酮。
上述酮醇醚化合物的具体例可包含二苯乙醇酮甲醚、二苯乙醇酮乙醚或二苯乙醇
酮异丙醚等化合物，或者上述化合物的任意组合。
上述酰膦氧化物的具体例可包含2，4，6-三甲基苯酰二苯基膦氧化物或双-(2，6-
二甲氧基苯酰)-2，4，4-三甲基苯基膦氧化物等化合物，或者上述化合物的任意组合。
上述醌类化合物的具体例可包含蒽醌或1，4-萘醌等化合物，或者上述化合物的任
意组合。
上述含卤素类化合物的具体例可包含苯酰甲基氯、三溴甲基苯砜或三(三氯甲
基)-s-三氮杂苯等化合物，或者上述化合物的任意组合。
上述过氧化物的具体例可包含二-第三丁基过氧化物等化合物。
较佳地，其他光起始剂(C-3)可为1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-取
代基]-乙烷酮-1-(O-乙酰基肟)，其可为汽巴精化有限公司制造的商品，且型号为OXE-02；
1-[4-(苯基硫代)苯基]-辛烷-1，2-二酮-2-(O-苯酰基肟)，其可为汽巴精化有限公司制造
的商品，且型号为OXE-01；2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-吗啉代-1-丙酮，其可为汽巴精
化有限公司制造的商品，且型号为IRGACURE 907或上述化合物的任意组合。
基于碱可溶性树脂(A)的使用量为100重量份，该光起始剂(C)的使用量为0.4重量
份至40重量份，较佳为0.5重量份至30重量份，且更佳为0.6重量份至20重量份。
本发明的溶剂(D)可溶解前述的碱可溶性树脂(A)、具有乙烯性不饱和基的化合物
(B)及光起始剂(C)及视需要的环氧基的硅烷化合物(F)，但又不与后述的黑色颜料(E)产生
反应，且具有适当的挥发性。
该溶剂(D)的具体例可包含烷基二醇单烷醚化合物、烷基二醇单烷醚醋酸酯化合
物、二乙二醇烷基醚、其他醚类化合物、酮类化合物、乳酸烷酯化合物、其他酯类化合物、芳
香族烃类化合物、羧酸胺化合物或上述化合物的任意组合。上述的溶剂(D)可单独一种或混
合多种使用。
前述烷基二醇单烷醚化合物的具体例可包含乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、二乙
二醇单乙醚、二乙二醇单正丙醚、二乙二醇单正丁醚、三乙二醇单甲醚、三乙二醇单乙醚、丙
二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单正丙醚、二丙二
醇单正丁醚、三丙二醇单甲醚或三丙二醇单乙醚化合物，或者上述化合物的任意组合。
前述烷基二醇单烷醚醋酸酯化合物的具体例可包含乙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇乙
醚醋酸酯、丙二醇甲醚醋酸酯或丙二醇乙醚醋酸酯等化合物，或者上述化合物的任意组合。
前述二乙二醇烷基醚的具体例可包含二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲乙醚或二乙二
醇二乙醚等化合物，或者上述化合物的任意组合。
前述其他醚类化合物的具体例可包含四氢呋喃等化合物。
前述酮类化合物的具体例可包含甲乙酮、环己酮、2-庚酮、3-庚酮或二丙酮醇等化
合物，或者上述化合物的任意组合。
前述乳酸烷酯化合物的具体例可包含乳酸甲酯或乳酸乙酯等化合物，或者上述化
合物的任意组合。
前述其他酯类化合物的具体例可包含2-羟基-2-甲基丙酸甲酯、2-羟基-2-甲基丙
酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙
氧基醋酸乙酯、羟基醋酸乙酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、3-甲基-3-甲氧基丁基醋酸酯、3-
甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、醋酸乙酯、醋酸正丙酯、醋酸异丙酯、醋酸正丁酯、醋酸异丁酯、
醋酸正戊酯、醋酸异戊酯、丙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸异丙酯、丁酸正丁酯、丙
酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸正丙酯、乙酰醋酸甲酯、乙酰醋酸乙酯或2-氧基丁酸乙酯等
化合物，或者上述化合物的任意组合。
前述芳香族烃类化合物的具体例可包含甲苯或二甲苯等化合物，或者上述化合物
的任意组合。
前述羧酸胺化合物的具体例可为N-甲基吡咯烷酮、N，N-二甲基甲酰胺或N，N-二甲
基乙酰胺等化合物，或上述化合物的任意组合。
较佳地，该溶剂(D)可为丙二醇甲醚醋酸酯或3-乙氧基丙酸乙酯。
基于碱可溶性树脂(A)的使用量为100重量份，该溶剂(D)的使用量为300重量份至
3000重量份，较佳为400重量份至2000重量份，且更佳为500重量份至1500重量份。
根据本发明的黑色颜料(E)包含第一黑色颜料(E-1)，并可选择性地包含第二黑色
颜料组分(E-2)，以下分述。
该第一黑色颜料(E-1)为下述式(E-I)所表示的化合物、其几何异构物、其盐或其
几何异构物的盐。
于式(E-I)中，R1e及R6e相互独立为氢原子、CH3、CF3、氟原子或氯原子；R2e、R3e、R4e、
R5e、R7e、R8e、R9e及R10e是和其他全部相互独立为氢原子、卤素原子、R11e、COOH、COOR11e、COO-、
CONH2、CONHR11e、CONR11eR12e、CN、OH、OR11e、COCR11e、OOCNH2、OOCNHR11e、OOCNR11eR12e、NO2、NH2、
NHR11e、NR11eR12e、NHCOR12e、NR11eCOR12e、N＝CH2、N＝CHR11e、N＝CR11eR12e、SH、SR11e、SOR11e、
SO2R11e、SO3R11e、SO3H、5O3-、SO2NH2、SO2NHR11e或SO2NR11eR12e；且选自由R2e与R3e、R3e与R4e、R4e与
R5e、R7e与R8e、R8e与R9e、及R9e与R10e所组成的群组中的至少1个组合，是相互直接键结，或者通
过氧原子、硫原子、NH或NR11e桥接而相互键结；R11e及R12e相互独立为碳数1至12的烷基、碳数
3至12的环烷基、碳数2至12的烯基、碳数3至12的环烯基或碳数2至12的炔基。
上述式(E-I)所表示的化合物的几何异构物具有以下的核心构造(但，构造式中的
取代基省略)，且反-反异构物可能最为稳定。
于上述式(E-I)所表示的化合物为阴离子性的情况时，较佳为通过任意公知的适
当的阳离子，例如金属、有机、无机或金属有机阳离子，具体而言，碱金属、碱土类金属、过渡
金属、一级铵、二级铵、三烷基铵等三级铵、四烷基铵等四级铵或有机金属络合物补偿其电
荷而成的盐。又，于上述式(E-I)所表示的化合物的几何异构物为阴离子性的情况时，较佳
为相同的盐。
上述式(E-I)的取代基及该等定义中，就有遮蔽率变高的倾向的方面而言，较佳为
以下。其原因在于：可认为以下的取代基不具有吸收，而不会对颜料的色相产生影响。R2e、
R4e、R5e、R7e、R9e及R10e相互独立，较佳为氢原子、氟原子或氯原子，更佳为氢原子。R3e及R8e相
互独立，较佳为氢原子、NO2、OCH3、OC2H5、溴原子、氯原子、CH3、C2H5、N(CH3)2、N(CH3)(C2H5)、N
(C2H5)2、α-萘基、β-萘基、SO3H或SO3-，更佳为氢原子或SO3H。
R1e及R6e相互独立，较佳为氢原子、CH3或CF3，更佳为氢原子。较佳为选自由R1e与
R6e、R2e与R7e、R3e与R8e、R4e与R9e、及R5e与R10e所组成的群组中的至少1个组合相同，更佳为R1e
与R6e相同，R2e与R7e相同，R3e与R8e相同，R4e与R9e相同，且R5e与R10e相同。
该碳数1至12的烷基例如为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、第二丁基、异丁
基、第三丁基、2-甲基丁基、正戊基、2-戊基、3-戊基、2，2-二甲基丙基、正己基、庚基、正辛
基、1，1，3，3-四甲基丁基、2-乙基己基、壬基、癸基、十一烷基或十二烷基。
