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1、(10)申请公布号 CN 104025723 A (43)申请公布日 2014.09.03 CN 104025723 A (21)申请号 201280053233.7 (22)申请日 2012.10.30 2011-240730 2011.11.02 JP 2012-237384 2012.10.29 JP H05K 3/12(2006.01) H05K 3/10(2006.01) (71)申请人 富士胶片株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 龙田岳一 (74)专利代理机构 北京三友知识产权代理有限 公司 11127 代理人 丁香兰 庞东成 (54) 发明名称 导电性图案形成用基材、 电。
2、路基板和它们的 制造方法 (57) 摘要 本发明涉及用于形成导电性图案而得到电 路基板的导电性图案形成用基材 (10)、 由该基材 (10) 得到的电路基板以及它们的制造方法。用于 得到电路基板的导电性图案形成用基材 (10) 具 有支持体(12)和保持区域(14), 该保持区域(14) 形成于该支持体 (12) 的一个端面上, 其通过相对 用于得到导电性图案的流体 (40) 显示出适当的 润湿性而保持该流体(40)。 保持区域(14)至少具 有第 1 直线组 (18) 和第 2 直线组 (22), 该第 1 直 线组(18)由沿第1方向相互平行地延伸的2个以 上的第1直线 (16) 构成, 。
3、该第 2 直线组 (22) 由沿 第 2 方向相互平行地延伸的 2 个以上的第 2 直线 (20)构成, 由第 1 直线组 (18) 和第 2 直线组(20) 形成格子形状。 (30)优先权数据 (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2014.04.29 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2012/078036 2012.10.30 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2013/065683 JA 2013.05.10 (51)Int.Cl. 权利要求书 4 页 说明书 17 页 附图 17 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书4页 说明书1。
4、7页 附图17页 (10)申请公布号 CN 104025723 A CN 104025723 A 1/4 页 2 1. 一种导电性图案形成用基材 (10), 其为用于形成导电性图案而得到电路基板的导 电性图案形成用基材 (10), 该基材 (10) 的特征在于, 该基材 (10) 具备支持体 (12) 和保持区域 (14) ; 该保持区域 (14) 形成于所述支持体 (12) 的至少一个端面, 其保持用于得到导电性图案的流体 (40), 所述保持区域 (14) 对于所述流体 (40) 的润湿性比该保持区域 (14) 的周边大, 且所述保持区域 (14) 至少具有第 1 直线组 (18) 和第 。
5、2 直线组 (22), 该第 1 直线组 (18) 由沿第 1 方向相互平行地延伸的 2 个以上的第 1 直线 (16) 构成, 该第 2 直线组 (22) 由沿第 2 方向相互平行地延伸的 2 个以上的第 2 直线 (20) 构成, 由所述第 1 直线组 (18) 和所述第 2 直线组 (22) 形成格子形状。 2. 如权利要求 1 所述的导电性图案形成用基材 (10), 该基材 (10) 的特征在于, 所述保 持区域 (14) 进一步具有由 2 个以上的第 3 直线 (24) 构成的第 3 直线组 (28), 该第 3 直线 (24)从所述第1直线(16)向所述第2直线(20)延伸而形成所。
6、述格子形状的对角线位置且 相互平行。 3. 如权利要求 2 所述的导电性图案形成用基材 (10), 该基材 (10) 的特征在于, 所述保 持区域 (14) 进一步具有第 4 直线组 (30), 该第 4 直线组 (30) 由在与所述第 3 直线 (24) 不 同的对角线位置延伸且相互平行的 2 个以上的第 4 直线 (26) 构成。 4.如权利要求13的任一项所述的导电性图案形成用基材(10), 该基材(10)的特征 在于, 构成所述保持区域 (14) 的所述相互平行的直线的宽度比该直线彼此之间的间隔小。 5. 如权利要求 1 所述的导电性图案形成用基材 (10), 该基材 (10) 的特征。
