一种用于真空镀膜的屏蔽箱.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201310430022.7

申请日:

2013.09.22

公开号:

CN103451617A

公开日:

2013.12.18

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法律详情:

授权|||专利申请权的转移IPC(主分类):C23C 14/56登记生效日:20160229变更事项:申请人变更前权利人:无锡启晖光电科技有限公司变更后权利人:江苏宜达新材料科技股份有限公司变更事项:地址变更前权利人:214174 江苏省无锡市惠山经济开发区慧谷创业园B区行知路39-37-101变更后权利人:214213 江苏宜兴经济技术开发区创业园二期A5栋|||实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/56申请日:20130922|||公开

IPC分类号:

C23C14/56

主分类号:

C23C14/56

申请人:

无锡启晖光电科技有限公司

发明人:

王朝阳; 宫睿

地址:

214174 江苏省无锡市惠山经济开发区慧谷创业园B区行知路39-37-101

优先权:

专利代理机构:

南京天华专利代理有限责任公司 32218

代理人:

徐冬涛

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内容摘要

本发明公开了一种用于真空镀膜的屏蔽箱,包括外壳(1)和屏蔽片(2),其特征在于所述的外壳(1)内设有多个独立设置的屏蔽片(2),屏蔽片(2)相互之间平行设置且每个屏蔽片(2)上皆设有多个通孔(3)。本发明采用的屏蔽箱,由于具有多个独立的屏蔽片且每个屏蔽片上具有多个空孔,可以在多次镀膜或长时间镀膜中有效吸附金属层,金属残渣也不会掉落在被镀工件上,从而减少了被镀工件的镀膜缺陷,达到改善镀膜膜层光学和机械性能的目的;且相互独立的屏蔽片易抽取分离和单独清洗,有效的减少了不必要的人力物力损失,具有结构简单、使用方便且吸附效率高的特点,可以根据需要单独或组合地安装在镀膜腔室内镀膜源附近适当的位置。

权利要求书

权利要求书
1.  一种用于真空镀膜的屏蔽箱,包括外壳(1)和屏蔽片(2),其特征在于所述的外壳(1)内设有多个独立设置的屏蔽片(2),屏蔽片(2)相互之间平行设置且每个屏蔽片(2)上皆设有多个通孔(3)。

2.  根据权利要求1所述的用于真空镀膜的屏蔽箱,其特征在于所述的外壳(1)呈“凵”形且外壳(1)的内壁上设有沟槽,每个屏蔽片(2)皆沿相应的沟槽插入外壳(1)内。