该碳数3至12的环烷基例如为环丙基、环丙基甲基、环丁基、环戊基、环己基、环己
基甲基、三甲基环己基、侧柏基、降基、基、降蒈基(norcaryl)、蒈基(caryl)、基、降
蒎基(norpinyl)、蒎基(pinyl)、1-金刚烷基或2-金刚烷基。
该碳数2至12的烯基例如为乙烯基、烯丙基、2-丙烯-2-基、2-丁烯-1-基、3-丁烯-
1-基、1，3-丁二烯-2-基、2-戊烯-1-基、3-戊烯-2-基、2-基-1-丁烯-3-基、2-甲基-3-丁
烯-2-基、3-甲基-2-丁烯-1-基、1，4-戊二烯-3-基、己烯基、辛烯基、壬烯基、癸烯基或十二
烯基。
该碳数3至12的环烯基例如为2-环丁烯-1-基、2-环戊烯-1-基、2-环己烯-1-基、3-
环己烯-1-基、2，4-环己二烯-1-基、1-对烯-8-基、4(10)-侧柏烯-10-基、2-降烯-1-
基、2，5-降二烯-1-基、7，7-二甲基-2，4-降蒈二烯-3-基或莰烯基(camphenyl)。
该碳数2至12的炔基例如为1-丙炔-3-基、1-丁炔-4-基、1-戊炔-5-基、2-甲基-3-
丁炔-2-基、1，4-戊二炔-3-基、1，3-戊二炔-5-基、1-己炔-6-基、顺-3-甲基-2-戊烯-4-炔-
1-基、反-3-甲基-2-戊烯-4-炔-1-基、1，3-己二炔-5-基、1-辛炔-8-基、1-壬炔-9-基、1-癸
炔-10-基或1-十二炔-12-基。
该卤素原子例如为氟原子、氯原子、溴原子或碘原子。
于本发明的一较佳具体例中，式(E-I)的R2e、R4e、R5e、R7e、R9e及R10e相互独立为氢原
子、氟原子或氯原子，R3e及R8e相互独立为氢原子、NO2、OCH3、OC2H5、溴原子、氯原子、CH3、C2H5、
N(CH3)2、N(CH3)(C2H5)、N(C2H5)2、α-萘基、β-萘基、SO3H或SO3-，R1e与R6e相同，R2e与R7e相同，R3e
与R8e相同，R4e与R9e相同，R5e与R10e相同。
该第一黑色颜料(E-1)较佳为下述式(E-I-1)所表示的化合物。
基于碱可溶性树脂(A)的使用量为100重量份，该第一黑色颜料(E-1)的使用量为
15重量份至150重量份，较佳为20重量份至130重量份，且更佳为25重量份至100重量份。
当该第一黑色颜料(E-1)的使用量介于上述范围时，则由此黑色感光性树脂组成
物所制得的黑色图案其介电常数更佳。
当本发明的黑色颜料(E)不包含该第一黑色颜料(E-1)时，则由此黑色感光性树脂
组成物所制得的黑色图案具有介电常数不佳的缺陷。
该第二黑色颜料(E-2)包含但不限于(1)黑色有机颜料：二萘嵌苯黑(perylene
black)、花青黑(cyanine black)、苯胺黑(aniline black)等；(2)由红、蓝、绿、紫、黄色、花
青(cyanine)、洋红(magenta)等颜料中，选择两种或两种以上的颜料进行混合，使其成近黑
色化的混色有机颜料；(3)遮光材：碳黑(carbon black)、氧化铬、氧化铁、钛黑(titanium
black)、石墨等。
上述碳黑的具体例包含但不限于C.I.Pigment black 7，或者三菱化学公司所制
造的商品，其型号为MA100、MA220、MA230、MA8、#970、#1000、#2350或#2650。该黑色颜料(E)
可单独一种或混合多种使用。
较佳地，该第二黑色颜料(E-2)可为碳黑，或者前述型号为MA100或MA230的商品。
基于碱可溶性树脂(A)的使用量为100重量份，该黑色颜料(E)的使用量为15重量
份至150重量份，较佳为20重量份至130重量份，且更佳为25重量份至100重量份。
根据本发明黑色感光性树脂组成物，进一步包括含环氧基的硅烷化合物(F)。该含
环氧基的硅烷化合物(F)所具有的含环氧基的基团例如是缩水甘油基(glycidyl group)、
缩水甘油醚基(glycidyloxy group)、环氧环己基(epoxycyclohexyl group)或环氧丙烷基
(oxetanyl group)。
具体而言，该含环氧基的基团可包括由式(F-I)表示的基、由式(F-II)表示的基以
