干蚀刻清洗剥离防护液.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201410457140.1

申请日:

2014.09.10

公开号:

CN104195576A

公开日:

2014.12.10

当前法律状态:

实审

有效性:

审中

法律详情:

实质审查的生效IPC(主分类):C23G 1/00申请日:20140910|||公开

IPC分类号:

C23G1/00; C23F4/00

主分类号:

C23G1/00

申请人:

昆山欣谷微电子材料有限公司

发明人:

曹大妹

地址:

215341 江苏省苏州市昆山市千灯镇秦峰北路219号

优先权:

专利代理机构:

代理人:

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内容摘要

本发明涉及干蚀刻清洗剥离防护液,主要由乙醇胺、氨基酸、有机溶剂组成,其中,各组份之间的比例为乙醇胺:氨基酸:有机溶剂=20~30:0.1~10:65~75。本发明所述干蚀刻清洗剥离防护液的有益效果主要有:在干蚀刻清洗剂或剥离液中可以很简单地消除或减少铝金属的腐蚀,而且不会对环境造成不良影响,同时配方简单,易混合,而且成本低廉,使用温度易控。经试验,该干蚀刻清洗剥离防护液安全无毒,即可以达到防止或减少铝金属在干蚀刻过程中的腐蚀,又可以达到环保要求,同时配方简单,易混合,而且成本低廉,使用温度易控。

权利要求书

1.  干蚀刻清洗剥离防护液,主要由乙醇胺、氨基酸、有机溶剂组成,其中,各组份之间的比例为乙醇胺:氨基酸:有机溶剂=20~30:0.1~10:65~75。

2.
  根据权利要求1所述干蚀刻清洗剥离防护液,其特征在于所述有机溶剂为一种或两种有机溶剂混合组成。

3.
  根据权利要求1所述干蚀刻清洗剥离防护液,其特征在于所述有机溶剂为二甲基亚砜。

4.
  根据权利要求1所述干蚀刻清洗剥离防护液,其特征在于所述有机溶剂为二乙二醇丁醚。

5.
  根据权利要求1所述干蚀刻清洗剥离防护液,其特征在于所述氨基酸为油酸。

6.
  据权利要求1所述干蚀刻清洗剥离防护液,其特征在于所述干蚀刻清洗剥离防护液的使用温度为50℃~90℃。

7.
  干蚀刻清洗剥离防护液的制备方法,包括以下步骤:1、制备混合溶剂,将一或两种溶剂放入混合槽;2、添加乙醇胺,在步骤1中的混合溶剂中边通风搅拌边加入乙醇胺;3、添加氨基酸,在步骤2中的混合溶液中加入氨基酸,继续通风搅拌30分钟;4、将步骤2中的混合溶液经过0.2μm过滤。