7、在于, 所述保 持区域 (14) 的表面能比该保持区域 (14) 的周边的表面能高 5mJ/m2以上, 且在该保持区域 (14) 保持极性流体 (40)。 6. 如权利要求 1 所述的导电性图案形成用基材 (10), 该基材 (10) 的特征在于, 所述保 持区域 (14) 的表面能比该保持区域 (14) 的周边的表面能低 5mJ/m2以上, 且在该保持区域 (14) 保持非极性流体 (40)。 7. 如权利要求 1 所述的导电性图案形成用基材 (10), 该基材 (10) 的特征在于, 所述第 1 直线组 (18) 和所述第 2 直线组 (22) 分别具有通过 2 个以上所述第 1 直线 (。
8、16)、 所述第 2 直线 (20) 在相同轴线上排列所形成的第 1 分裂线 (32)、 第 2 分裂线 (34), 形成所述第 1 分裂线 (32) 的所述第 1 直线 (16) 彼此之间的间隙和形成所述第 2 分裂 线 (34) 的所述第 2 直线 (20) 彼此之间的间隙一致。 8. 如权利要求 2 所述的导电性图案形成用基材 (10), 该基材 (10) 的特征在于, 所述第 1 直线组 (18)、 所述第 2 直线组 (22) 和所述第 3 直线组 (28) 分别具有通过 2 个以上所述 第 1 直线 (16)、 所述第 2 直线 (20) 和所述第 3 直线 (24) 各自在相同轴。
9、线上排列所形成的 第 1 分裂线 (32)、 第 2 分裂线 (34) 和第 3 分裂线 (37), 形成所述第 1 分裂线 (32) 的所述第 1 直线 (16) 彼此之间的间隙、 形成所述第 2 分裂 线 (34) 的所述第 2 直线 (20) 彼此之间的间隙和形成所述第 3 分裂线 (37) 的所述第 3 直 线 (24) 彼此之间的间隙一致。 9. 如权利要求 3 所述的导电性图案形成用基材 (10), 该基材 (10) 的特征在于, 所述第 1 直线组 (18)、 所述第 2 直线组 (22)、 所述第 3 直线组 (28) 和所述第 4 直线组 (30) 分别 具有通过 2 个以上。
10、所述第 1 直线 (16)、 所述第 2 直线 (20)、 所述第 3 直线 (24) 和所述第 4 权 利 要 求 书 CN 104025723 A 2 2/4 页 3 直线 (26) 各自在相同轴线上排列所形成的第 1 分裂线 (32)、 第 2 分裂线 (34)、 第 3 分裂线 (37) 和第 4 分裂线 (38), 形成所述第 1 分裂线 (32) 的所述第 1 直线 (16) 彼此之间的间隙、 形成所述第 2 分裂 线 (34) 的所述第 2 直线 (20) 彼此之间的间隙、 形成所述第 3 分裂线 (37) 的所述第 3 直线 (24)彼此之间的间隙和形成所述第4分裂线(38)的。
11、所述第4直线(26)彼此之间的间隙一 致。 10. 如权利要求 1 所述的导电性图案形成用基材 (10), 该基材 (10) 的特征在于, 所述 支持体 (12) 是通过层积至少 1 层具有绝缘性的层和至少 1 层具有导电性的层而成的。 11. 如权利要求 1 所述的导电性图案形成用基材 (10), 该基材 (10) 的特征在于, 由所 述 2 个以上的直线组构成的保持区域 (14) 含有具有亲水基团的聚合物。 12. 如权利要求 1 所述的导电性图案形成用基材 (10), 该基材 (10) 的特征在于, 涂布 有表面能会因辐射线而变化的材料, 利用辐射线形成由所述 2 个以上的直线组构成的表。
12、面 能不同的区域。 13. 导电性图案形成用基材 (10) 的制造方法, 其为形成导电性图案而制成电路基板的 导电性图案形成用基材 (10) 的制造方法, 该制造方法的特征在于, 该制造方法具有下述工序 : 在支持体 (12) 上形成保持区域 (14), 该保持区域 (14) 相 对用于得到导电性图案的流体 (40) 的润湿性比周边大、 且用于保持所述流体 (40), 在形成所述保持区域 (14) 时, 至少形成第 1 直线组 (18) 和第 2 直线组 (22), 该第 1 直 线组 (18) 由沿第 1 方向相互平行地延伸的 2 个以上的第 1 直线 (16) 构成, 该第 2 直线组 (。