及由式(F-III)表示的基团中的至少一个；
式(F-I)中，L表示氧原子或单键；f表示1至3的整数；i表示0至6的整数，其中当i表
示0时，L为单键；
式(F-II)中，j表示0至6的整数；
式(F-III)中，B表示碳数为2至6的伸烷基；D表示氢原子或碳数为1至6的烷基。
含环氧基的基团较佳为包括由式(1-1)表示的基、由式(2-1)表示的基团以及由式
(3-1)表示的基团中的至少一个。
该含环氧基的硅烷化合物(F)的具体例包括3-(N，N-二缩水甘油基)胺基丙基三甲
氧基硅烷、3-(N-烯丙基-N-缩水甘油基)胺基丙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油醚基丙基三甲
氧基硅烷、3-缩水甘油醚基丙基三乙氧基硅烷、3-缩水甘油醚基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-
缩水甘油醚基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-缩水甘油醚基丙基二甲基甲氧基硅烷、3-缩水甘
油醚基丙基二甲基乙氧基硅烷、2-缩水甘油醚基乙基三甲氧基硅烷、2-缩水甘油醚基乙基
三乙氧基硅烷、2-缩水甘油醚基乙基甲基二甲氧基硅烷、2-缩水甘油醚基乙基甲基二乙氧
基硅烷、2-缩水甘油醚基乙基二甲基甲氧基硅烷、2-缩水甘油醚基乙基二甲基乙氧基硅烷、
4-缩水甘油醚基丁基三甲氧基硅烷、4-缩水甘油醚基丁基三乙氧基硅烷、4-缩水甘油醚基
丁基甲基二甲氧基硅烷、4-缩水甘油醚基丁基甲基二乙氧基硅烷、4-缩水甘油醚基丁基二
甲基甲氧基硅烷、4-缩水甘油醚基丁基二甲基乙氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲
氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三乙氧基硅烷、3-)3，4-环氧环己基)丙基三甲氧基硅
烷、3-(3，4-环氧环己基)丙基三乙氧基硅烷、((3-乙基-3-环氧丙烷基)甲氧基)丙基三甲氧
基硅烷、((3-乙基-3-环氧丙烷基)甲氧基)丙基三乙氧基硅烷、((3-乙基-3-环氧丙烷基)甲
氧基)丙基甲基二甲氧基硅烷或((3-乙基-3-环氧丙烷基)甲氧基)丙烷二甲基甲氧基硅烷，
或上述化合物的组合。
该含环氧基的硅烷化合物(F)的具体例较佳为包括3-缩水甘油醚基丙基三甲氧基
硅烷、2-缩水甘油醚基乙基三甲氧基硅烷、4-缩水甘油醚基丁基三甲氧基硅烷、2-(3，4-环
氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基))乙基三乙氧基硅烷、((3-乙基-3-环氧
丙烷基)甲氧基)丙基三甲氧基硅烷、((3-乙基-3-环氧丙烷基)甲氧基)丙基三乙氧基硅烷
或上述化合物的组合。
基于碱可溶性树脂(A)的使用量为100重量份，该环氧基的硅烷化合物(F)的使用
量为0.5重量份至5重量份，较佳为0.6重量份至4重量份，且更佳为0.7重量份至3重量份。
当本发明的碱可溶性树脂(A)包含该环氧基的硅烷化合物(F)时，则由此黑色感光
性树脂组成物所制得的黑色图案其介电常数更佳。
在不影响本发明功效的前提下，本发明的黑色感光性树脂组成物可进一步选择性
地添加添加剂(G)。该添加剂(G)的具体例可包含界面活性剂、填充剂、密着促进剂、抗氧化
剂、防凝集剂或前述碱可溶性树脂(A)以外的其他能增加各种性质(例如机械性质)的聚合
物。
前述界面活性剂的具体例可包含阳离子型界面活性剂、阴离子型界面活性剂、非
离子型界面活性剂、两性界面活性剂、聚硅氧烷界面活性剂、氟素界面活性剂或上述界面活
性剂的任意组合。
该界面活性剂的具体例可包含但不限于聚乙氧基十二烷基醚、聚乙氧基硬酯酰醚
或聚乙氧基油醚等聚乙氧基烷基醚类；聚乙氧基辛基苯基醚或聚乙氧基壬基苯基醚等聚乙
氧基烷基苯基醚类；聚乙二醇二月桂酸酯或聚乙二醇二硬酸酯等聚乙二醇二酯类；山梨糖
醇酐脂肪酸酯化合物；脂肪酸改质的聚酯化合物；三级胺改质的聚胺基甲酸酯化合物；或者