8.
  根据权利要求7所述干蚀刻清洗剥离防护液的制备方法,其特征在于所述步骤1、步骤2、步骤3均在非金属单一材质的混合槽中进行。

说明书

干蚀刻清洗剥离防护液
技术领域
    本发明涉及干蚀刻领域,具体是干蚀刻清洗剥离防护液。
背景技术
金属蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。金属蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。
通常所指金属蚀刻也称光化学金属蚀刻(photochemical etching),指通过曝光制版、显影后,将要金属蚀刻区域的保护膜去除,在金属蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。  最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版,也广泛地被使用于减轻重量(Weight Reduction)仪器镶板,铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工;经过不断改良和工艺设备发展,亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密金属蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,金属蚀刻更是不可或缺的技术。
在铝金属干蚀刻的技术上,铝金属的表面损坏是一个严重的问题,工业上现在有几种方式防止或减少铝金属的腐蚀,一是用温和的材料做防护剂,但通过无法彻底清除残余物质,二是用反腐剂,但通过的反腐剂材料是有毒性的,三是在清洗剥离过程中加PH控制材料减少腐蚀程度,但这样处理程度就会比较复杂了。目前还没有一种天然的化学产品 ,即可以达到防止或减少铝金属在干蚀刻过程中的腐蚀,又可以达到环保要求的干蚀刻清洗剥离专用的成分、生产工艺都比较简单的防护产品。
发明内容
本发明正是针对以上技术问题,提供一种天然的化学产品 ,即可以达到防止或减少铝金属在干蚀刻过程中的腐蚀,又可以达到环保要求的干蚀刻清洗剥离专用的成分、生产工艺都比较简单的防护产品。
干蚀刻清洗剥离防护液,主要由乙醇胺、氨基酸、有机溶剂组成,其中,各组份之间的比例为乙醇胺:氨基酸:有机溶剂=20~30:0.1~10:65~75。有机溶剂为一种或两种有机溶剂混合组成。有机溶剂为二甲基亚砜。有机溶剂为二乙二醇丁醚。氨基酸为油酸。干蚀刻清洗剥离防护液的使用温度为50℃~90℃。
本发明还提供干蚀刻清洗剥离防护液的制备方法,包括以下步骤:1、制备混合溶剂,将一或两种溶剂放入混合槽;2、添加乙醇胺,在步骤1中的混合溶剂中边通风搅拌边加入乙醇胺;3、添加氨基酸,在步骤2中的混合溶液中加入氨基酸,继续通风搅拌30分钟;4、将步骤2中的混合溶液经过0.2μm过滤。
本发明所述干蚀刻清洗剥离防护液的有益效果主要有:在干蚀刻清洗剂或剥离液中可以很简单地消除或减少铝金属的腐蚀,而且不会对环境造成不良影响,同时配方简单,易混合,而且成本低廉,使用温度易控。
经试验证明,将某些具有-COOH功能基团的其他有机酸取代本发明所述的氨基酸,虽然也能达到部分要求,但由于其来源及与金属之间的结合等多方面原因,综合性能比采用本发明所述氨基酸要稍差,因此,本发明选用氨基酸作为防护液主要成分。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步说明。
实施例
将甲基亚砜:二乙二醇丁醚:乙醇胺:油酸按45:28:25:2的比例准备好,先将甲基亚砜与二乙二醇丁醚制备成混合溶剂,在具有通风设备的非金属单一材质混合槽中充分混合,然后将乙醇胺在通风搅拌的情况下加入混合槽中的混合溶剂内,最后将油酸在通风搅拌的情况下加入混合槽,继续通风搅拌30分钟后,经0.2μm过滤后包装待用。
经试验,该干蚀刻清洗剥离防护液安全无毒,即可以达到防止或减少铝金属在干蚀刻过程中的腐蚀,又可以达到环保要求,同时配方简单,易混合,而且成本低廉,使用温度易控。

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资源描述

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1、10申请公布号CN104195576A43申请公布日20141210CN104195576A21申请号201410457140122申请日20140910C23G1/00200601C23F4/0020060171申请人昆山欣谷微电子材料有限公司地址215341江苏省苏州市昆山市千灯镇秦峰北路219号72发明人曹大妹54发明名称干蚀刻清洗剥离防护液57摘要本发明涉及干蚀刻清洗剥离防护液,主要由乙醇胺、氨基酸、有机溶剂组成,其中,各组份之间的比例为乙醇胺氨基酸有机溶剂203001106575。本发明所述干蚀刻清洗剥离防护液的有益效果主要有在干蚀刻清洗剂或剥离液中可以很简单地消除或减少铝金属的腐蚀。

2、,而且不会对环境造成不良影响,同时配方简单,易混合,而且成本低廉,使用温度易控。经试验,该干蚀刻清洗剥离防护液安全无毒,即可以达到防止或减少铝金属在干蚀刻过程中的腐蚀,又可以达到环保要求,同时配方简单,易混合,而且成本低廉,使用温度易控。51INTCL权利要求书1页说明书2页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书2页10申请公布号CN104195576ACN104195576A1/1页21干蚀刻清洗剥离防护液,主要由乙醇胺、氨基酸、有机溶剂组成,其中,各组份之间的比例为乙醇胺氨基酸有机溶剂203001106575。2根据权利要求1所述干蚀刻清洗剥离防护液,其特征在。

3、于所述有机溶剂为一种或两种有机溶剂混合组成。3根据权利要求1所述干蚀刻清洗剥离防护液,其特征在于所述有机溶剂为二甲基亚砜。4根据权利要求1所述干蚀刻清洗剥离防护液,其特征在于所述有机溶剂为二乙二醇丁醚。5根据权利要求1所述干蚀刻清洗剥离防护液,其特征在于所述氨基酸为油酸。6据权利要求1所述干蚀刻清洗剥离防护液,其特征在于所述干蚀刻清洗剥离防护液的使用温度为5090。7干蚀刻清洗剥离防护液的制备方法,包括以下步骤1、制备混合溶剂,将一或两种溶剂放入混合槽;2、添加乙醇胺,在步骤1中的混合溶剂中边通风搅拌边加入乙醇胺;3、添加氨基酸,在步骤2中的混合溶液中加入氨基酸,继续通风搅拌30分钟;4、将步。

