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1、(10)申请公布号 CN 103289401 A (43)申请公布日 2013.09.11 CN 103289401 A *CN103289401A* (21)申请号 201210580328.6 (22)申请日 2012.12.27 2012-047126 2012.03.02 JP C08L 79/08(2006.01) C08K 3/04(2006.01) C08G 73/10(2006.01) C09D 179/08(2006.01) G03G 15/00(2006.01) G03G 15/16(2006.01) (71)申请人 富士施乐株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 宫本。
2、刚 额田克己 (74)专利代理机构 北京三友知识产权代理有限 公司 11127 代理人 丁香兰 庞东成 (54) 发明名称 聚酰亚胺前体组合物、 聚酰亚胺成型体和图 像形成装置 (57) 摘要 本发明涉及一种聚酰亚胺前体组合物、 聚酰 亚胺成型体和图像形成装置。具体而言, 本发明 的聚酰亚胺前体组合物包含 : 含有由下式 (1) 表 示的重复单元的聚酰亚胺前体 ; 溶剂 ; 和 pH 为 5.0 以下的酸性炭黑, 其中, R1表示四价有机基 团, R2表示二价有机基团, R 3和 R4各自独立地表 示一价有机基团或氢, 并且 R3和 R 4不同时为氢。 (30)优先权数据 (51)Int.Cl。
3、. 权利要求书 2 页 说明书 24 页 附图 2 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书2页 说明书24页 附图2页 (10)申请公布号 CN 103289401 A CN 103289401 A *CN103289401A* 1/2 页 2 1. 一种聚酰亚胺前体组合物, 所述聚酰亚胺前体组合物包含 : 含有由下式 (1) 表示的重复单元的聚酰亚胺前体 ; 溶剂 ; 和 pH 为 5.0 以下的酸性炭黑, 其中, R1表示四价有机基团, R2表示二价有机基团, R3和 R4各自独立地表示一价有机 基团或氢, 并且 R3和 R4不同时为氢。 2. 如权利要。
4、求 1 所述的聚酰亚胺前体组合物, 其中, R1是从四羧酸二酸酐除去四个羰基而获得的残基, 并且 所述四羧酸二酸酐是选自由 3,3 ,4,4 - 联苯基四羧酸、 2,3,3 ,4 - 联苯基四羧酸、 均苯四酸和 3,3 ,4,4 - 二苯基醚四羧酸组成的组中的至少一种。 3. 如权利要求 1 所述的聚酰亚胺前体组合物, 其中, R1是从 3,3 ,4,4 - 联苯基四羧酸除去四个羰基而获得的残基。 4. 如权利要求 1 所述的聚酰亚胺前体组合物, 其中, R2是从二胺化合物除去两个氨基而获得的残基, 并且 所述二胺化合物是选自由 4,4 - 二氨基二苯基醚、 3,4 - 二氨基二苯基醚、 对苯。
5、二胺和 间苯二胺组成的组中的至少一种。 5. 如权利要求 1 所述的聚酰亚胺前体组合物, 其中, R2是从二胺化合物除去两个氨基而获得的残基, 并且 所述二胺化合物是 4,4 - 二氨基二苯基醚或对苯二胺。 6. 如权利要求 1 所述的聚酰亚胺前体组合物, 其中, 由 R3表示的一价有机基团是 1- 烷氧基乙基。 7. 如权利要求 1 所述的聚酰亚胺前体组合物, 其中, 由 R3表示的一价有机基团是选自由以下基团组成的组中的至少一种 : 1- 甲基烷 氧基乙基、 1-乙基烷氧基乙基、 1-丙基烷氧基乙基、 1-丁基烷氧基乙基、 1-戊基烷氧基乙基 和 1- 环己基烷氧基乙基。 8. 如权利要求。
6、 1 所述的聚酰亚胺前体组合物, 其中, 由 R3表示的一价有机基团可以是选自由以下基团组成的组中的至少一种 : 1- 甲 基烷氧基乙基、 1- 乙基烷氧基乙基和 1- 环己基烷氧基乙基。 9. 如权利要求 1 所述的聚酰亚胺前体组合物, 其中, 由 R4表示的一价有机基团是选自由以下基团组成的组中的至少一种 : 1- 甲基烷 氧基乙基、 1- 乙基烷氧基乙基、 1- 环己基烷氧基乙基和氢。 权 利 要 求 书 CN 103289401 A 2 2/2 页 3 10.如权利要求19中任一项所述的聚酰亚胺前体组合物, 所述聚酰亚胺前体组合物 在所述聚酰亚胺前体的末端包含至少一个氨基。 11. 如。