市售的商品。其中，该市售商品可为信越化学工业公司制造的产品，且其型号为KP；道康宁
东丽股份有限公司(Dow Corning Toray Co.，Ltd.)制造的产品，且其型号为SF-8427；共荣
社油脂化学工业制造的产品，且其型号为Polyflow；得克姆股份有限公司(Tochem
Products Co.，Ltd.)制造的产品，且其型号为F-Top；大日本印墨化学工业制造的产品，且
其型号为Megafac；住友3M制造的产品，且其型号为Fluorade；或者旭硝子公司制造的产品，
且其型号为Asahi Guard或Surflon。该界面活性剂可单独一种或混合多种使用。
前述填充剂的具体例可包含玻璃或铝等。
前述密着促进剂的具体例可包含乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙
烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-(2-胺
基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基硅烷、3-胺丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基
硅烷(信越化学制造的商品，且其型号为KBM-403)、EPPN501H(日本化药公司制)、
EPIKOTE152(壳牌化学公司制造)、3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己
基)乙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙酰
氧基丙基三甲氧基硅烷或3-巯丙基三甲氧基硅烷等化合物，或者上述化合物的任意组合。
前述抗氧化剂的具体例可包含2，2-硫代双(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、2，6-二-第
三丁基苯酚或上述化合物的任意组合。
前述防凝集剂的具体例可包含聚丙烯酸钠等化合物。
基于该碱可溶性树脂(A)的使用量为100重量份，添加剂(G)中的填充剂、密着促进
剂、抗氧化剂、防凝集剂或碱可溶性树脂(A)以外的聚合物的使用量不超过10重量份，且较
佳是不超过6重量份。
黑色感光性树脂组成物的制备
黑色感光性树脂组成物的制备是将前述的碱可溶性树脂(A)、具有乙烯性不饱和
基的化合物(B)、光起始剂(C)、溶剂(D)及黑色颜料(E)放置于搅拌器中搅拌，使其均匀混合
成溶液状态，必要时亦可添加环氧基的硅烷化合物(F)及/或添加剂(G)，予以均匀混合后，
即可获得溶液状态的黑色感光性树脂组成物。
其次，黑色感光性树脂组成物的制备方法并没有特别的限制。黑色颜料(E)可直接
加至由碱可溶性树脂(A)、具有乙烯性不饱和基的化合物(B)、光起始剂(C)和溶剂(D)所组
成的混合物中，而可分散形成前述溶液状态的感光性树脂组成物。或者，先将部份的黑色颜
料(E)加至由部份碱可溶性树脂(A)及部份的溶剂(D)所组成的混合物中，以形成颜料分散
液。然后，将其余的碱可溶性树脂(A)、具有乙烯性不饱和基的化合物(B)、光起始剂(C)、其
余的溶剂(D)和剩余的黑色颜料(E)加至前述的颜料分散液中，以制得溶液状态的感光性树
脂组成物。
上述黑色颜料(E)的分散步骤可通过珠磨机(beads mill)或辊磨机(roll mill)
等混合器来进行。
黑色矩阵/黑色间隙体的制备
黑色矩阵是将上述的黑色感光性树脂组成物涂布在薄膜晶体管(thin film
transistor；TFT)基板或透明基板上，并依序进行预烤处理、曝光处理、显影处理及后烤处
理后即可制得，其方式可为(1)整合式彩色滤光片方式，其将包含黑色矩阵及像素层的彩色
滤光片设置于TFT组件基板侧；或(2)整合式黑色矩阵方式，其仅将黑色矩阵设置于TFT组件
基板侧，上述方式并没有特别限制。当所制得的黑色矩阵的膜厚为2μm时，光学密度范围可
为3.0以上，较佳为3.2至5.5，且更佳为3.5至5.5。
另外，本发明的黑色矩阵是形成于TFT基板上，其方式可为(1)整合式彩色滤光片
