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1、(10)申请公布号 CN 103173721 A (43)申请公布日 2013.06.26 CN 103173721 A *CN103173721A* (21)申请号 201310099134.9 (22)申请日 2013.03.26 C23C 14/08(2006.01) C23C 14/30(2006.01) C23C 14/02(2006.01) C23C 14/58(2006.01) (71)申请人 东莞华清光学科技有限公司 地址 523861 广东省东莞市长安镇沙头南区 工业园 申请人 东莞劲胜精密组件股份有限公司 (72)发明人 龚玉根 吴小明 (74)专利代理机构 广州粤高专利商。
2、标代理有限 公司 44102 代理人 罗晓林 李志强 (54) 发明名称 一种不连续镜面白膜层的镀膜方法 (57) 摘要 本发明公开了一种不连续镜面白膜层的镀膜 方法， 该镀膜方法先在预镀产品上喷涂 UV 底漆膜 层， 然后分别以环保镀膜原材料 TiO2、 SiO2采用光 学真空镀膜技术， 在喷有 UV 底漆膜层的产品上先 后镀 SiO2膜层、 TiO2膜层、 SiO2膜层、 TiO2膜层、 SiO2膜层， 最后喷涂 UV 面漆完成镀膜。本发明根 据薄膜干涉原理， 以环保镀膜原材料 TiO2、 SiO2采 用光学真空镀膜技术， 根据手机塑料的具体特性， 设计并优化光学真空镀膜技术的各项参数， 。
3、使得 制备出的产品具有膜层附着力好、 金属质感强、 耐 候性能好、 抗机械强度好、 膜层暴露在空气中长时 间不易被氧化等优点。 本发明方法操作简单、 无污 染， 且制备工艺稳定， 适合批量化生产。 (51)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 5 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书5页 (10)申请公布号 CN 103173721 A CN 103173721 A *CN103173721A* 1/1 页 2 1. 一种不连续镜面白膜层的镀膜方法， 其具体步骤如下 ： （1） 、 喷涂 UV 底漆 在温度为 1035、 湿度为 3080。
4、% 的环境下， 先将待镀膜的产品放进涂装机中进行 前处理擦拭及自动化静电除尘 ； 调整喷枪气压为 2.03.5kg/cm2， 将 UV 底漆喷涂到产品 镀膜的面上 ； 然后将完成喷涂的产品放入烤箱中烘烤， 烘烤温度为 4050， 烘烤时间为 58min ； 最后将完成烘烤的产品过 UV 炉进行固化 ； （2） 、 光学真空镀膜镀制不连续镜面白不导电膜层 调整光学真空镀膜机的参数为镀膜真空度 3.010-3Pa、 基板加热温度为常温、 镀膜基 板旋转频率 50Hz、 电子枪的气压 -8KV、 TiO2的蒸发速率 4 埃 / 秒、 SiO2的蒸发速率 8 埃 / 秒， 分别以镀膜原材料 SiO2 。
5、、 TiO2采用光学真空镀膜技术对经过步骤 （1） 处理后的产品进 行镀膜， 先后依次镀 SiO2膜层、 TiO2膜层、 SiO2膜层、 TiO2膜层、 SiO2膜层 ； （3） 、 喷涂 UV 面漆 在温度为 535、 湿度为 3080% 的环境下， 将经过步骤 2 处理后的产品放进涂装机中 进行除尘 ； 调节喷枪气压 1.53.5kg/cm2， 将 UV 面漆喷涂到产品镀膜的面上 ； 然后将完成喷 涂的产品放入烤箱中烘烤， 烘烤温度为 7080， 烘烤时间为 58min ； 再将烘烤完成的产品 过 UV 炉进行固化， 完成不连续镜面白膜层的镀膜。 2.根据权利要求1所述的不连续镜面白膜层的。