13、22) 由沿第 2 方向相互平行地延伸的 2 个以上的第 2 直线 (20) 构成, 由所述第 1 直线组 (18) 和所述第 2 直线组 (22) 形成格子形状。 14.如权利要求13所述的导电性图案形成用基材(10)的制造方法, 该制造方法的特征 在于, 形成所述保持区域 (14) 的工序是对形成所述保持区域 (14) 的保持区域 (14) 用流体 (40) 进行印刷的工序。 15.如权利要求13所述的导电性图案形成用基材(10)的制造方法, 该制造方法的特征 在于, 作为所述保持区域 (14), 形成由 2 个以上的第 3 直线 (24) 构成的第 3 直线组 (28), 该第 3 直线。
14、 (24) 从所述第 1 直线 (16) 向所述第 2 直线 (20) 延伸而成为所述格子形状的 对角线位置。 16.如权利要求15所述的导电性图案形成用基材(10)的制造方法, 该制造方法的特征 在于, 作为所述保持区域 (14), 进一步形成第 4 直线组 (30), 该第 4 直线组 (30) 由在与所 述第 3 直线 (24) 不同的对角线位置延伸的 2 个以上的第 4 直线 (26) 构成。 17. 如权利要求 13 所述的导电性图案形成用基材 (10) 的制造方法, 该制造方法的特 征在于, 分别形成所述第 1 直线组 (18) 和所述第 2 直线组 (22) 作为第 1 分裂线 。
15、(32)、 第 2 分裂线 (34), 所述第 1 分裂线 (32)、 第 2 分裂线 (34) 是通过 2 个以上所述第 1 直线 (16)、 所述第 2 直线 (20) 在相同轴线上排列所形成的, 使形成所述第 1 分裂线 (32) 的所述第 1 直线 (16) 彼此之间的间隙和形成所述第 2 分 裂线 (34) 的所述第 2 直线 (20) 彼此之间的间隙一致。 18. 如权利要求 15 所述的导电性图案形成用基材 (10) 的制造方法, 该制造方法的特 征在于, 分别形成所述第 1 直线组 (18)、 所述第 2 直线组 (22) 和所述第 3 直线组 (28) 作为 权 利 要 求 。
16、书 CN 104025723 A 3 3/4 页 4 第 1 分裂线 (32)、 第 2 分裂线 (34) 和第 3 分裂线 (37), 所述第 1 分裂线 (32)、 第 2 分裂线 (34) 和第 3 分裂线 (37) 是通过 2 个以上所述第 1 直线 (16)、 所述第 2 直线 (20) 和第 3 直 线 (24) 各自在相同轴线上排列所形成的, 使形成所述第 1 分裂线 (32) 的所述第 1 直线 (16) 彼此之间的间隙、 形成所述第 2 分 裂线 (34) 的所述第 2 直线 (20) 彼此之间的间隙和形成所述第 3 分裂线 (37) 的所述第 3 直线 (24) 彼此之间的。
17、间隙一致。 19.如权利要求16所述的导电性图案形成用基材(10)的制造方法, 该制造方法的特征 在于, 分别形成所述第 1 直线组 (18)、 所述第 2 直线组 (22)、 所述第 3 直线组 (28) 和所述 第 4 直线组 (30) 作为第 1 分裂线 (32)、 第 2 分裂线 (34)、 第 3 分裂线 (37) 和第 4 分裂线 (38), 所述第 1 分裂线 (32)、 第 2 分裂线 (34)、 第 3 分裂线 (37) 和第 4 分裂线 (38) 是通过 2 个以上所述第 1 直线 (16)、 所述第 2 直线 (20)、 所述第 3 直线 (24) 和所述第 4 直线 (。
18、26) 各自在相同轴线上排列所形成的, 使形成所述第 1 分裂线 (32) 的所述第 1 直线 (16) 彼此之间的间隙、 形成所述第 2 分 裂线 (34) 的所述第 2 直线 (20) 彼此之间的间隙、 形成所述第 3 分裂线 (37) 的所述第 3 直 线 (24) 彼此之间的间隙和形成所述第 4 分裂线 (38) 的所述第 4 直线 (26) 彼此之间的间 隙一致。 20. 如权利要求 17 19 的任一项所述的导电性图案形成用基材 (10) 的制造方法, 该 制造方法的特征在于, 在所述间隙形成保持所述流体 (40) 的保持区域 (14)。 21.一种电路基板, 其特征在于, 该电路。