7、权利要求 1 10 中任一项所述的聚酰亚胺前体组合物, 所述聚酰亚胺前体组合 物还包含乙烯基醚化合物。 12. 如权利要求 11 所述的聚酰亚胺前体组合物, 其中, 所述乙烯基醚化合物是选自由以下化合物组成的组中的至少一种 : 具有直链或 支链、 饱和或不饱和烃骨架的乙烯基醚化合物、 含有脂环族饱和烃骨架的乙烯基醚化合物 以及在直链或支链、 饱和或不饱和烃骨架中含有醚键的乙烯基醚类。 13. 一种聚酰亚胺成型体, 所述聚酰亚胺成型体通过对涂布膜进行热处理而形成, 所述 涂布膜通过将权利要求 1 12 中任一项所述的聚酰亚胺前体组合物涂布到被涂布材料上 而形成。 14. 一种图像形成装置, 所述。
8、图像形成装置包括 : 图像保持体 ; 充电单元, 所述充电单元使所述图像保持体的表面充电 ; 静电潜像形成单元, 所述静电潜像形成单元在所述图像保持体的充电表面上形成静电 潜像 ; 显影单元, 所述显影单元通过使用色调剂使所述图像保持体表面上形成的所述静电潜 像显影而形成色调剂图像 ; 中间转印体, 所述中间转印体具有权利要求 13 所述的聚酰亚胺成型体作为环状带 ; 一次转印单元, 所述一次转印单元将所述图像保持体表面上形成的所述色调剂图像转 印至所述中间转印体上 ; 和 二次转印设备, 所述二次转印设备将所述中间转印体上的所述色调剂图像转印至记录 介质上。 权 利 要 求 书 CN 103。
9、289401 A 3 1/24 页 4 聚酰亚胺前体组合物、 聚酰亚胺成型体和图像形成装置 技术领域 0001 本发明涉及聚酰亚胺前体组合物、 聚酰亚胺成型体和图像形成装置。 背景技术 0002 聚酰亚胺树脂是具有优良的高耐久性和耐热性特性的材料, 并且广泛用于诸如 TAB 膜等电子材料。 0003 由于具有刚性和高对称性结构的聚酰亚胺树脂分子之间的内聚力较强, 并且聚酰 亚胺树脂不因加热熔融 ( 不熔性 ), 并且不溶于各种溶剂 ( 不溶性 ), 因此该树脂的加工性 较差。所以, 根据美国专利第 4238528 号 ( 专利文献 1), 为了制造聚酰亚胺树脂成型体, 通 过将作为成型体前体的。
10、聚酰胺酸溶于诸如 N- 甲基 -2- 吡咯烷酮 ( 以下在一些情况下记为 “NMP” ) 等极性溶剂中获得清漆, 将该清漆施涂在基材上, 通过热处理对所得物进行干燥和 酰亚胺化, 由此制造聚酰亚胺成型体。 0004 在期刊 Polymer Science.Macromolecular Reviews, 第 11 卷 ,P164(1976)( 非专 利文献 1) 中, 作为溶解聚酰胺酸的溶剂, 例举了 NMP、 二甲基乙酰胺 (DMAc)、 二甲基甲酰胺 (DMF)、 二甲基亚砜 (DMSO) 和 - 丁内酯 (-BL) 等。 0005 此外, 特公昭 47-19710 号公报 ( 专利文献 2。
11、)、 特开昭 61-168669 号公报 ( 专利文 献 3)、 特开平 8-120077 号公报 ( 专利文献 4)、 特开平 8-015519 号公报 ( 专利文献 5) 和特 开 2003-13351 号公报 ( 专利文献 6) 公开了一种通过使聚酰胺酸的羧酸与叔胺反应而使聚 酰胺酸形成季铵盐, 从而使聚酰胺酸可溶于水中的方法。 0006 此外, 特开平 06-001915 号公报 ( 专利文献 7) 公开了一种通过将诸如水溶性醚类 化合物和水溶性醇化合物等聚酰胺酸的不良溶剂与水、 芳香烃和脂肪烃组合而使聚酰胺酸 可溶的方法。 0007 另外, 特开 2000-319391 号公报 ( 。
12、专利文献 8) 公开了一种通过使用低分子量四羧 酸二酯和二胺化合物的混合物作为聚酰亚胺前体而改善溶剂溶解性的方法。 0008 此外, 已经提出了通过简单地将聚酰亚胺树脂溶解于溶剂中并在成型时蒸发溶 剂而获得成型体的尝试。特开昭 58-162659 号公报 ( 专利文献 9) 提出了通过引入脂环 结构而使聚酰亚胺树脂可溶于溶剂中的方法, 所述脂环结构是通常被称为可溶性聚酰亚 胺的材料, 并且相对于聚酰亚胺分子骨架表现出较低的对称性和缔合性 (associating property)。 0009 同时, 作为通过修饰聚酰胺酸的羧酸而改善溶剂亲和性的另一技术, 特开 2000-212216 号公报。