6、镀膜方法， 其特征在于 ： 步骤 （1） 中所述 的涂装机为一号涂装机， 一号涂装机的线速为 1822Hz ； UV 底漆是采用粘度为 7.88.2s 的 底漆， UV 底漆的膜厚为 2125m 。 3.根据权利要求2所述的不连续镜面白膜层的镀膜方法， 其特征在于 ： 步骤 （1） 中所述 的 UV 炉包括 4 盏 UV 灯， 其中 3 盏开启功率密度大于 160W/cm 的强光， 1 盏开启功率密度为 120W/cm 的中光， UV 能量为 8001000mj/cm2。 4.根据权利要求3所述的不连续镜面白膜层的镀膜方法， 其特征在于 ： 步骤 （3） 中所述 的除尘步骤是先用静电除尘枪进行。
7、手动除尘， 再用离子静电除尘枪进行自动除尘。 5. 根据权利要求 4 所述的不连续镜面白膜层的镀膜方法， 其特征在于 ： 步骤 （3） 中所 述的涂装机为二号涂装机， 涂装机的线速为 1620Hz ； UV 面漆是采用粘度为 7.88.2s 的面 漆， UV 面层的膜厚为 2125m。 6.根据权利要求5所述的不连续镜面白膜层的镀膜方法， 其特征在于 ： 步骤 （3） 中所述 的UV炉包括4盏UV灯， 4盏UV灯开启功率密度大于160W/cm的强光， UV能量为9001100mj/ cm2。 7. 根据权利要求 16 中任一项所述的不连续镜面白膜层的镀膜方法， 其特征在于 ： 所 述的不连续镜。
8、面白膜层依次包括 UV 底漆膜层、 SiO2 膜层、 TiO2 膜层、 SiO2 膜层、 TiO2 膜层、 SiO2 膜层、 UV 面漆膜层 7 个膜层。 权 利 要 求 书 CN 103173721 A 2 1/5 页 3 一种不连续镜面白膜层的镀膜方法 技术领域 0001 本发明涉及真空镀膜技术领域， 具体涉及一种不连续镜面白膜层的镀膜方法。 背景技术 0002 近年来随着手机行业的飞速发展 , 功能已经不是消费者唯一追求的目标， 手机外 表也吸引着大众的目光， 因此， 拥有金属光泽和色彩的手机外壳成为手机装饰不可取代的 一部分。由于金属或者金属膜层的外壳会屏蔽手机发射的信号， 所以手机生。
9、产商希望能够 得到一种既拥有金属效果又不会影响手机信号的手机外壳， 目前国内用铟锡合金原料通过 真空镀膜方法来制备手机外壳的不连续膜层， 该方法制备出的膜层附着力不好、 抗机械强 度弱、 耐候性能差、 金属质感弱。 发明内容 0003 本发明提出一种不连续镜面白膜层的镀膜方法， 这种方法镀膜的产品膜层附着力 好、 金属质感强、 耐候性能好、 抗机械强度好。 0004 为了解决上述技术问题， 本发明是通过以下技术方案实现的。 0005 一种不连续镜面白膜层的镀膜方法， 其具体步骤如下 ： （1） 、 喷涂 UV 底漆 在温度为 1035、 湿度为 3080% 的环境下， 先将待镀膜的产品放进涂装。
10、机中进行 前处理擦拭及自动化静电除尘 ； 调整喷枪气压为 2.03.5kg/cm2， 将 UV 底漆喷涂到产品 镀膜的面上 ； 然后将完成喷涂的产品放入烤箱中烘烤， 烘烤温度为 4050， 烘烤时间为 58min ； 最后将完成烘烤的产品过 UV 炉进行固化 ； （2） 、 光学真空镀膜镀制不连续镜面白不导电膜层 调整光学真空镀膜机的参数为镀膜真空度 3.010-3Pa、 基板加热温度为常温、 镀膜基 板旋转频率 50Hz、 电子枪的气压 -8KV、 TiO2的蒸发速率 4 埃 / 秒、 SiO2的蒸发速率 8 埃 / 秒， 分别以镀膜原材料 SiO2 、 TiO2采用光学真空镀膜技术对经过步。