19、基板在权利要求112的任一项所述的导电性 图案形成用基材 (10) 上, 在由所述 2 个以上的直线组构成的保持区域 (14) 中的非全部的 任意部分形成有导电性图案。 22.一种电路基板的制造方法, 其特征在于, 该制造方法在权利要求112的任一项所 述的导电性图案形成用基材 (10) 上的由所述 2 个以上的直线组构成的保持区域 (14) 中的 非全部的任意部分形成导电性图案。 23. 如权利要求 22 所述的电路基板的制造方法, 该制造方法的特征在于, 其具有以下 工序 : 通过非接触式印刷法将所述流体 (40) 印刷到所述保持区域 (14) 的工序 ; 和 由所述流体 (40) 形成导。
20、电性图案的工序。 24. 如权利要求 23 所述的电路基板的制造方法, 该制造方法的特征在于, 其具有以下 工序 : 在得到所述导电性图案后实施镀覆处理, 从而在所述导电性图案上形成导电层。 25. 如权利要求 22 所述的电路基板的制造方法, 该制造方法的特征在于, 其具有以下 工序 : 作为导电性图案形成用基材 (10), 在通过层积至少 1 层绝缘体和至少 1 层金属导电层 而成的支持体 (12) 上形成两种以上的表面能相互不同的区域, 通过非接触式印刷法将所 述流体 (40) 印刷到所述区域中的任意部分的工序 ; 由所述流体 (40) 得到抗蚀剂掩模后进行蚀刻, 从而将形成有抗蚀剂掩模。
21、的部位以外 的部位的保持区域 (14) 和金属导电层除去的工序 ; 和 通过除去所述抗蚀剂掩模, 使被该抗蚀剂掩模所保护的金属导电层露出而得到导电性 权 利 要 求 书 CN 104025723 A 4 4/4 页 5 图案的工序。 26. 如权利要求 23 所述的电路基板的制造方法, 该制造方法的特征在于, 作为所述非 接触式印刷法, 进行喷墨印刷。 27. 如权利要求 26 所述的电路基板的制造方法, 该制造方法的特征在于, 至少在所述 第 1 直线 (16) 与所述第 2 直线 (20) 交叉的交叉点用第 1 油墨进行墨滴喷射, 并且在所述 交叉点以外用粘度比所述第 1 油墨低的第 2 。
22、油墨进行墨滴喷射。 28. 如权利要求 26 所述的电路基板的制造方法, 该制造方法的特征在于, 按照至少所 述第 1 直线 (16) 与所述第 2 直线 (20) 交叉的交叉点处的点径大于所述交叉点以外的点径 的方式进行墨滴喷射。 权 利 要 求 书 CN 104025723 A 5 1/17 页 6 导电性图案形成用基材、 电路基板和它们的制造方法 技术领域 0001 本发明涉及用于形成导电性图案而得到电路基板的导电性图案形成用基材、 由该 基材得到的电路基板以及它们的制造方法。 背景技术 0002 用于进行电子部件之间的导通的电路基板、 例如刚性印刷电路基板或柔性印刷电 路基板等通过在导。
23、电性图案形成用基材上形成导电性图案而制作得到。 这样的导电性图案 形成用基材通常利用下述方法获得 : 减去 (subtractive) 法, 其中, 在支持体的一个端面设 置铜等金属箔, 利用掩模蚀刻由上述金属箔形成所期望的图案 ; 相加 (additive) 法, 其中, 在支持体上形成掩模后实施图案镀覆。 0003 但是, 这种现有技术存在下述不良情况 : 在导电性图案的种类多、 而且形成相同的 导电性图案的个数少的情况下, 换言之在进行多品种少量生产的情况下, 效率特别差。 这是 因为必须根据导电性图案的形状来逐一变更掩模的形状。除此以外, 还因为不可缺少形成 掩模的工序、 和进行曝光的。
24、工序。此外, 由于需要处理废液, 因而繁杂且成本高涨的不良情 况明显。 0004 于是, 如日本特开昭 64-5095 号公报所提出的那样, 想到在制备包含金属粉的油 墨后, 使用该油墨进行印刷 ( 例如喷墨印刷 ), 从而形成导电性图案。但是, 该情况下, 液滴 的着落位置会产生偏差、 或者在支持体的表面发生液滴彼此的聚集或变形 ( 下文中也记为 “着落影响” )。若发生这样的现象, 会成为导电性图案断裂、 或宽度方向尺寸产生偏差的原 因之一。 0005 日本专利第 4575725 号公报记载了下述内容 : 在基板上依次设置电极和聚酰亚 胺材料层, 通过掩模向上述聚酰亚胺材料层的表面照射紫外。