13、 ( 专利文献 10) 公开了一种通过使用缩醛进行酯化来修饰聚酰胺酸的 羧酸, 从而控制聚酰胺酸在碱性水溶液中的溶解性的技术, 以便用于抗蚀剂材料。 0010 此外, 特开2009-244479号公报(专利文献11)、 特开2010-85430号公报(专利文 献 12) 和特开 2009-265637 号公报 ( 专利文献 13) 公开了一种感光性树脂组合物, 其中使 用通过半缩醛化修饰的聚酰胺酸来控制溶解性裕度 (solubility margin)。 0011 另外, 特开 2009-242539 号公报 ( 专利文献 14)、 特开 2009-242542 号公报 ( 专利 说 明 书 。
14、CN 103289401 A 4 2/24 页 5 文献 15)、 特开 2010-83920 号公报 ( 专利文献 16) 和特开 2009-263646 号公报 ( 专利文献 17) 公开了一种包含通过半缩醛化修饰的聚酰胺酸的聚酰亚胺前体。 发明内容 0012 本发明的一个目的在于提供一种聚酰亚胺前体组合物, 由该聚酰亚胺前体组合物 能够获得这样一种聚酰胺成型体, 其中炭黑显示高分散性并且分散材料显示高度的贮存稳 定性。 0013 此外, 本发明的另一目的在于提供一种聚酰亚胺成型体, 该聚酰亚胺成型体特别 在成型体具有厚膜时显示表面粗糙度较小的优良成型品质, 显示出机械强度和电阻的高度 均。
15、匀性, 并具有较高的电稳定性 ( 其中即使重复施加电压和电流, 电特性也不变化 )。 0014 此外, 本发明的另一目的在于获得一种成型体, 该成型体即使在混入少量炭黑时 也能产生高遮蔽效果。 0015 此外, 本发明的又一目的在于获得一种聚酰亚胺前体组合物, 该聚酰亚胺前体组 合物能够用作涂布液, 并在聚酰亚胺成型过程中对被涂布材料 ( 基材 ) 造成较小的损伤。 0016 根据本发明的第一方面, 提供了一种聚酰亚胺前体组合物, 所述聚酰亚胺前体组 合物包含 : 含有由下式 (1) 表示的重复单元的聚酰亚胺前体 ; 溶剂 ; 和 pH 为 5.0 以下的酸 性炭黑, 0017 0018 其中。
16、, R1表示四价有机基团, R2表示二价有机基团, R3和 R4各自独立地表示一价 有机基团或氢, 并且 R3和 R4不同时为氢。 0019 根据本发明的第二方面, 在根据第一方面所述的聚酰亚胺前体组合物中, R1可 以是从四羧酸二酸酐除去四个羰基而获得的残基, 并且所述四羧酸二酸酐可以是选自由 3,3 ,4,4 - 联苯基四羧酸、 2,3,3 ,4 - 联苯基四羧酸、 均苯四酸和 3,3 ,4,4 - 二苯基 醚四羧酸组成的组中的至少一种。 0020 根据本发明的第三方面, 在根据第一方面所述的聚酰亚胺前体组合物中, R1可以 是从 3,3 ,4,4 - 联苯基四羧酸除去四个羰基而获得的残基。
17、。 0021 根据本发明的第四方面, 在根据第一方面所述的聚酰亚胺前体组合物中, R2可以 是从二胺化合物除去两个氨基而获得的残基, 并且所述二胺化合物可以是选自由 4,4 - 二 氨基二苯基醚、 3,4 - 二氨基二苯基醚、 对苯二胺和间苯二胺组成的组中的至少一种。 0022 根据本发明的第五方面, 在根据第一方面所述的聚酰亚胺前体组合物中, R2可以 是从二胺化合物除去两个氨基而获得的残基, 并且所述二胺化合物可以是 4,4 - 二氨基二 苯基醚或对苯二胺。 说 明 书 CN 103289401 A 5 3/24 页 6 0023 根据本发明的第六方面, 在根据第一方面所述的聚酰亚胺前体组。
18、合物中, 由 R3表 示的一价有机基团可以是 1- 烷氧基乙基。 0024 根据本发明的第七方面, 在根据第一方面所述的聚酰亚胺前体组合物中, 由 R3表 示的一价有机基团可以是选自由以下基团组成的组中的至少一种 : 1- 甲基烷氧基乙基、 1- 乙基烷氧基乙基、 1- 丙基烷氧基乙基、 1- 丁基烷氧基乙基、 1- 戊基烷氧基乙基和 1- 环己 基烷氧基乙基。 0025 根据本发明的第八方面, 在根据第一方面所述的聚酰亚胺前体组合物中, 由 R3表 示的一价有机基团可以是选自由以下基团组成的组中的至少一种 : 1- 甲基烷氧基乙基、 1- 乙基烷氧基乙基和 1- 环己基烷氧基乙基。 0026。