11、骤 （1） 处理后的产品进 行镀膜， 先后依次镀 SiO2膜层、 TiO2膜层、 SiO2膜层、 TiO2膜层、 SiO2膜层 ； （3） 、 喷涂 UV 面漆 在温度为 535、 湿度为 3080% 的环境下， 将经过步骤 2 处理后的产品放进涂装机中 进行除尘 ； 调节喷枪气压 1.53.5kg/cm2， 将 UV 面漆喷涂到产品镀膜的面上 ； 然后将完成喷 涂的产品放入烤箱中烘烤， 烘烤温度为 7080， 烘烤时间为 58min ； 再将烘烤完成的产品 过 UV 炉进行固化， 完成不连续镜面白膜层的镀膜。 0006 该方法采用环保镀膜材料 TiO2、 SiO2做为镀膜原材料， 通过光学真。
12、空镀膜技术， 根 据手机塑料的具体特性， 设计并优化光学真空镀膜技术的各项参数， 使得制备得到的产品 具有膜层附着力好、 金属质感强、 耐候性能好、 抗机械强度好、 膜层暴露在空气中长时间不 易被氧化等优点。 0007 步骤 （1） 中所述的涂装机为一号涂装机， 一号涂装机的线速为 1822Hz ； UV 底漆 说 明 书 CN 103173721 A 3 2/5 页 4 是采用粘度为 7.88.2s 的底漆， UV 底漆的膜厚为 2125m 。 0008 步骤 （1） 中所述的 UV 炉包括 4 盏 UV 灯， 其中 3 盏开启功率密度大于 160W/cm 的 强光， 1 盏开启功率密度为 。
13、120W/cm 的中光， UV 能量为 8001000mj/cm2。 0009 步骤 （3） 中所述的除尘步骤是先用静电除尘枪进行手动除尘， 再用离子静电除尘 枪进行自动除尘。 0010 步骤 （3） 中所述的涂装机为二号涂装机， 涂装机的线速为 1620Hz ； UV 面漆是采用 粘度为 7.88.2s 的面漆， UV 面层的膜厚为 2125m。 0011 步骤 （3） 中所述的 UV 炉包括 4 盏 UV 灯， 4 盏 UV 灯开启功率密度大于 160W/cm 的 强光， UV 能量为 9001100mj/cm2。 0012 所述的不连续镜面白膜层依次包括 UV 底漆膜层、 SiO2 膜层。
14、、 TiO2 膜层、 SiO2 膜 层、 TiO2 膜层、 SiO2 膜层、 UV 面漆膜层 7 个膜层。 0013 与现有技术相比， 本发明的有益效果如下 ： 本发明根据薄膜干涉原理， 以环保镀膜原材料 TiO2、 SiO2采用光学真空镀膜技术， 根据 手机塑料的具体特性， 设计并优化光学真空镀膜技术的各项参数， 使得制备出的产品具有 膜层附着力好、 金属质感强、 耐候性能好、 抗机械强度好、 膜层暴露在空气中长时间不易被 氧化等优点。本发明方法操作简单、 设备要求低、 无污染， 且制备工艺稳定， 适合批量化生 产。 具体实施方式 0014 一种不连续镜面白膜层的镀膜方法， 其具体步骤如下 。
15、： （1） 、 喷涂 UV 底漆 在温度为 1035、 湿度为 3080% 的环境下， 先将待镀膜的产品放进涂装机中进行 前处理擦拭及自动化静电除尘 ； 调整喷枪气压为 2.03.5kg/cm2， 将 UV 底漆喷涂到产品 镀膜的面上 ； 然后将完成喷涂的产品放入烤箱中烘烤， 烘烤温度为 4050， 烘烤时间为 58min ； 最后将完成烘烤的产品过 UV 炉进行固化 ； （2） 、 光学真空镀膜镀制不连续镜面白不导电膜层 调整光学真空镀膜机的参数为镀膜真空度 3.010-3Pa、 基板加热温度为常温、 镀膜基 板旋转频率 50Hz、 电子枪的气压 -8KV、 TiO2的蒸发速率 4 埃 / 。