25、线, 由此在该聚酰亚胺材料层 的表面形成由高表面能部和低表面能部构成的图案, 进而进行喷墨法。根据该日本专利第 4575725 号公报, 该情况下能够仅仅在上述高表面能部上形成导电层。 0006 此外, 日本特开平 11-207959 号公报记载了下述内容 : 将对于油墨的润湿性大的 亲和性部分和润湿性小的非亲和性部分形成为方格图案 ( 方格花纹旗 ) 状, 仅在亲和性部 分涂布油墨。 发明内容 0007 在日本专利第 4575725 号公报记载的技术中, 用于设置表面能差的曝光必须按照 与导电性图案的形状对应的方式进行。 因此, 作为进行多品种少量生产的方法是不合适的。 0008 另外, 在。
26、日本特开平 11-207959 号公报记载的技术中, 若着落位置为与想要着落 的亲和性部分不同的位置, 则该部分会发生图像缺陷。喷墨印刷是着落位置的偏移幅度比 较大的印刷方法, 随着速度提高, 偏移幅度变得显著。 而且, 也不容易控制着落影响的范围。 总之, 日本特开平 11-207959 号公报记载的技术中, 难以有效地描绘特定的宽度方向尺寸 的直线这种不良情况明显。 说 明 书 CN 104025723 A 6 2/17 页 7 0009 本发明的一般目的在于提供能够对应多品种少量生产的导电性图案形成用基材。 0010 本发明的主要目的在于提供一种导电性图案形成用基材, 该基材容易以特定的。
27、宽 度方向尺寸有效地描绘导电性图案中的直线。 0011 本发明的另一个目的在于提供用于得到上述导电性图案形成用基材的导电性图 案形成用基材的制造方法。 0012 本发明的另一个目的在于提供由上述导电性图案形成用基材得到的电路基板。 0013 本发明的另一个目的在于提供上述电路基板的制造方法。 0014 上述目的可通过以下 1 4 的方案实现。 0015 1 一种导电性图案形成用基材, 其为用于形成导电性图案而得到电路基板的导 电性图案形成用基材, 该基材的特征在于, 0016 该基材具备支持体和保持区域 ; 该保持区域形成于所述支持体的至少一个端面, 其保持用于得到导电性图案的流体, 0017。
28、 所述保持区域对于所述流体的润湿性比该保持区域的周边大, 0018 且所述保持区域至少具有第 1 直线组和第 2 直线组, 该第 1 直线组由沿第 1 方向 相互平行地延伸的 2 个以上的第 1 直线构成, 该第 2 直线组由沿第 2 方向相互平行地延伸 的 2 个以上的第 2 直线构成, 0019 由所述第 1 直线组和所述第 2 直线组形成格子形状。 0020 2 导电性图案形成用基材的制造方法, 其为形成导电性图案而制成电路基板的 导电性图案形成用基材的制造方法, 该制造方法的特征在于, 0021 该制造方法具有下述工序 : 在支持体上形成保持区域, 该保持区域相对用于得到 导电性图案的。
29、流体的润湿性比周边大、 且用于保持所述流体, 0022 在形成所述保持区域时, 至少形成第 1 直线组和第 2 直线组, 该第 1 直线组由沿第 1方向相互平行地延伸的2个以上的第1直线构成, 该第2直线组由沿第2方向相互平行地 延伸的 2 个以上的第 2 直线构成, 0023 由所述第 1 直线组和所述第 2 直线组形成格子形状。 0024 3 一种电路基板, 其特征在于, 该电路基板在所述导电性图案形成用基材上的由 所述 2 个以上的直线组构成的保持区域中的非全部的任意部分形成有导电性图案。 0025 4 一种电路基板的制造方法, 其特征在于, 该制造方法在所述导电性图案形成用 基材上的由。
30、所述 2 个以上的直线组构成的保持区域中的非全部的任意部分形成导电性图 案, 从而得到电路基板。 0026 支持体优选为绝缘体。该情况下, 可以使金属导电层存在于支持体与保持区域之 间, 由该金属导电层得到导电性图案。 0027 上述目的、 特征和优点可以由参照附图所说明的下述实施方式的说明而容易地理 解。 附图说明 0028 图 1 是第 1 实施方式的导电性图案形成用基材的主要部分纵截面图。 0029 图 2 是图 1 的导电性图案形成用基材的主要部分俯视图。 0030 图 3 是以方格图案 ( 方格花纹旗 ) 状形成了亲和性区域和非亲和性区域的导电性 说 明 书 CN 104025723。
31、 A 7 3/17 页 8 图案形成用基材的俯视图。 0031 图 4 是以水平条纹图案形成了亲和性区域和非亲和性区域的导电性图案形成用 基材的俯视图。 0032 图 5 是示出以直角弯曲而进行方向转换的导电性图案的俯视图。 0033 图 6 是示出以钝角弯曲而进行方向转换的导电性图案的俯视图。 0034 图 7 是示出作为单纯正方格子形状形成的保持区域的俯视图。 0035 图 8 是示出形成了单纯正方格子形状和 1 条对角线的保持区域的俯视图。 0036 图 9 是示出相邻的格子形状的对角线的方向在 A 方向相互不同、 在 B 方向相互相 同的保持区域的俯视图。 0037 图 10 是示出相。