19、 根据本发明的第九方面, 在根据第一方面所述的聚酰亚胺前体组合物中, 由 R4表 示的一价有机基团可以是选自由以下基团组成的组中的至少一种 : 1- 甲基烷氧基乙基、 1- 乙基烷氧基乙基、 1- 环己基烷氧基乙基和氢。 0027 根据本发明的第十方面, 根据第一第九方面中任一项所述的聚酰亚胺前体组合 物可以在所述聚酰亚胺前体的末端包含至少一个氨基。 0028 根据本发明的第十一方面, 根据第一第十方面中任一项所述的聚酰亚胺前体组 合物还可以包含乙烯基醚化合物。 0029 根据本发明的第十二方面, 在根据第十一方面所述的聚酰亚胺前体组合物中, 所 述乙烯基醚化合物可以是选自由以下化合物组成的组。
20、中的至少一种 : 具有直链或支链、 饱 和或不饱和烃骨架的乙烯基醚化合物、 含有脂环族饱和烃骨架的乙烯基醚化合物以及在直 链或支链、 饱和或不饱和烃骨架中含有醚键的乙烯基醚类。 0030 根据本发明的第十三方面, 提供了一种聚酰亚胺成型体, 所述聚酰亚胺成型体通 过对涂布膜进行热处理而形成, 所述涂布膜通过将根据第一第十二方面中任一项所述的 聚酰亚胺前体组合物涂布到被涂布材料上而形成。 0031 根据本发明的第十四方面, 提供了一种图像形成装置, 所述图像形成装置包括 : 图 像保持体 ; 充电单元, 所述充电单元使所述图像保持体的表面充电 ; 静电潜像形成单元, 所 述静电潜像形成单元在所述。
21、图像保持体的充电表面上形成静电潜像 ; 显影单元, 所述显影 单元通过使用色调剂使所述图像保持体表面上形成的所述静电潜像显影而形成色调剂图 像 ; 中间转印体, 所述中间转印体具有根据第十三方面所述的聚酰亚胺成型体作为环状带 ; 一次转印单元, 所述一次转印单元将所述图像保持体表面上形成的所述色调剂图像转印至 所述中间转印体上 ; 和二次转印设备, 所述二次转印设备将所述中间转印体上的所述色调 剂图像转印至记录介质上。 0032 根据本发明的第一第九方面, 提供了一种聚酰亚胺前体组合物, 与组合物不包 含含有由式 (1) 表示的重复单元的聚酰亚胺前体和 pH 为 5.0 以下的酸性炭黑的情况相。
22、比, 由所述聚酰亚胺前体组合物能够获得其中炭黑显示更高分散性的聚酰胺成型体。 0033 根据本发明的第十方面, 提供了一种聚酰亚胺前体组合物, 与聚酰亚胺前体的两 端都不是氨基的情况相比, 所述聚酰亚胺前体组合物中炭黑能够显示更高的分散性。 0034 根据本发明的第十一和第十二方面, 提供了一种聚酰亚胺前体组合物, 与所述组 合物不是还含有乙烯基醚化合物的情况相比, 所述聚酰亚胺前体组合物能够使其更容易调 整聚酰胺成型体的机械强度。 说 明 书 CN 103289401 A 6 4/24 页 7 0035 根据本发明的第十三方面, 提供了一种聚酰亚胺成型体, 与聚酰亚胺成型体是使 用不包含含有。
23、由式 (1) 表示的重复单元的聚酰亚胺前体和 pH 为 5.0 以下的酸性炭黑的聚 酰亚胺前体组合物制造的情况相比, 所述聚酰亚胺成型体中炭黑能够显示更高的分散性。 0036 根据本发明的第十四方面, 提供了一种图像形成装置, 与装置配备有包含由不包 含含有由式 (1) 表示的重复单元的聚酰亚胺前体和 pH 为 5.0 以下的酸性炭黑的聚酰亚胺 前体组合物成型的环状带的中间转印体的情况相比, 所述图像形成装置能够进一步抑制图 像的浓度不均匀。 附图说明 0037 将基于以下附图详细地描述本发明的示例性实施方式, 其中 : 0038 图 1 是显示本发明示例性实施方式的图像形成装置实例的构造示意。
24、图。 0039 图 2A 和 2B 分别是显示圆形电极实例的平面示意图和截面示意图。 具体实施方式 0040 下文中, 将详细地描述本发明的示例性实施方式。 0041 聚酰亚胺前体组合物 0042 本示例性实施方式的聚酰亚胺前体组合物包含 : 含有由下式 (1) 表示的重复单元 的聚酰亚胺前体、 溶剂和 pH 为 5.0 以下的酸性炭黑。 0043 0044 式 (1) 中, R1表示四价有机基团, R2表示二价有机基团。R3和 R4各自独立地表示 一价有机基团或氢, 并且 R3和 R4不同时为氢。 0045 本发明人已经发现, 通过使用将半缩醛化的聚酰胺酸和pH为5.0以下的酸性炭黑 共存于。