方式，其将包含黑色矩阵及像素层的彩色滤光片设置于TFT组件基板侧；或(2)整合式黑色
矩阵方式，其仅将黑色矩阵设置于TFT组件基板侧，上述方式并没有特别限制。
若将上述的黑色感光性树脂组成物用以制造黑色间隙体，则以上述相同方法形
成，且黑色间隙体的厚度为3μm。以下详述本发明的黑色矩阵/黑色间隙体的制备方法。
首先，通过旋转涂布(spin coating)或流延涂布(cast coating)等涂布方式，将
溶液状态的黑色感光性树脂组成物均匀地涂布在基板上，以形成涂膜。上述基板的具体例
可包含用于液晶显示设备等薄膜晶体管(thin film transistor；TFT)基板或透明基板：无
碱玻璃、钠钙玻璃、硬质玻璃(派勒斯玻璃)、石英玻璃及于前述的玻璃上附着透明导电膜
者；或者用于固体摄影装置等光电变换装置基板(例如：硅基板)等。
形成涂膜之后，以减压干燥的方式去除大部份的溶剂。然后，以预烤(pre-bake)的
方式去除剩余的溶剂，以形成预烤涂膜。根据各成分的种类及比例的不同，前述的减压干燥
及预烤的条件随之改变。减压干燥一般是在小于200mmHg的压力下进行1秒至20秒，且预烤
是在70℃至110℃对涂膜加热处理1分钟至15分钟。
接着，以具有特定图案的光罩对前述的预烤涂膜进行曝光处理。曝光处理所使用
的光线可为g线、h线或i线等紫外光，且紫外光的照射装置可为(超)高压水银灯或金属卤素
灯。
进行曝光处理后，将前述曝光后的预烤涂膜浸渍于21℃至25℃的显影液
(developing solution)中，以去除上述未经曝光的部分的预烤涂膜，而可在基板上形成特
定的图案。
前述的显影液可为氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸氢钠、碳酸钾、碳酸氢钾、硅
酸钠、甲基硅酸钠、氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、氢氧化四甲胺、氢氧化四乙胺、胆碱、
吡咯、哌啶或1，8-二氮杂二环-[5，4，0]-7-十一烯等碱性化合物。该显影液的浓度一般为
0.001重量百分比至10重量百分比，较佳为0.005重量百分比至5重量百分比，且更佳为0.01
重量百分比至1重量百分比。
进行显影处理后，将具有特定图案的基板以水洗净，并利用压缩空气或压缩氮气
风干上述的基板。然后，以热板或烘箱等加热装置进行后烤处理，即可于基板上形成黑色矩
阵。后烤处理的温度一般为150℃至250℃。当加热装置使用热板时，其加热时间为5分钟至
60分钟；当加热装置使用烘箱时，其加热时间为15分钟至150分钟。
彩色滤光片的制备方法
本发明的彩色滤光片的制备是先通过旋转涂布、流延涂布或辊式涂布等涂布方
式，将溶液状态的彩色滤光片用的感光性树脂组成物均匀地涂布在前述具有黑色矩阵及/
或黑色间隙体的基板上，以形成涂膜。
形成涂膜后，通过减压干燥去除大部份的溶剂，且以预烤的方式去除剩余的溶剂，
以形成预烤涂膜。其中，根据各成分的种类或比例的不同，减压干燥及预烤的条件随之改
变。减压干燥一般是在0mmHg至200mmHg的压力下进行1秒至60秒，且预烤是在70℃至110℃
下对涂膜加热处理1分钟至15分钟。
然后，以具有特定图案的光罩对前述的预烤涂膜进行曝光处理。曝光处理所使用
的光线可为g线、h线或i线等紫外光，且紫外光的照射装置可为(超)高压水银灯或金属卤素
灯。
进行曝光处理后，将前述曝光后的预烤涂膜浸渍于21℃至25℃的显影液
(developing solution)中，以去除上述未经曝光的部分的预烤涂膜，而可在基板上形成特
定的图案。
进行显影处理后，将具有特定图案的基板以水洗净，并利用压缩空气或压缩氮气
风干上述的基板。然后，以热板或烘箱等加热装置进行后烤处理。后烤处理的条件如前所
述，在此不另赘述。重复上述的步骤，以形成红、绿、蓝等像素着色层于基板上。
接着，于220℃至250℃的真空环境下，利用溅镀的方式形成ITO保护膜(蒸镀膜)于
前述像素着色层的表面上。必要时，对ITO保护膜进行蚀刻与布线，并在ITO保护膜表面涂布
液晶配向膜(液晶配向膜用聚酰亚胺)，而可形成具有像素层的彩色滤光片。