32、邻的格子形状的对角线的方向在 A 方向和 B 方向这两个方向相互 不同的保持区域的俯视图。 0038 图11是示出利用图7中的第1直线、 第2直线形成了分裂线的保持区域的俯视图。 0039 图 12 是示出在相互交叉的 2 条直线两者印刷了流体的状态的俯视图。 0040 图 13 是示出在第 1 分裂线和在与其正交的方向延伸的第 2 分裂线两者印刷了流 体的状态的俯视图。 0041 图 14 是示出利用图 2 中的第 1 第 4 直线形成了分裂线的保持区域的俯视图。 0042 图 15 是示出利用图 8 中的第 1、 第 2 和第 4 直线形成了分裂线的保持区域的俯视 图。 0043 图 16。
33、 是示出利用图 9 中的第 1 第 4 直线形成了分裂线的保持区域的俯视图。 0044 图 17 是示出利用图 10 中的第 1 第 4 直线形成了分裂线的保持区域的俯视图。 0045 图 18 是示出在利用图 2 中的第 1 第 4 直线形成分裂线时作为与图 14 不同的形 状而形成的保持区域的俯视图。 0046 图 19 是示出使第 1 直线、 第 2 直线为聚集体的保持区域的俯视图。 0047 图 20 是示出在相邻的第 1( 第 2) 直线彼此之间的间隔距离大的情况下流体向宽 度方向扩展的俯视图。 0048 图 21 是示出在相邻的第 1( 第 2) 直线彼此之间的间隔距离小的情况下流。
34、体向宽 度方向扩展的俯视图。 0049 图 22 是第 2 实施方式的导电性图案形成用基材的主要部分纵截面图。 0050 图23是示出使用图6所示的导电性图案形成用基材, 在交叉点和交叉点以外的部 位着落粘度不同的流体所得到的导电性图案的主要部分放大俯视图。 0051 图24是示出使用图6所示的导电性图案形成用基材, 在交叉点和交叉点以外的部 位着落粘度相同的流体所得到的导电性图案的主要部分放大俯视图。 0052 图25是示出使用图6所示的导电性图案形成用基材, 在交叉点和交叉点以外的部 位按照点径不同的方式着落流体所得到的导电性图案的主要部分放大俯视图。 具体实施方式 0053 下面, 关于。
35、本发明的电路基板及其制造方法, 举出与用于得到该电路基板的导电 性图案形成用基材及其制造方法的关系中适宜的实施方式, 参照附图进行详细说明。 0054 图 1 是第 1 实施方式的导电性图案形成用基材 10 的主要部分纵截面图, 图 2 是其 说 明 书 CN 104025723 A 8 4/17 页 9 主要部分俯视图。该导电性图案形成用基材 10 具有支持体 12 和形成于该支持体 12 的一 个端面上的保持区域 14。 0055 支持体 12 优选由聚酰亚胺、 耐热性聚对苯二甲酸乙二醇酯 (PET)、 聚萘二甲酸乙 二醇酯 (PEN)、 环氧树脂玻璃、 酚醛塑料或各种陶瓷等阻燃性的绝缘体。
36、构成。由这样的材料 构成的支持体 12 对于后述流体的润湿性比保持区域 14 小。因此, 在流体接触的情况下, 支 持体 12 倾向于将该流体排斥。 0056 保持区域 14 对于流体显示出适当的润湿性, 因此为保持流体的区域。即, 与支持 体 12 露出的表面和流体所成的接触角、 该表面形成有膜 ( 未图示 ) 时该膜和流体所成的接 触角相比, 保持区域 14 和流体所成的接触角明显小。由此, 可以说保持区域 14 为亲和性区 域, 另一方面, 支持体 12 露出的表面或上述膜为非亲和性区域。 0057 一般而言, 液体对于固体的润湿性由固体的表面能和所使用的液体的表面张力来 决定。因此, 。
37、通过在导电性图案形成用基材 10 的表面形成表面能有意义地与周边存在差异 的格子形状 ( 直线组 ) 的保持区域 14, 流体容易附着于该保持区域 14。 0058 即, 保持区域 14 与其周边的表面能差越大, 则流体的液滴越容易被诱导至保持区 域 14。因此, 在流体为极性油墨 ( 后述 ) 时, 保持区域 14 的表面能优选比该保持区域 14 的 周边的表面能高 5mJ/m2以上。需要说明的是, 更优选高 10mJ/m2以上、 进一步优选高 20mJ/ m2以上。 0059 在流体为非极性油墨 ( 后述 ) 时, 与上述情况相反, 只要使保持区域 14 的表面能 小于该保持区域 14 的。