25、溶剂中而获得的聚酰亚胺前体组合物, 能够获得其中炭黑显示高分散性的聚酰胺成 型体。理由虽然尚不清楚, 但推定如下。 0046 与未修饰的聚酰胺酸相比, 半缩醛化的聚酰胺酸表现出更高的分散稳定性。原因 是未修饰的聚酰胺酸的羧基和用作导电性材料的酸性炭黑表面的活性点之间作用有斥力, 而在半缩醛化的聚酰胺酸中不容易形成斥力。除此之外, 由于酸性炭黑表面的活性点与聚 酰胺酸主链的酰胺基的 -NH- 基团之间的相互作用, 分散状态反而稳定。 0047 此外, 对于聚酰胺酸链的端基结构, 通过使用经与酸性炭黑相互作用可容易地实 现较高分散稳定性的氨基, 聚酰亚胺前体组合物的稳定性进一步改善, 这能够进行长。
26、期贮 存。此外, 即使在诸如 N- 甲基 -2- 吡咯烷酮 (NMP) 和二甲基乙酰胺 (DMAc) 等含有氮原子 的溶液中, 所述组合物也可以稳定。 说 明 书 CN 103289401 A 7 5/24 页 8 0048 另外, 通过使酸性炭黑共存, 在溶剂或离去基团 (eliminative group) 挥发时, 干 燥的膜表面变平。因此, 抑制了厚膜的表面粗糙化, 所以能够获得高品质的聚酰亚胺成型 体。 0049 由于作为导电性材料的炭黑的高分散性, 即使在酰亚胺环闭合时也可抑制炭黑的 聚集, 因此改善了所获得的聚酰亚胺成型体的表面均匀性, 并且由于动态应力形成的破裂 起始点的数量减。
27、少而改善了机械强度。此外, 由于炭黑在聚酰亚胺成型体中的聚集得到抑 制, 因此电阻特性的均匀性得到增强, 而且电稳定性 ( 其中即使在重复施加电压和电流时 电特性也不变化 ) 得到改善。 0050 当利用炭黑的遮光性时, 即使组合少量炭黑时也获得了高遮蔽效果。 0051 此外, 降低了聚酰亚胺进行成型处理时造成的对被涂布材料(基材)的损伤, 并且 还可以延长基材和基材表面上形成的防粘层的寿命。 0052 聚酰亚胺前体 0053 本示例性实施方式的聚酰亚胺前体具有含有由下式 (1) 表示的重复单元的结构。 0054 0055 式 (1) 中, R1表示四价有机基团, R2表示二价有机基团。R3和。
28、 R4各自独立地表示 一价有机基团或氢, 并且 R3和 R4不同时为氢。 0056 式 (1) 中, 由 R1表示的四价有机基团是通过从作为原料的四羧酸二酸酐除去 四个羰基而获得的残基。相应的四羧酸的具体实例包括 3,3 ,4,4 - 联苯基四羧酸、 2,3,3 ,4 - 联苯基四羧酸、 均苯四酸和 3,3 ,4,4 - 二苯基醚四羧酸等。 0057 其中, 优选 3,3 ,4,4 - 联苯基四羧酸。 0058 式 (1) 中, 由 R2表示的二价有机基团是通过从作为原料的二胺化合物除去两个氨 基而获得的残基结构。 相应的二胺化合物的具体实例包括4,4 -二氨基二苯基醚、 3,4 -二 氨基二。
29、苯基醚、 对苯二胺和间苯二胺等。 0059 其中, 优选 4,4 - 二氨基二苯基醚和对苯二胺。 0060 聚酰亚胺前体的侧链结构是添加有对应于羧基的乙烯基醚化合物的半缩醛结构。 由R3表示的一价有机基团是1-烷氧基乙基, 并且其具体实例包括1-甲基烷氧基乙基、 1-乙 基烷氧基乙基、 1- 丙基烷氧基乙基、 1- 丁基烷氧基乙基、 1- 戊基烷氧基乙基和 1- 环己基烷 氧基乙基等。其中, 优选 1- 甲基烷氧基乙基、 1- 乙基烷氧基乙基和 1- 环己基烷氧基乙基。 0061 由 R4表示的一价有机基团的实例包括由 R3表示的一价有机基团和氢。其中, 优选 1- 甲基烷氧基乙基、 1- 乙。
30、基烷氧基乙基、 1- 环己基烷氧基乙基和氢。 0062 本示例性实施方式的聚酰亚胺前体具有如式 (1) 所示的、 通过将聚酰胺酸结构的 羧基酯化而形成的结构。 说 明 书 CN 103289401 A 8 6/24 页 9 0063 酯化的聚酰胺酸结构在聚酰胺前体中源自聚酰胺酸的重复单元中的比例优选为 50 摩尔 % 100 摩尔 %。当酯化的聚酰胺酸结构的比例为 50 摩尔 % 以上时, 聚酰亚胺前体 的内聚力变弱, 这使得容易将该前体溶解于酮类溶剂、 酯类溶剂、 醚类溶剂和烃类溶剂中。 0064 在本示例性实施方式的聚酰亚胺前体中, 考虑到关于制备成型体的可处理性和所 获得的成型体的强度和。