16、秒、 SiO2的蒸发速率 8 埃 / 秒， 分别以镀膜原材料 SiO2 、 TiO2采用光学真空镀膜技术对经过步骤 （1） 处理后的产品进 行镀膜， 先后依次镀 SiO2膜层、 TiO2膜层、 SiO2膜层、 TiO2膜层、 SiO2膜层 ； （3） 、 喷涂 UV 面漆 在温度为 535、 湿度为 3080% 的环境下， 将经过步骤 2 处理后的产品放进涂装机中 进行除尘 ； 调节喷枪气压 1.53.5kg/cm2， 将 UV 面漆喷涂到产品镀膜的面上 ； 然后将完成喷 涂的产品放入烤箱中烘烤， 烘烤温度为 7080， 烘烤时间为 58min ； 再将烘烤完成的产品 过 UV 炉进行固化， 。
17、完成不连续镜面白膜层的镀膜。 0015 该方法采用环保镀膜材料 TiO2、 SiO2做为镀膜原材料， 通过光学真空镀膜技术， 根 据手机塑料的具体特性， 设计并优化光学真空镀膜技术的各项参数， 使得制备得到的产品 具有膜层附着力好、 金属质感强、 耐候性能好、 抗机械强度好、 膜层暴露在空气中长时间不 易被氧化等优点。 说 明 书 CN 103173721 A 4 3/5 页 5 0016 步骤 （1） 中所述的涂装机为一号涂装机， 一号涂装机的线速为 1822Hz ； UV 底漆 是采用粘度为 7.88.2s 的底漆， UV 底漆的膜厚为 2125m 。 0017 步骤 （1） 中所述的 U。
18、V 炉包括 4 盏 UV 灯， 其中 3 盏开启功率密度大于 160W/cm 的 强光， 1 盏开启功率密度为 120W/cm 的中光， UV 能量为 8001000mj/cm2。 0018 步骤 （3） 中所述的除尘步骤是先用静电除尘枪进行手动除尘， 再用离子静电除尘 枪进行自动除尘。 0019 步骤 （3） 中所述的涂装机为二号涂装机， 涂装机的线速为 1620Hz ； UV 面漆是采用 粘度为 7.88.2s 的面漆， UV 面层的膜厚为 2125m。 0020 步骤 （3） 中所述的 UV 炉包括 4 盏 UV 灯， 4 盏 UV 灯开启功率密度大于 160W/cm 的 强光， UV 。
19、能量为 9001100mj/cm2。 0021 所述的不连续镜面白膜层依次包括 UV 底漆膜层、 SiO2 膜层、 TiO2 膜层、 SiO2 膜 层、 TiO2 膜层、 SiO2 膜层、 UV 面漆膜层 7 个膜层。 0022 为了本领域技术人员的理解， 以下通过具体实施例对本发明做进一步详述。 0023 实施例 1 本实施例是采用联合真空 2050 型镀膜机对手机壳体进行镀膜， 具体步骤如下 ： （1） 、 喷涂 UV 底漆 在温度为 10、 湿度为 30% 的环境下， 将待镀膜的产品放到一号涂装机的自动线上， 调 节一号涂装机的线速为 18Hz， 进行前处理擦拭及自动化静电除尘。调整喷枪。
20、气压为 2.0kg/ cm2， 然后将编号为 AK198、 油漆粘度为 7.8s 的 UV 底漆喷涂到产品镀膜的面上， UV 底漆的膜 厚为 21m。然后将完成喷涂的产品放入烤箱中烘烤， 烘烤温度为 40， 烘烤时间为 5min。 再将完成烘烤的产品过UV炉进行固化， 其中3盏开启功率密度大于160W/cm的强光， 1盏开 启功率密度为 120W/cm 的中光， UV 能量为 800mj/cm2。 0024 （2） 、 光学真空镀膜镀制不连续镜面白不导电膜层 调整光学真空镀膜机的参数为镀膜真空度 3.010-3Pa、 基板加热温度为常温、 镀膜基 板旋转频率 50Hz、 电子枪的气压 -8KV。