38、周边的表面能即可。该情况下, 保持区域 14 的表面能优选比该保持 区域 14 的周边的表面能低 5mJ/m2以上。需要说明的是, 更优选低 10mJ/m2以上、 进一步优 选低 20mJ/m2以上。 0060 如上所述, 根据流体的性质来设定保持区域 14 与其周边之间的表面能的高低, 从 而能够使保持区域 14 对于流体的润湿性比周边大。 0061 保持区域 14 具有 2 个以上的沿图 2 中的左右方向 ( 箭头 A 方向 / 第 1 方向 ) 相 互平行地延伸的第 1 直线 16, 通过这些 2 个以上的第 1 直线 16 形成第 1 直线组 18。另外, 对于第 1 直线 16, 沿。
39、上下方向 ( 箭头 B 方向 / 第 2 方向 ) 相互平行地延伸的 2 个以上的第 2 直线 20 以呈近似 90的角度的方式交叉。通过这些 2 个以上的第 2 直线 20 形成第 2 直 线组 22, 同时由第 1 直线组 18 和第 2 直线组 22 形成正方格子形状。 0062 如图 2 所示, 保持区域 14 进一步具有第 3 直线 24 和第 4 直线 26, 该第 3 直线 24 从第 1 直线 16 向第 2 直线 20 延伸、 并处于正方格子形状的对角线位置, 该第 4 直线 26 按 照与该第 3 直线 24 正交的方式从第 1 直线 16 向第 2 直线 20 延伸。即,。
40、 第 3 直线 24 和第 4 直线 26 相对于第 1 直线 16 和第 2 直线 20 呈近似 45的角度。因此, 在格子形状的各交 叉点, 第 1 直线 16、 第 2 直线 20、 第 3 直线 24 和第 4 直线 26 交叉。其结果, 形成了 8 根直 线从 1 个交叉点 ( 除端部 ) 以放射状扩散的形状。即, 该情况下, 所谓的八方格子 ( 八方格 子 ) 相互连接。 0063 第 3 直线 24 和第 4 直线 26 各自存在 2 个以上, 由此分别构成第 3 直线组 28 和第 4 直线组 30。 0064 第 1 直线 16、 第 2 直线 20、 第 3 直线 24 和。
41、第 4 直线 26 分别具有特定的线宽 W, 且 相互平行的直线之间以特定的间距 P 间隔。通过将 2 个以上这样的直线彼此组合, 构成八 说 明 书 CN 104025723 A 9 5/17 页 10 方格子或四方格子 ( 参照图 7) 等。 0065 由间距 P 减去线宽 W 而得到的间隔 D 优选比线宽 W 宽。更具体地说, 线宽 W 优选 为间隔 D0.9 以下, 更优选为间隔 D0.75 以下。 0066 其中, 若使线宽 W 过窄, 则能够描绘的电路密度降低, 配线和部件选择的自由度降 低。因此, 线宽 W 和间距 P 应该根据目的适当地选择。即, 在电路基板的制造时, 优选使用。
42、 具有符合目的的线宽 W 和间距 P 的基材。 0067 另外, 线宽 W 优选为 3m 130m、 进一步优选为 4m 100m、 特别优选为 5m 75m。 0068 此处, 若用于形成导电性图案的流体的液径显著大于线宽 W, 则难以停留于直线形 状的保持区域 14 内, 会扩展到保持区域 14( 直线 ) 的周边。相反, 若液径显著小, 则流体的 润湿扩展不足, 电路基板的生产率降低, 或者通过相邻的液滴扩展所形成的点彼此无法连 接, 有可能形成无法起到配线的作用的断线状态。因此, 线宽 W 和液滴的直径优选为适当 的组合。具体地说, 在电路基板的制造方法中, 所使用的流体的液滴的球当量。
43、直径与线宽 W 的关系优选为线宽 W 在液滴的球当量直径 1/5 6 的范围内, 特别优选在球当量直 径 1/3 5 的范围内。 0069 上述形状的保持区域 14 可以通过使用含有亲水性聚合物、 或干燥后表面为亲水 性的聚合物或表面活性剂的保持区域用流体进行柔版印刷或凹版印刷等而形成。或者, 也 可以是通过紫外线或电子射线、 射线等辐射线而使对于流体的亲和性增加的物质。 0070 接下来, 对于由该导电性图案形成用基材 10 得到的电路基板, 利用与其制造方法 的关系进行说明。 0071 首先, 制作导电性图案形成用基材 10。具体地说, 在由例如聚酰亚胺、 耐热性 PET、 PEN、 环氧。