4、骤2中的混合溶液经过02M过滤。8根据权利要求7所述干蚀刻清洗剥离防护液的制备方法,其特征在于所述步骤1、步骤2、步骤3均在非金属单一材质的混合槽中进行。权利要求书CN104195576A1/2页3干蚀刻清洗剥离防护液技术领域0001本发明涉及干蚀刻领域,具体是干蚀刻清洗剥离防护液。背景技术0002金属蚀刻ETCHING是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。金属蚀刻技术可以分为湿蚀刻WETETCHING和干蚀刻DRYETCHING两类。0003通常所指金属蚀刻也称光化学金属蚀刻(PHOTOCHEMICALETCHING),指通过曝光制版、显影后,将要金属蚀刻区域的保护膜去除,在金属蚀。

5、刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版,也广泛地被使用于减轻重量WEIGHTREDUCTION仪器镶板,铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工;经过不断改良和工艺设备发展,亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密金属蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,金属蚀刻更是不可或缺的技术。0004在铝金属干蚀刻的技术上,铝金属的表面损坏是一个严重的问题,工业上现在有几种方式防止或减少铝金属的腐蚀,一是用温和的材料做防护剂,但通过无法彻底清除残余物质,二是用反腐剂,但通过的反腐剂材料是有毒性的,三是在清洗剥离过程中加PH控制材料减。

6、少腐蚀程度,但这样处理程度就会比较复杂了。目前还没有一种天然的化学产品,即可以达到防止或减少铝金属在干蚀刻过程中的腐蚀,又可以达到环保要求的干蚀刻清洗剥离专用的成分、生产工艺都比较简单的防护产品。发明内容0005本发明正是针对以上技术问题,提供一种天然的化学产品,即可以达到防止或减少铝金属在干蚀刻过程中的腐蚀,又可以达到环保要求的干蚀刻清洗剥离专用的成分、生产工艺都比较简单的防护产品。0006干蚀刻清洗剥离防护液,主要由乙醇胺、氨基酸、有机溶剂组成,其中,各组份之间的比例为乙醇胺氨基酸有机溶剂203001106575。有机溶剂为一种或两种有机溶剂混合组成。有机溶剂为二甲基亚砜。有机溶剂为二乙二。

7、醇丁醚。氨基酸为油酸。干蚀刻清洗剥离防护液的使用温度为5090。0007本发明还提供干蚀刻清洗剥离防护液的制备方法,包括以下步骤1、制备混合溶剂,将一或两种溶剂放入混合槽;2、添加乙醇胺,在步骤1中的混合溶剂中边通风搅拌边加入乙醇胺;3、添加氨基酸,在步骤2中的混合溶液中加入氨基酸,继续通风搅拌30分钟;4、将步骤2中的混合溶液经过02M过滤。0008本发明所述干蚀刻清洗剥离防护液的有益效果主要有在干蚀刻清洗剂或剥离液中可以很简单地消除或减少铝金属的腐蚀,而且不会对环境造成不良影响,同时配方简单,易混合,而且成本低廉,使用温度易控。0009经试验证明,将某些具有COOH功能基团的其他有机酸取代。

8、本发明所述的氨基酸,虽然也能达到部分要求,但由于其来源及与金属之间的结合等多方面原因,综合性能比说明书CN104195576A2/2页4采用本发明所述氨基酸要稍差,因此,本发明选用氨基酸作为防护液主要成分。具体实施方式0010下面结合具体实施例对本发明作进一步说明。实施例0011将甲基亚砜二乙二醇丁醚乙醇胺油酸按4528252的比例准备好,先将甲基亚砜与二乙二醇丁醚制备成混合溶剂,在具有通风设备的非金属单一材质混合槽中充分混合,然后将乙醇胺在通风搅拌的情况下加入混合槽中的混合溶剂内,最后将油酸在通风搅拌的情况下加入混合槽,继续通风搅拌30分钟后,经02M过滤后包装待用。0012经试验,该干蚀刻清洗剥离防护液安全无毒,即可以达到防止或减少铝金属在干蚀刻过程中的腐蚀,又可以达到环保要求,同时配方简单,易混合,而且成本低廉,使用温度易控。说明书CN104195576A。

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