21、、 TiO2的蒸发速率 4 埃 / 秒、 SiO2的蒸发速率 8 埃 / 秒， 分别采用镀膜原材料 SiO2 、 TiO2通过光学真空镀膜技术对经过步骤 1 处理后的产品进 行镀膜， 先后依次镀 SiO2膜层、 TiO2膜层、 SiO2膜层、 TiO2膜层、 SiO2膜层， 其中 SiO2膜层 的膜厚为 7nm、 TiO2膜层的膜厚为 20nm、 SiO2膜层的膜厚为 10nm、 TiO2膜层的膜厚为 40nm、 SiO2膜层的膜厚为 7nm。 0025 （3） 、 喷涂 UV 面漆 在温度为 5、 湿度为 30% 的环境下， 将经过步骤 2 处理后的产品放到二号涂装机的自 动线上， 调节二号。
22、涂装机的线速为 16Hz， 用静电除尘枪进行手动除尘， 再用离子静电除尘枪 进行自动除尘。调节喷枪气压 1.5kg/cm2， 将编号为 AKS40 ： AKS409、 油漆粘度为 7.8s 的 UV 面漆喷涂到产品镀膜的面上， UV 面层的膜厚为 21m。然后将完成喷涂的产品放入烤箱中 烘烤， 烘烤温度为 70， 烘烤时间为 5min。再将烘烤完成的产品过 UV 炉进行固化， 完成不 连续镜面白膜层的镀膜。其中 UV 炉包括 4 盏 UV 灯， 4 盏 UV 灯开启功率密度大于 160W/cm 的强光， UV 能量为 900 mj/cm2。 0026 对本实施例的镀膜进行检测， 发现其膜层附着。
23、力好、 金属质感强、 耐候性能好、 抗 机械强度好， 且膜层暴露在空气中长时间不易被氧化。 说 明 书 CN 103173721 A 5 4/5 页 6 0027 实施例 2 本实施例是采用联合真空 2050 型镀膜机对手机壳体进行镀膜， 具体步骤如下 ： （1） 、 喷涂 UV 底漆 在温度为 20、 湿度为 50% 的环境下， 将待镀膜的产品放到一号涂装机的自动线上， 调节一号涂装机的线速为 20Hz， 进行前处理擦拭及自动化静电除尘。调整喷枪气压为 2.75kg/cm2， 然后将编号为AK198、 油漆粘度为8.0s的UV底漆喷涂到产品镀膜的面上， UV底 漆的膜厚为 23m。然后将完成。
24、喷涂的产品放入烤箱中烘烤， 烘烤温度为 45， 烘烤时间为 6.5min。再将完成烘烤的产品过 UV 炉进行固化， 其中 3 盏开启功率密度大于 160W/cm 的强 光， 1 盏开启功率密度为 120W/cm 的中光， UV 能量为 900mj/cm2。 0028 （2） 、 光学真空镀膜镀制不连续镜面白不导电膜层 调整光学真空镀膜机的参数为镀膜真空度 3.010-3Pa、 基板加热温度为常温、 镀膜基 板旋转频率 50Hz、 电子枪的气压 -8KV、 TiO2的蒸发速率 4 埃 / 秒、 SiO2的蒸发速率 8 埃 / 秒， 分别采用镀膜原材料 SiO2 、 TiO2通过光学真空镀膜技术对。
25、经过步骤 1 处理后的产品进 行镀膜， 先后依次镀 SiO2膜层、 TiO2膜层、 SiO2膜层、 TiO2膜层、 SiO2膜层， 其中 SiO2膜层 的膜厚为 7nm、 TiO2膜层的膜厚为 21nm、 SiO2膜层的膜厚为 10nm、 TiO2膜层的膜厚为 42nm、 SiO2膜层的膜厚为 7nm。 0029 （3） 、 喷涂 UV 面漆 在温度为20、 湿度为50%的环境下， 将经过步骤2处理后的产品放到二号涂装机的自 动线上， 调节二号涂装机的线速为 18Hz， 用静电除尘枪进行手动除尘， 再用离子静电除尘枪 进行自动除尘。调节喷枪气压 2.5kg/cm2， 将编号为 AKS40 ： 。
