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1、10申请公布号CN104205400A43申请公布日20141210CN104205400A21申请号201380015612122申请日20130325102012003024920120323KR102012008421520120731KRH01L51/52200601H05B33/2220060171申请人株式会社LG化学地址韩国首尔72发明人金荣银金钟硕文英均黄珍夏李渊槿朴祥准金勇男74专利代理机构北京北翔知识产权代理有限公司11285代理人杨勇钟守期54发明名称用于有机电子器件的基板57摘要本发明涉及一种用于有机电子器件的基板、一种有机电子设备、一种制造所述基板或所述设备的方法、以。
2、及一种照明设备。本申请的用于有机电子器件的基板例如可用于制造一种有机电子设备，其防止外界物质例如湿气和氧气渗入，且具有增加的耐久性和优异的光提取效率。另外，通过使用所述基板，封装结构用于密封有机电子设备，所述基板可稳定地粘附于所述封装结构，能够制造在电极层被磨损或从外部施加压力的环境下具有优异的耐久性的器件。并且有机电子设备的外部端子部的表面硬度可保持在合适的水平。30优先权数据85PCT国际申请进入国家阶段日2014092286PCT国际申请的申请数据PCT/KR2013/0024652013032587PCT国际申请的公布数据WO2013/141676KO2013092651INTCL权利。
3、要求书2页说明书17页附图8页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书2页说明书17页附图8页10申请公布号CN104205400ACN104205400A1/2页21一种用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述用于有机电子器件的基板包括基础层；光学功能层，其在所述基础层上形成，并具有与所述基础层相比小的投影面积；电极层，其具有与所述光学功能层相比大的投影面积，并且均形成在所述光学功能层的上方和未形成有所述光学功能层的基础层的上方；及导电物质，其均与在所述光学功能层的上方形成的电极层和在未形成有所述光学功能层的所述基础层的上方形成的电极层电连接。2根据权利要求1所述的用于有机。
4、电子器件的基板，其特征在于，所述电极层的投影面积A与所述光学功能层的投影面积B之比值A/B为104以上。3根据权利要求1所述的用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述光学功能层由所述基础层、所述电极层、及所述导电物质密封。4根据权利要求1所述的用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述基础层具有透光性。5根据权利要求1所述的用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述导电物质包括选自银、铜、镍、钼、及铝中的一种以上。6根据权利要求1所述的用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述电极层为空穴注入电极层或电子注入电极层。7根据权利要求1所述的用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述光学功能层是光散射层。。
5、8根据权利要求7所述的用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述光散射层包含基体材料和光散射颗粒，所述光散射颗粒的折射率和所述基体材料的折射率不相同。9根据权利要求8所述的用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述基体材料包含聚硅氧烷、聚酰胺酸或聚酰亚胺。10根据权利要求8所述的用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述光散射颗粒的折射率为1035。11根据权利要求7所述的用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述光散射层为具有凹凸结构的层。12根据权利要求1所述的用于有机电子器件的基板，其特征在于，所述光学功能层包括光散射层及在所述光散射层的上方形成的平整层。13根据权利要求12所述的用于有机电子器。
6、件的基板，其特征在于，所述平整层的折射率为17以上。14一种有机电子设备，其特征在于，所述有机电子设备包括权利要求1所述的用于有机电子器件的基板；有机层，其形成在所述基板的电极层上，并包括发光层；及第二电极层，其形成在所述有机层上。权利要求书CN104205400A2/2页315根据权利要求14所述的有机电子设备，其特征在于，所述基板的光学功能层的形成区域的长度B与所述发光层的发光区域的长度C之差BC在10M至2MM的范围内。16根据权利要求14所述的有机电子设备，其特征在于，所述有机电子设备还包括用于保护有机层和第二电极层的封装结构，并且所述封装结构粘附于在下方未形成有光学功能层的基板的电极。