3.  根据权利要求1所述的用于真空镀膜的屏蔽箱,其特征在于所述的通孔(3)均匀分布在屏蔽片(2)且任两个屏蔽片(2)上的通孔(3)皆相互对应。

4.  根据权利要求1所述的用于真空镀膜的屏蔽箱,其特征在于所述的外壳(1)和屏蔽片(2)采用钢材、铜材、铝材或合金材料制成。

说明书

说明书一种用于真空镀膜的屏蔽箱
技术领域
 本发明涉及镀膜技术领域,具体地说是一种增强镀膜腔室对金属层的吸附能力并防止在镀膜过程中金属残渣掉落在被镀工件上的用于真空镀膜的屏蔽箱。
背景技术
在真空镀膜过程中,由镀膜源发出的金属蒸汽被沉积到被镀工件的同时,也会部分溅射到镀膜腔室的内壁上,久而久之造成腔室内壁上金属层的累积,这些金属层一方面会影响到腔室的工作效果,另一方面清理起来很不容易,造成不必要的人力物力损失。而且随着镀膜次数或时间的增加,镀膜腔室内壁上沉积的金属层也越来越厚,而这些金属层在腔壁表面附着并不稳固,在镀膜过程中金属残渣就非常容易掉落在被镀工件上,造成被镀工件的镀膜缺陷。
发明内容
本发明的目的是针对现有技术的不足,本发明提供一种增强镀膜腔室对金属层的吸附能力并防止在镀膜过程中金属残渣掉落在被镀工件上的用于真空镀膜的屏蔽箱。
本发明的目的是通过以下技术方案解决的:
一种用于真空镀膜的屏蔽箱,包括外壳和屏蔽片,其特征在于所述的外壳内设有多个独立设置的屏蔽片,屏蔽片相互之间平行设置且每个屏蔽片上皆设有多个通孔。
所述的外壳呈“凵”形且外壳的内壁上设有沟槽,每个屏蔽片皆沿相应的沟槽插入外壳内。
所述的通孔均匀分布在屏蔽片且任两个屏蔽片上的通孔皆相互对应。
所述的外壳和屏蔽片采用钢材、铜材、铝材或合金材料制成。
本发明相比现有技术有如下优点:
本发明采用的屏蔽箱,由于具有多个独立的屏蔽片且每个屏蔽片上具有多个空孔,可以在多次镀膜或长时间镀膜中有效吸附金属层,金属残渣也不会掉落在被镀工件上,从而减少了被镀工件的镀膜缺陷,达到改善镀膜膜层光学和机械性能的目的;该屏蔽箱可以根据需要单独或组合地安装在镀膜腔室内镀膜源附近适当的位置。
本发明的屏蔽箱内具有多个相互独立的屏蔽片,可以根据需要抽取分离和单独清洗,有效的减少了不必要的人力物力损失;具有结构简单、使用方便且吸附效率高的特点,适宜推广使用。
附图说明
附图1为本发明的结构示意图。
其中:1—外壳;2—屏蔽片;3—通孔。
具体实施方式
下面结合附图与实施例对本发明作进一步的说明。
如图1所示:一种用于真空镀膜的屏蔽箱,包括外壳1和屏蔽片2,外壳,1和屏蔽片2采用钢材、铜材、铝材或合金材料制成,在外壳1内设有多个独立设置的屏蔽片2,屏蔽片2相互之间平行设置且每个屏蔽片2上皆设有多个通孔3,通孔3均匀分布在屏蔽片2且任两个屏蔽片2上的通孔3皆相互对应。具体地说,外壳1呈“凵”形且外壳1的内壁上设有沟槽,每个屏蔽片2皆沿相应的沟槽插入外壳1内。
本发明采用的屏蔽箱,由于具有多个独立的屏蔽片2且每个屏蔽片2上具有多个空孔3,可以在多次镀膜或长时间镀膜中有效吸附金属层,金属残渣也不会掉落在被镀工件上,从而减少了被镀工件的镀膜缺陷,达到改善镀膜膜层光学和机械性能的目的;多个相互独立的屏蔽片2可以根据需要抽取分离和单独清洗,有效的减少了不必要的人力物力损失;具有结构简单、使用方便且吸附效率高的特点,故该屏蔽箱可以根据需要单独或组合地安装在镀膜腔室内镀膜源附近适当的位置。
以上实施例仅为说明本发明的技术思想,不能以此限定本发明的保护范围,凡是按照本发明提出的技术思想,在技术方案基础上所做的任何改动,均落入本发明保护范围之内;本发明未涉及的技术均可通过现有技术加以实现。

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资源描述

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1、(10)申请公布号 CN 103451617 A (43)申请公布日 2013.12.18 CN 103451617 A *CN103451617A* (21)申请号 201310430022.7 (22)申请日 2013.09.22 C23C 14/56(2006.01) (71)申请人 无锡启晖光电科技有限公司 地址 214174 江苏省无锡市惠山经济开发区 慧谷创业园 B 区行知路 39-37-101 (72)发明人 王朝阳 宫睿 (74)专利代理机构 南京天华专利代理有限责任 公司 32218 代理人 徐冬涛 (54) 发明名称 一种用于真空镀膜的屏蔽箱 (57) 摘要 本发明公开了一。

2、种用于真空镀膜的屏蔽箱, 包括外壳 (1) 和屏蔽片 (2) , 其特征在于所述的外 壳 (1) 内设有多个独立设置的屏蔽片 (2) , 屏蔽片 (2) 相互之间平行设置且每个屏蔽片 (2) 上皆设 有多个通孔 (3) 。本发明采用的屏蔽箱, 由于具 有多个独立的屏蔽片且每个屏蔽片上具有多个空 孔, 可以在多次镀膜或长时间镀膜中有效吸附金 属层, 金属残渣也不会掉落在被镀工件上, 从而减 少了被镀工件的镀膜缺陷, 达到改善镀膜膜层光 学和机械性能的目的 ; 且相互独立的屏蔽片易抽 取分离和单独清洗, 有效的减少了不必要的人力 物力损失, 具有结构简单、 使用方便且吸附效率高 的特点, 可以根据。

3、需要单独或组合地安装在镀膜 腔室内镀膜源附近适当的位置。 (51)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 2 页 附图 1 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书2页 附图1页 (10)申请公布号 CN 103451617 A CN 103451617 A *CN103451617A* 1/1 页 2 1. 一种用于真空镀膜的屏蔽箱, 包括外壳 (1) 和屏蔽片 (2) , 其特征在于所述的外壳 (1) 内设有多个独立设置的屏蔽片 (2) , 屏蔽片 (2) 相互之间平行设置且每个屏蔽片 (2) 上 皆设有多个通孔 (3) 。 2. 根据权利。

4、要求 1 所述的用于真空镀膜的屏蔽箱, 其特征在于所述的外壳 (1) 呈 “凵” 形且外壳 (1) 的内壁上设有沟槽, 每个屏蔽片 (2) 皆沿相应的沟槽插入外壳 (1) 内。 3. 根据权利要求 1 所述的用于真空镀膜的屏蔽箱, 其特征在于所述的通孔 (3) 均匀分 布在屏蔽片 (2) 且任两个屏蔽片 (2) 上的通孔 (3) 皆相互对应。 4. 根据权利要求 1 所述的用于真空镀膜的屏蔽箱, 其特征在于所述的外壳 (1) 和屏蔽 片 (2) 采用钢材、 铜材、 铝材或合金材料制成。 权 利 要 求 书 CN 103451617 A 2 1/2 页 3 一种用于真空镀膜的屏蔽箱 技术领域 0。