31、耐久性, 由式 (1) 表示的重复单元的重复数量优选为 3 200, 更优 选为 25 150。 0065 本示例性实施方式的聚酰亚胺前体的分子量优选为 1,000 70,000, 更优选为 10,000 50,000。 0066 本示例性实施方式的聚酰亚胺前体的酯化如以下反应式 (1) 所示, 通过使乙烯基 醚化合物作用于聚酰胺酸的羧基而进行。在以下反应式中, Rx表示一价有机基团。 0067 反应式 (1) 0068 0069 在以上反应中无需使用诸如酸或碱等催化剂, 该反应在室温下定量进行。通过使 乙烯基醚化合物作用于羧基而获得的酯变成半缩醛结构。 显示酸性的聚酰胺酸的羧酸结构 通过用乙。
32、烯基化合物进行半缩醛化而封闭, 由此减小了该结构与酸性炭黑之间的电斥力, 并且改善了分散稳定性。 由于半缩醛化, 聚合物链之间的相互作用力减小, 因此聚酰胺酸溶 液的粘度降低。 此外, 该溶液的粘度随时间的变化减小, 因此该溶液作为涂布液的稳定性得 到改善。 0070 半缩醛化的聚酰胺酸在约 50加热时保持稳定, 并且实际中几乎不解离。另一方 面, 如果在等于或高于 60的温度下进行处理, 如以下反应式 (2) 所示, 乙烯基醚解离, 并 转变成聚酰胺酸, 然后引发酰亚胺化反应, 或者半缩醛化的聚酰胺酸直接引发脱醇, 由此使 聚酰胺酸转化成聚酰亚胺。 0071 说 明 书 CN 1032894。
33、01 A 9 7/24 页 10 0072 溶剂 0073 本示例性实施方式的聚酰亚胺前体组合物中包含的溶剂仅需要能够溶解半缩醛 化的聚酰胺酸即可。但是, 通过使本示例性实施方式的聚酰胺酸与乙烯基醚化合物反应而 获得的半缩醛化合物可因具有羟基结构的化合物而分解, 这将可能使所述组合物的稳定性 劣化。在这点上, 不具有羟基的溶剂比醇类溶剂更优选。 0074 此外, 考虑到在从本示例性实施方式的聚酰亚胺前体组合物制造聚酰亚胺成型体 时减少处理能量, 优选的是使用沸点为 150以下的溶剂。此外, 如果使用多种工业用途 ( 如用作涂布材料 ) 广泛使用的通用溶剂, 则能够获得廉价的聚酰亚胺前体组合物。。
34、 0075 当由本示例性实施方式的聚酰亚胺前体组合物制造聚酰亚胺成型体时, 如果使用 不容易残留在膜中的溶剂, 则可以改善聚酰亚胺成型体的强度、 耐久性和稳定性。 0076 具体而言, 合适的是酮类溶剂、 醚类溶剂、 酯类(内酯类)溶剂、 烃类溶剂和含氮原 子溶剂。 0077 作为酮类溶剂, 适合使用丙酮、 甲基乙基酮、 甲基异丁基酮、 DIBK( 二异丁基酮 ) 和 环己酮。 0078 醚类溶剂的实例包括二烷和四氢呋喃等。 0079 酯类溶剂的实例包括乙酸乙酯、 乙酸甲酯、 乙酸丁酯、 乙酸甲氧基丁酯、 乙酸溶纤 剂、 乙酸戊酯、 乙酸正丙酯、 乙酸异丙酯、 乳酸甲酯、 乳酸乙酯和乳酸丁酯等。
35、。内酯类溶剂的 实例包括 - 丁内酯和 - 己内酯等。 0080 烃类溶剂的实例包括甲苯、 二甲苯、 溶剂石脑油、 正己烷、 异己烷、 环己烷、 甲基环 己烷、 正庚烷、 异辛烷和正癸烷等。 0081 含氮原子溶剂的实例包括 N- 甲基 -2- 吡咯烷酮 (NMP)、 N- 乙基 -2- 吡咯烷酮 (NEP)、 N- 乙烯基吡咯烷酮、 二甲基乙酰胺 (DMAc) 和 1,3- 二甲基 -2- 咪唑啉酮 (DMI) 等。 说 明 书 CN 103289401 A 10 8/24 页 11 0082 pH 为 5.0 以下的酸性炭黑 0083 本示例性实施方式的聚酰亚胺前体组合物包含 pH 为 5。
36、.0 以下的酸性炭黑作为导 电性材料。 0084 pH 为 5.0 以下的酸性炭黑的实例包括其表面经过氧化处理的炭黑, 例如通过对其 表面赋予羧基、 醌基、 内酯基或羟基等而获得的炭黑。 0085 如果使用本示例性实施方式的聚酰亚胺前体组合物来形成例如电子照相型图像 形成装置中的中间转印带, 考虑到电阻随时间的稳定性和抑制由转印电压引起的电场集中 的电场依赖性, 优选 pH 为 4.5 以下的炭黑, 更优选 pH 为 4.0 以下的酸性炭黑。. 0086 在本示例性实施方式中, 炭黑的 pH 为通过 JIS Z8802(2011) 规定的 pH 测定方法 测定的值。 0087 作为市售实例, 。
37、pH为5.0以下的酸性炭黑的实例包括SPECIAL BLACK4(由Degussa 制造, pH4.0)、 由 Degussa 制造的 “Printex150T” (pH4.5, 挥发物含量 10.0%)、“SPECIAL BLACK350” (pH3.5, 挥发物含量 2.2%)、“SPECIAL BLACK100” (pH3.3, 挥发物含量 2.2%)、 “SPECIAL BLACK250” (pH3.1, 挥发物含量 2.0%)、“SPECIAL BLACK5” (pH3.0, 挥发物含 量 15.0%)、“SPECIAL BLACK4” (pH3.0, 挥发物含量 14.0%)、“S。
