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一种用于将流体介质涂敷到材料幅上的设备,所述设备包括涂敷表面和至少一个分离单元,其中该材料幅能够在整个涂敷表面上被引导,并在涂敷表面的至少一个接触区域中与涂敷表面接触。该流体介质可被涂敷到接触区域(5)中的材料幅上。分离单元覆盖或遮盖涂敷表面上的遮盖区域。材料幅可在附加条件下在整个涂敷表面进给,该附加条件为在遮盖区域内,材料幅和涂敷表面之间不发生接触。借助于至少布置在分离单元的支撑部分中的至少一个。