5、001 本发明涉及镀膜技术领域, 具体地说是一种增强镀膜腔室对金属层的吸附能力并 防止在镀膜过程中金属残渣掉落在被镀工件上的用于真空镀膜的屏蔽箱。 背景技术 0002 在真空镀膜过程中, 由镀膜源发出的金属蒸汽被沉积到被镀工件的同时, 也会部 分溅射到镀膜腔室的内壁上, 久而久之造成腔室内壁上金属层的累积, 这些金属层一方面 会影响到腔室的工作效果, 另一方面清理起来很不容易, 造成不必要的人力物力损失。 而且 随着镀膜次数或时间的增加, 镀膜腔室内壁上沉积的金属层也越来越厚, 而这些金属层在 腔壁表面附着并不稳固, 在镀膜过程中金属残渣就非常容易掉落在被镀工件上, 造成被镀 工件的镀膜缺陷。。

6、 发明内容 0003 本发明的目的是针对现有技术的不足, 本发明提供一种增强镀膜腔室对金属层的 吸附能力并防止在镀膜过程中金属残渣掉落在被镀工件上的用于真空镀膜的屏蔽箱。 0004 本发明的目的是通过以下技术方案解决的 : 一种用于真空镀膜的屏蔽箱, 包括外壳和屏蔽片, 其特征在于所述的外壳内设有多个 独立设置的屏蔽片, 屏蔽片相互之间平行设置且每个屏蔽片上皆设有多个通孔。 0005 所述的外壳呈 “凵” 形且外壳的内壁上设有沟槽, 每个屏蔽片皆沿相应的沟槽插入 外壳内。 0006 所述的通孔均匀分布在屏蔽片且任两个屏蔽片上的通孔皆相互对应。 0007 所述的外壳和屏蔽片采用钢材、 铜材、 铝。

7、材或合金材料制成。 0008 本发明相比现有技术有如下优点 : 本发明采用的屏蔽箱, 由于具有多个独立的屏蔽片且每个屏蔽片上具有多个空孔, 可 以在多次镀膜或长时间镀膜中有效吸附金属层, 金属残渣也不会掉落在被镀工件上, 从而 减少了被镀工件的镀膜缺陷, 达到改善镀膜膜层光学和机械性能的目的 ; 该屏蔽箱可以根 据需要单独或组合地安装在镀膜腔室内镀膜源附近适当的位置。 0009 本发明的屏蔽箱内具有多个相互独立的屏蔽片, 可以根据需要抽取分离和单独清 洗, 有效的减少了不必要的人力物力损失 ; 具有结构简单、 使用方便且吸附效率高的特点, 适宜推广使用。 附图说明 0010 附图 1 为本发明。

8、的结构示意图。 0011 其中 : 1外壳 ; 2屏蔽片 ; 3通孔。 具体实施方式 说 明 书 CN 103451617 A 3 2/2 页 4 0012 下面结合附图与实施例对本发明作进一步的说明。 0013 如图 1 所示 : 一种用于真空镀膜的屏蔽箱, 包括外壳 1 和屏蔽片 2, 外壳 ,1 和屏蔽 片 2 采用钢材、 铜材、 铝材或合金材料制成, 在外壳 1 内设有多个独立设置的屏蔽片 2, 屏蔽 片2相互之间平行设置且每个屏蔽片2上皆设有多个通孔3, 通孔3均匀分布在屏蔽片2且 任两个屏蔽片 2 上的通孔 3 皆相互对应。具体地说, 外壳 1 呈 “凵” 形且外壳 1 的内壁上设。

9、 有沟槽, 每个屏蔽片 2 皆沿相应的沟槽插入外壳 1 内。 0014 本发明采用的屏蔽箱, 由于具有多个独立的屏蔽片 2 且每个屏蔽片 2 上具有多个 空孔 3, 可以在多次镀膜或长时间镀膜中有效吸附金属层, 金属残渣也不会掉落在被镀工 件上, 从而减少了被镀工件的镀膜缺陷, 达到改善镀膜膜层光学和机械性能的目的 ; 多个相 互独立的屏蔽片 2 可以根据需要抽取分离和单独清洗, 有效的减少了不必要的人力物力损 失 ; 具有结构简单、 使用方便且吸附效率高的特点, 故该屏蔽箱可以根据需要单独或组合地 安装在镀膜腔室内镀膜源附近适当的位置。 0015 以上实施例仅为说明本发明的技术思想, 不能以此限定本发明的保护范围, 凡是 按照本发明提出的技术思想, 在技术方案基础上所做的任何改动, 均落入本发明保护范围 之内 ; 本发明未涉及的技术均可通过现有技术加以实现。 说 明 书 CN 103451617 A 4 1/1 页 5 图 1 说 明 书 附 图 CN 103451617 A 5 。

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