38、PECIAL BLACK4A” (pH3.0, 挥 发 物 含 量 14.0%)、“SPECIAL BLACK550” (pH2.8,挥 发 物 含 量 2.5%)、“SPECIAL BLACK6” (pH2.5, 挥发物含量 18.0%)、“COLOR BLACK FW200” (pH2.5, 挥发物含量 20.0%)、 “COLOR BLACK FW2” (pH2.5, 挥发物含量 16.5%) 和 “COLOR BLACK FW2V” (pH2.5, 挥发物 含量 16.5%)、 由 Cabot Corporation 制造的 “MONARCH1000” (pH2.5, 挥发物含量 9.。
39、5%), “MONARCH1300” (pH2.5, 挥发物含量 9.5%),“MONARCH1400” (pH2.5, 挥发物含量 9.0%)、 “MOGUL-L” (pH2.5, 挥发物含量 5.0%) 和 “REGAL400R” (pH4.0, 挥发物含量 3.5%) 等。 0088 当pH为5.0以下的酸性炭黑具有颗粒形状时, 其一次粒径优选小于10m, 更优选 为 1m 以下。 0089 pH 为 5.0 以下的酸性炭黑的含量取决于使用本示例性实施方式的聚酰亚胺前体 组合物形成的聚酰亚胺成型体的应用。 但是, 考虑到成型性和所获得的成型体的外观品质、 机械品质和电品质, 相对于 10。
40、0 重量份本示例性实施方式的聚酰亚胺前体组合物中的全部 树脂成分, 该含量优选为 1 重量份 40 重量份, 更优选为 10 重量份 30 重量份。 0090 其它添加剂 0091 出于对使用所述组合物制造的聚酰亚胺成型体赋予诸如导电性和机械强度等 各种功能的目的, 本示例性实施方式的聚酰亚胺前体组合物可以含有各种填料等。组合 物还可以含有用于促进酰亚胺化反应的催化剂和用于改善所制造的膜品质的整平材料 (leveling material) 等。 0092 作为赋予导电性而添加的材料, 除 pH 为 5.0 以下的酸性炭黑之外的导电性材 料 ( 下文中, 也称为 “其它导电性材料” ) 的实例。
41、包括具有导电性 ( 例如体积电阻率小于 107cm, 下文中同样适用 ) 或半导电性 ( 例如, 体积电阻率为 107cm 1013cm, 下文中同样适用 ), 并且根据使用目的选择材料。 0093 导电性材料的实例包括 pH 超过 5.0 的炭黑 ( 例如, 科琴黑和乙炔黑 )、 金属 ( 例 如, 铝和镍等 )、 金属氧化物 ( 例如氧化钇和二氧化锡等 )、 离子导电性材料 ( 例如, 钛酸钾 和 LiCl 等 ) 和导电性聚合物 ( 例如, 聚苯胺、 聚吡咯、 聚砜和聚乙炔等 )。考虑到赋予电耐 说 明 书 CN 103289401 A 11 9/24 页 12 久性, 优选导电性聚合物。
42、 ( 例如聚苯胺等 )。 0094 以上其它导电性材料可以单独使用或两种以上组合使用。 0095 当其它导电性材料具有颗粒形状时, 其一次粒径优选小于 10m, 更优选为 1m 以下。 0096 为改善机械强度而添加的填料的实例包括颗粒状材料, 如二氧化硅粉末、 氧化铝 粉末、 硫酸钡粉末、 二氧化钛粉末、 云母和滑石。为改善聚酰亚胺成型体表面的斥水性和防 粘性, 可以添加诸如 PTFE 和 PFA 等氟树脂。 0097 作为用于促进酰亚胺反应的催化剂, 可以使用有机胺催化剂、 如酸酐等脱水剂、 酚 衍生物和如硫酸衍生物和苯甲酸衍生物等酸催化剂。 0098 为改善由聚酰亚胺成型体形成的膜品质,。
43、 可以添加表面活性剂, 并且作为表面活 性剂, 可以使用任意的阳离子型表面活性剂、 阴离子型表面活性剂和非离子型表面活性剂。 0099 上述其它添加剂的含量可以根据所制造的聚酰亚胺成型体的使用目的进行选择。 0100 聚酰亚胺前体组合物的制造方法 0101 本示例性实施方式的聚酰亚胺前体组合物通过以下方式获得 : 将pH为5.0以下的 炭黑添加到通过将聚酰亚胺前体溶解于溶剂中而获得的溶液中, 所述聚酰亚胺前体通过对 聚酰胺酸的羧基进行酯化而形成。 0102 例如, 在四羧酸化合物和二胺化合物于溶剂中反应之后, 或当二者正在反应时, 通 过使用乙烯基醚化合物等可以获得使所生成的聚酰胺酸的羧基酯化。