液晶显示器的制备方法
将上述所制得的彩色滤光片及设有薄膜晶体管(thin film transistor；TFT)的
基板作对向配置，并且在上述两者之间设置间隙(晶胞间隔；cell gap)。然后，以黏着剂贴
合彩色滤光片与上述基板的周围部分并且留下注入孔。接着，在基板表面以及黏着剂所分
隔出的间隙内由注入孔注入液晶，并封住注入孔，以形成液晶层。之后，将偏光板设置在彩
色滤光片中接触液晶层的另一侧与基板中接触液晶层的另一侧，而可制成液晶显示器。
上述的液晶可为液晶化合物或液晶组成物，此处并未特别限定，惟可使用任何一
种液晶化合物及液晶组成物。
另外，彩色滤光片中所使用的液晶配向膜是用来限制液晶分子的配向，且其没有
特别的限制，无机物或有机物任一个均可，并且本发明并不限于此。
除上述方法外，具有本发明的树脂黑色矩阵的液晶显示设备，亦可使用例如日本
专利特开平4-253028号公报、特开平7-159772号公报、特开平9-311348号公报等中所涉及
的众所周知的方法而制造。另外，本发明的树脂黑色矩阵，特佳为安装在Willem Den Boer，
“Active Matrix Liquid Crystal Displays”(Newnes，2005，PP.141-142)等中所涉及的
BOA方式等液晶显示设备或日本专利特开平10-206888号公报、特开2002-277899号公报等
中所涉及的COA方式的液晶显示设备中。
以下实施例予以详细说明本发明，但本发明不仅局限于此等实施例所涉及的内
容。
制备具有不饱和基的树脂(A-1)
制备A-1-1
将100重量份的芴环氧化合物(型号ESF-300，新日铁化学制；环氧当量231)、30重
量份的丙烯酸、0.3重量份的氯化苄基三乙基铵、0.1重量份的2，6-二第三丁基对甲酚，及
130重量份的丙二醇单甲基醚醋酸酯以连续式添加方式加入置500mL的四口烧瓶中，且入料
速度控制在25重量份/分钟，该反应过程的温度维持在100℃至110℃，反应15小时，即可获
得固成分浓度为50wt％的淡黄色透明混合液。
接着，将100重量份的上述所得的淡黄色透明混合液溶于25重量份的乙二醇乙醚
醋酸酯中，并同时添加6重量份的四氢邻苯二甲酸酐及13重量份的二苯甲酮四甲酸二酐，并
加热至110℃至115℃，反应2小时，即可得一酸价为98.0mgKOH/g的具有不饱和基的树脂(以
下简称为A-1-1)。
制备A-1-2
将100重量份的芴环氧化合物(型号ESF-300，新日铁化学制；环氧当量231)、30重
量份的丙烯酸、0.3重量份的氯化苄基三乙基铵、0.1重量份的2，6-二第三丁基对甲酚，及
130重量份的丙二醇单甲基醚醋酸酯以连续式添加方式加入置500mL的四口烧瓶中，且入料
速度控制在25重量份/分钟，该反应过程的温度维持在100℃至110℃，反应15小时，即可获
得一固成分浓度为50wt％的淡黄色透明混合液。
接着，将100重量份的上述所得的淡黄色透明混合液溶于25重量份的乙二醇乙醚
醋酸酯中，并添加13重量份的二苯甲酮四甲酸二酐，在90℃至95℃下反应2小时，接着，添加
6重量份的四氢邻苯二甲酸酐，并于90℃至95℃下反应4小时，即可得一酸价为99.0mgKOH/g
的具有不饱和基的树脂(以下简称为A-1-2)。
制备A-1-3
将400重量份的环氧化合物[型号NC-3000，日本化药(株)制；环氧当量288]、102重
量份的丙烯酸、0.3重量份的对甲氧基酚、5重量份的三苯基膦，及264重量份的丙二醇单甲
基醚醋酸酯置于反应瓶中，该反应过程的温度维持在95℃，反应9小时，即可获得一酸价为
2.2mgKOH/g的中间产物。接着，加入151重量份的四氢邻苯二甲酸酐，在95℃下反应4小时，
即可得一酸价为102mgKOH/g、且重量平均分子量为3,200的具有不饱和基的树脂(以下简称
为A-1-3)。
制备其他碱可溶性树脂(A-2)
制备A-2-1
将1重量份的2，2’-偶氮双异丁腈、240重量份的丙二醇单甲基醚醋酸酯、20重量份
的甲基丙烯酸、15重量份的苯乙烯、35重量份的甲基丙烯酸苯甲酯、10重量份的甘油单甲基