26、AKS409、 油漆粘度为 8.0s 的 UV 面漆喷涂到产品镀膜的面上， UV 面层的膜厚为 23m。然后将完成喷涂的产品放入烤箱中 烘烤， 烘烤温度为 75， 烘烤时间为 6.5min。再将烘烤完成的产品过 UV 炉进行固化， 完成 不连续镜面白膜层的镀膜。其中 UV 炉包括 4 盏 UV 灯， 4 盏 UV 灯开启功率密度大于 160W/ cm 的强光， UV 能量为 1000 mj/cm2。 0030 对本实施例的镀膜进行检测， 发现其膜层附着力好、 金属质感强、 耐候性能好、 抗 机械强度好， 且膜层暴露在空气中长时间不易被氧化。 0031 实施例 3 本实施例是采用联合真空 205。
27、0 型镀膜机对手机壳体进行镀膜， 具体步骤如下 ： （1） 、 喷涂 UV 底漆 在温度为 35、 湿度为 80% 的环境下， 将待镀膜的产品放到一号涂装机的自动线上， 调 节一号涂装机的线速为 22Hz， 进行前处理擦拭及自动化静电除尘。调整喷枪气压为 3.5kg/ cm2， 然后将编号为 AK198、 油漆粘度为 8.2s 的 UV 底漆喷涂到产品镀膜的面上， UV 底漆的膜 厚为 25m。然后将完成喷涂的产品放入烤箱中烘烤， 烘烤温度为 50， 烘烤时间为 8min。 再将完成烘烤的产品过UV炉进行固化， 其中3盏开启功率密度大于160W/cm的强光， 1盏开 启功率密度为 120W/c。
28、m 的中光， UV 能量为 1000mj/cm2。 0032 （2） 、 光学真空镀膜镀制不连续镜面白不导电膜层 调整光学真空镀膜机的参数为镀膜真空度 3.010-3Pa、 基板加热温度为常温、 镀膜基 板旋转频率 50Hz、 电子枪的气压 -8KV、 TiO2的蒸发速率 4 埃 / 秒、 SiO2的蒸发速率 8 埃 / 秒， 分别采用镀膜原材料 SiO2 、 TiO2通过光学真空镀膜技术对经过步骤 1 处理后的产品进 说 明 书 CN 103173721 A 6 5/5 页 7 行镀膜， 先后依次镀 SiO2膜层、 TiO2膜层、 SiO2膜层、 TiO2膜层、 SiO2膜层， 其中 SiO。
29、2膜层 的膜厚为 7nm、 TiO2膜层的膜厚为 14nm、 SiO2膜层的膜厚为 5nm、 TiO2膜层的膜厚为 40nm、 SiO2膜层的膜厚为 7nm。 0033 （3） 、 喷涂 UV 面漆 在温度为35、 湿度为80%的环境下， 将经过步骤2处理后的产品放到二号涂装机的自 动线上， 调节二号涂装机的线速为 20Hz， 用静电除尘枪进行手动除尘， 再用离子静电除尘枪 进行自动除尘。调节喷枪气压 3.5kg/cm2， 将编号为 AKS40 ： AKS409、 油漆粘度为 8.2s 的 UV 面漆喷涂到产品镀膜的面上， UV 面层的膜厚为 25m。然后将完成喷涂的产品放入烤箱中 烘烤， 烘烤温度为 80， 烘烤时间为 8min。再将烘烤完成的产品过 UV 炉进行固化， 完成不 连续镜面白膜层的镀膜。其中 UV 炉包括 4 盏 UV 灯， 4 盏 UV 灯开启功率密度大于 160W/cm 的强光， UV 能量为 1100 mj/cm2。 0034 对本实施例的镀膜进行检测， 发现其膜层附着力好、 金属质感强、 耐候性能好、 抗 机械强度好， 且膜层暴露在空气中长时间不易被氧化。 0035 上述实施例为本发明较佳的实现方案， 在不脱离本发明构思的前提下， 只是对本 发明作出直接的置换或等同的替换， 均属于本发明的保护范围之内。 说 明 书 CN 103173721 A 7 。