44、而形成的聚酰胺酸前 体, 并且可以添加 pH 为 5.0 以下的炭黑。该方法的具体实例包括 : 通过以下方法 1 4 中 的任一种获得聚酰亚胺前体的溶液, 并且将 pH 为 5.0 以下的炭黑添加至所述溶液中 ; 但是 本发明不限于这些方法。 0103 方法 1 0104 使四羧酸二酸酐和二胺化合物在诸如-BL(-丁内酯)等溶剂中反应以生成聚 酰胺酸, 然后使诸如乙烯基醚化合物等酯化剂进行反应, 由此生成聚酰亚胺前体。 将所生成 的聚酰亚胺前体从反应溶液中取出, 并溶于溶剂中, 向其添加pH为5.0以下的酸性炭黑, 由 此获得本示例性实施方式的聚酰亚胺前体组合物。 0105 方法 2 0106。
45、 使四羧酸二酸酐和二胺化合物在诸如 NMP 等溶剂中反应以生成聚酰胺酸。其后, 将聚酰胺酸从反应溶液中取出, 并添加至本示例性实施方式的溶剂中, 使诸如乙烯基醚化 合物等酯化剂进行反应, 由此生成并溶解聚酰亚胺前体。向其添加 pH 为 5.0 以下的酸性炭 黑, 由此获得本示例性实施方式的聚酰亚胺前体组合物。 0107 方法 3 0108 使四羧酸二酸酐和二胺化合物在本示例性实施方式的溶剂中反应以生成聚酰胺 酸, 然后使诸如乙烯基醚化合物等酯化剂进行反应, 由此生成聚酰亚胺前体。向其添加 pH 为 5.0 以下的酸性炭黑, 由此获得本示例性实施方式的聚酰亚胺前体组合物。 0109 方法 4 0。
46、110 将四羧酸二酸酐和二胺化合物添加至本示例性实施方式的溶剂中。其后, 在使诸 如乙烯基醚化合物等酯化剂进行反应的同时, 向其添加 pH 为 5.0 以下的酸性炭黑, 由此获 得本示例性实施方式的聚酰亚胺前体组合物。 说 明 书 CN 103289401 A 12 10/24 页 13 0111 以上方法中, 方法3和4是适合的, 因为其不需要在这些方法中进行取出聚酰胺酸 或聚酰亚胺前体的操作。考虑到溶剂中使用的聚酰胺酸或聚酰亚胺前体的溶解度和加工 性, 可以从以上方法中选择适宜的方法。 0112 聚酰胺酸 0113 用于获得本示例性实施方式的聚酰亚胺前体的聚酰胺酸优选含有在其末端具有 至少。
47、一个氨基的聚酰胺酸, 更优选的是, 所述聚酰胺酸在所有末端都具有氨基。 0114 为了对聚酰亚胺前体分子的两末端赋予氨基, 在聚合反应过程中使用的二胺化合 物添加的摩尔当量高于四羧酸的摩尔当量。相对于设定为 1 的四羧酸的摩尔当量, 二胺化 合物与四羧酸的摩尔当量比优选为 1.0001 1.2, 更优选为 1.001 1.2。 0115 如果二胺化合物与四羧酸的摩尔当量比为 1.0001 以上, 分子的两末端上的氨基 将产生更大的作用, 因此获得优良的分散性。如果摩尔当量比为 1.2 以下, 所获得的聚酰胺 酸的分子量增大, 因此例如在形成膜状聚酰亚胺成型体时容易获得足够的膜强度 ( 撕裂强 。
48、度和拉伸强度 )。 0116 作为聚酰亚胺树脂前体的聚酰胺酸树脂优选通过使芳香族四羧酸二酸酐和芳香 族二胺发生聚合反应而获得。 0117 四羧酸二酸酐 0118 可用于制造聚酰胺酸的四羧酸二酸酐没有特别限制, 可以使用任意的芳香族和脂 肪族化合物。 0119 芳香族四羧酸二酸酐的实例包括 : 均苯四酸二酸酐、 3,3,4,4- 二苯甲酮四羧酸 二酸酐、 3,3,4,4- 二苯砜四羧酸二酸酐、 1,4,5,8- 萘四羧酸二酸酐、 2,3,6,7- 萘四羧酸 二酸酐、 3,3,4,4- 二苯醚四羧酸二酸酐、 3,3,4,4- 二甲基二苯基硅烷四羧酸二酸酐、 3,3,4,4- 四苯基硅烷四羧酸二酸酐、 1,2,3,4- 呋喃四羧酸二酸酐、 4,4- 双 (3,4- 二 羧基苯氧基 ) 二苯硫醚二酸酐、 4,4- 双 (3,4- 二羧基苯氧基 ) 二苯砜二酸酐、 4,4- 双 (3,4-二羧基苯氧基)二苯基丙烷二酸酐、 3,3,4,4-全氟异亚丙基二邻苯二甲酸二酸酐、 3,3,4,4-联苯基四羧酸二酸酐、 双(邻苯二甲酸)苯基氧化膦二酸酐、 对亚苯基-双(三 苯基邻苯二甲酸 ) 二酸酐、 间亚苯基 - 双 ( 三苯基邻苯二甲酸 ) 二酸酐、 双 ( 三苯基邻苯二 甲酸 )-4,4- 二苯基醚二酸酐和双 ( 三苯基邻苯。