丙烯酸脂及20重量份的氮-苯基马来酰亚胺置于一装有搅拌器及冷凝器的圆底烧瓶中，并
使该烧瓶内部充满氮气，之后，缓慢搅伴并升温至80℃，使各反应物均匀混合并进行聚合反
应4小时。之后，再将其升温至100℃，并添加0.5重量份的2，2’-偶氮二异丁腈进行1小时聚
合后，即可得一其它碱可溶性树脂(以下简称为A-2-1)。
制备A-2-2
将2重量份的2，2’-偶氮双异丁腈、300重量份的二丙二醇甲基醚、15重量份的甲基
丙烯酸、15重量份的2-羟基丙烯酸乙酯及70重量份的甲基丙烯酸苯甲酯置于一装有搅拌器
及冷凝器的圆底烧瓶中，并使该烧瓶内部充满氮气，之后，缓慢搅伴并升温至80℃，使各反
应物均匀混合并进行聚合反应3小时。之后，再将其升温至100℃，并添加0.5重量份的2，2’-
偶氮二异丁腈进行1小时聚合后，即可得一其他碱可溶性树脂(以下简称为A-2-2)。
实施例
制备黑色感光性树脂组成物
实施例1
将100重量份前述的碱可溶性树脂A-1-1、30重量份的二季戊四醇六丙烯酸酯(以
下简称为B-2-1)、0.1重量份的第一光起始剂(C-1-1；如式(I-1)的化合物)、0.2重量份的1-
氯-4-丙氧基噻吨酮(C-2-1)、0.1重量份的1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-取
代基]-乙烷酮-1-(O-乙酰基肟)(以下简称为C-3-1)、10重量份的第一黑色颜料(E-1-1)、5
重量份的第二黑色颜料(商品名MA220；以下简称为E-2-1)及0.5重量份的3-缩水甘油醚基
丙基三甲氧基硅烷(F-1)加至300重量份的丙二醇单甲基醚醋酸酯(以下简称为D-1)中，并
以摇动式搅拌器(shaking type stirrer)搅拌均匀后，即可制得实施例1的黑色感光性树
脂组成物。所得的感光性树脂组成物以下述介电常数和高精细度图案的直线性的评价方式
进行评价，所得结果如表1所示。
实施例2至13及比较例1至5
实施例2至13及比较例1至5是使用与实施例1的黑色感光性树脂组成物的制作方
法相同的制备方法，不同之处在于实施例2至13及比较例1至5是改变黑色感光性树脂组成
物中原料的种类及使用量，且其配方及评价结果分别如表1及表2所示，在此不另赘述。
表2
表1及表2中：
评价方式
高精细度图案的直线性
将上述各实施例及比较例的黑色感光性树脂组成物以旋转涂布的方式涂布在
100mm×100mm的玻璃基板上。然后，于约100毫米汞柱(mmHg)的压力下进行减压干燥约30秒
钟。接着，将上述的玻璃基板置于80℃下预烤3分钟，以形成膜厚为2.5微米的预烤涂膜。之
后，隔着具有25微米[间距(pitch)50微米]的条状图案的光罩，使用曝光机(Canon制造，型
号为PLA-501F)以300毫焦/平方公分(mJ/cm2)的紫外光照射上述的预烤涂膜。使用紫外光
照射后，将预烤涂膜浸渍于23℃的显影液2分钟。之后，以纯水洗净上述预烤涂膜，并以200
℃对预烤涂膜进行后烤80分钟，即可在玻璃基板上形成膜厚为2.0微米的黑色图案。
利用光学显微镜对上述方法所形成的条状图案进行观察，并依据下列基准评价高
精细度的图案直线性：
◎：90％以上的高精细度图案的直线性良好；
○：80％以上，小于90％的高精细度图案的直线性良好；
△：70％以上，小于80％的高精细度图案的直线性良好；
×：小于70％的高精细度图案的直线性良好。
介电常数
通过溅镀法形成有厚度为150nm的ITO膜的玻璃基板上，与上述相同的条件下，于
整个面上形成黑色图案，而制作ITO基板。将该样品的ITO基板作为主电极，通过蒸镀法，于
树脂黑色矩阵上形成金的对向电极。使用HP公司(现为Agilent公司)制造的4284A型LCR计，
测定参照信号的频率为1KHz、振幅为1V的等效并联电容而求得介电常数。并依据下列基准
评价介电常数：
◎：介电常数为未满3.5；
○：介电常数为3.5以上且未满4；
△：介电常数为4以上且未满5；
×：介电常数为5以上。
上述实施例仅为说明本发明的原理及其功效，而非限制本发明。本领域技术人员
对上述实施例所做的修改及变化仍在本发明的范围。本发明的保护范围如权利要求书所
述。