44、树脂玻璃、 酚醛塑料或各种陶瓷等阻燃性的绝缘体构成的支持体 12 的一个端面 上印刷保持区域用流体。此时, 进行柔版印刷或凹版印刷等即可。另外, 还适宜使用下述方 法 : 涂布有具有上述通过辐射线而使对于流体的亲和性增加的性质的材料、 例如日本专利 第4575725号公报记载的可溶性聚酰亚胺, 以形成保持区域14的形状的方式进行辐射线的 曝光。在辐射线的曝光时, 可以根据其用途和材料的灵敏度选择隔着光掩模的面曝光或激 光扫描等公知的方法。 0072 支持体 12 也可以为块状体, 但特别优选使用板状、 片状或卷状等平坦形状的物 质。 0073 此处, 作为保持区域用流体, 选择在干燥后对于用于。
45、得到导电性图案的流体的润 湿性比支持体 12 大的物质。流体例如为极性油墨的情况下, 作为保持区域用流体, 选择与 导电性图案形成用基材 10、 或者在该导电性图案形成用基材 10 的表面上形成的膜相比表 面能高的物质 ; 另一方面, 流体例如为非极性油墨的情况下, 选择与导电性图案形成用基材 10、 或者在该导电性图案形成用基材 10 的表面上形成的膜相比表面能低的物质即可。由 此, 能够形成对于流体的润湿性比周边大的保持区域 14。 0074 另外, 如上所述, 保持区域用流体优选相对导电性图案形成用基材 10 的表面能够 形成表面能差为5mJ/m2以上的保持区域14, 或者在该表面形成有。
46、膜时优选对该膜能够形成 表面能量差为 5mJ/m2以上的保持区域 14。需要说明的是, 更优选能够形成与周边的表面能 差为 10mJ/m2以上的保持区域 14 的流体, 进一步优选能够形成与周边的表面能差为 20mJ/ 说 明 书 CN 104025723 A 10 6/17 页 11 m2以上的保持区域 14 的流体。 0075 将包含导电体颗粒的液体作为流体时, 作为保持区域用流体的具体例, 可以举出 包含亲水性聚合物、 干燥后表面为亲水性的聚合物或表面活性剂的物质。 0076 为了形成图 2 所示的保持区域 14, 以八方格子形状彼此连接的方式印刷保持区域 用流体即可。即, 设置第 1 。
47、直线组 18、 与该第 1 直线组 18 大致正交的第 2 直线组 22、 成为 由第 1 直线组 18 和第 2 直线组 22 形成的格子形状的对角线位置的第 3 直线组 28 和第 4 直线组 30。 0077 通过使保持区域用流体干燥而形成保持区域 14, 由此得到导电性图案形成用基材 10。 0078 另一方面, 制备用于得到导电性图案的流体。即, 使铜、 银、 金、 锡、 锌等金属颗粒 ; 或石墨、 碳纳米管、 富勒烯等碳颗粒 ; PEDOT/PSS 等有机导电性化合物分散于水或有机溶 剂、 油脂等分散介质中。也可以代替分散而溶解于适当的溶剂中。另外, 还可以将氧化铜、 氧化银等氧化。
48、物的颗粒作为初始材料, 在之后的步骤中还原, 赋予导电性。需要说明的是, 作为各颗粒, 纳米尺寸或微米尺寸的颗粒由于容易分散或溶解而适宜。 0079 为了使流体具有粘度、 表面张力、 温度等物性, 可以添加增稠剂或表面活性剂等。 由此, 在保持区域14(亲和性区域)和支持体12露出的一个端面(非亲和性区域), 该流体 的接触角更显著地不同。 0080 这种流体还作为喷墨用油墨被制备和市售, 作为代表性的流体, 可例示出阪东化 学社制造的 SW 系列 ( 银纳米颗粒分散于水系溶液中得到的物质 ) 或 SR 系列 ( 银纳米颗粒 分散于有机溶剂中得到的物质 )。 0081 油墨可以为含有金属氧化物。
49、微粒或金属氢氧化物微粒的分散液。下面, 对该油墨 进行说明。 0082 1 金属氧化物微粒或金属氢氧化物微粒的分散液 0083 (A) 金属氧化物微粒或金属氢氧化物微粒的组成和尺寸 0084 作为构成金属氧化物微粒或金属氢氧化物微粒的金属, 可以举出 Au、 Ag、 Cu、 Pt、 Pd、 In、 Ga、 Sn、 Ge、 Sb、 Pb、 Zn、 Bi、 Fe、 Ni、 Co、 Mn、 Tl、 Cr、 V、 Ru、 Rh、 Ir、 Al 等。在这些金属 的氧化物或氢氧化物中, 优选 Au、 Ag、 Cu、 Pt、 Pd、 In、 Ga、 Sn、 Ge、 Sb、 Pb、 Zn、 Bi、 Fe、 Ni 和 Co 的氧化物, 特别是Ag或Cu的氧化物(例如Ag2O或Cu2O等)由于易被还原、 所生成的金属比 较稳定, 因而是优选的。该金属氧化物微粒的平均微晶尺。