7、层的上方。17根据权利要求16所述的有机电子设备，其特征在于，所述封装结构为玻璃罐或金属罐，或者为覆盖所述有机层和所述第二电极层的整个表面的薄膜。18一种用于有机电子器件的基板的制造方法，其特征在于，所述用于有机电子器件的基板的制造方法包括在基础层上形成光学功能层的步骤，其中，所述光学功能层以具有与所述基础层相比小的投影面积的方式形成；和将具有与所述光学功能层相比大的投影面积的电极层，均形成在所述光学功能层的上方及未形成有所述光学功能层的基础层的上方形成，并且以均与在所述光学功能层的上方形成的电极层和在未形成有所述光学功能层的基础层的上方形成的电极层电连接的方式形成导电物质的步骤。19一种照明。
8、设备，其包括根据权利要求14所述的有机电子设备。权利要求书CN104205400A1/17页4用于有机电子器件的基板技术领域0001本申请涉及用于有机电子器件的基板、有机电子设备、制造所述设备或所述基板的方法、以及照明设备。背景技术0002有机电子器件OED；ORGANICELECTRONICDEVICE是一种包括至少一个能够传导电流的有机材料层的器件。有机电子器件的类型包括有机发光器件OLED、有机太阳能电池、有机光导体OPC或有机晶体管等。0003有机发光器件，作为有机电子器件的代表，通常依次包括基板、第一电极层、有机层和第二电极层。在一种已知为底部发光器件BOTTOMEMITTINGDE。
9、VICE的结构中，第一电极层可形成为透明电极层，且第二电极层可形成为反射电极层。在一种已知为顶部发光器件TOPEMITTINGDEVICE的结构中，第一电极层可形成为反射电极层，且第二电极层可形成为透明电极层。由电极层注入的电子ELECTRON和空穴HOLE在存在于有机层的发光层中重新结合RECOMBINATION以产生光子。对于底部发光器件，光子可向基板侧发射，而对于顶部发光器件，光子可向第二电极层侧发射。在有机发光器件结构中，通常用作透明电极层的铟锡氧化物ITO，INDIUMTINOXIDE、有机层和通常为玻璃的基板的折射率分别为约20、18、15。由于这些折射率之间的关系，例如，底部发光。
10、器件的发光层中产生的光子可被介于有机层和第一电极层的界面中或基板中的全内反射TOTALINTERNALREFLECTION现象等而捕获TRAP，因此，仅发射极少量的光子。0004有机发光器件中应考虑的另一重要问题在于耐久性。由于有机层或电极层等极易被湿气或氧气等的外界物质氧化，因此确保对环境因素的耐久性是非常重要的。为此，例如，对比文件1至4等提出可阻止外界物质侵入的结构。0005现有技术文献0006专利文献0007专利文献1美国专利第6,226,890号0008专利文献2美国专利第6,808,828号0009专利文献3日本公开专利第2000145627号0010专利文献4日本公开专利第200。
11、1252505号发明内容0011技术问题0012本发明提供一种用于有机电子器件的基板、有机电子设备、制造所述基板或设备的方法以及照明设备。0013技术方案0014用于有机电子器件的示例性的基板包括基础层、光学功能层、及电极层。如上所述，光学功能层和电极层可依次层叠于基础层上，因此，光学功能层可位于基础层和电极层说明书CN104205400A2/17页5之间。图1和图2示出示例性的基板，其中，光学功能层103和电极层102依次形成于基础层101上。所述光学功能层可以具有与所述基础层相比小的投影面积，电极层可以具有与所述光学功能层相比大的投影面积。本说明书中使用的术语“投影面积”是指，从所述基板表。
12、面的法线方向的上方观察基板时可分辨的对象物的投影面积，例如，所述基础层、光学功能层、电极层、或后述的中间层的面积。因此，例如，由于光学功能层的表面形成为凹凸形状等，因此，在所述光学功能层的实际表面积比电极层大的情况下，若从上方观察所述光学功能层时可分辨的面积与从上方观察所述电极层时可分辨的面积相比更小，则解释为所述光学功能层具有与所述电极层相比小的投影面积。0015若光学功能层的投影面积比基础层小，且其投影面积比电极层小，则光学功能层可以以各种形态存在。例如，如图1所示，光学功能层103可以仅在不包括基础层101的外围的区域形成，或如图2所述，光学功能层103可以在基础层101的外围上部分地保。
13、留。0016图3是示出从上方观察图1中的基板的示例性实施方案的示意图。如图3所示，从上方观察基板时可以分辨的电极层的面积A，即电极层的投影面积A大于位于电极层下部的光学功能层的投影面积B。电极层投影面积A与所述光学功能层的投影面积B之比值A/B可以为例如104以上、106以上、108以上、11以上、115以上。若光学功能层的投影面积与所述电极层的投影面积相比小时，则可以实现后述的光学功能层不暴露在外部的结构，因此，所述投影面积的比值A/B的上限不作特别限制。考虑到基板的一般制作环境，所述比值A/B的上限可以为，例如约20、约15、约14、约13、约125。在所述基板中，电极层还可形成于未形成光。
14、学功能层的所述基础层的上方。所述电极层以接触所述基础层的方式形成，或在与基础层之间包括附加的元件如后述的中间层等的方式形成。通过上述方式，在制造有机电子器件时，所述结构中的光学功能层不暴露于外界环境。0017例如，如图3所示，电极层可以为在从上方观察时还在超过光学功能层的全部外围的区域形成。此时，例如，如图2所示，在基础层上存在多个光学功能层的情况下，电极层可形成至超过至少一个光学功能层的全部外围的区域，例如，如下所述，光学功能层为例如包括至少一个其上待形成有机层的光学功能层。例如，如果在图2结构的右侧和左侧的光学功能层上也将形成有机层，则图2的结构可发生变化，以使电极层通过延伸至光学功能层的。
15、右侧和左侧而形成至超过位于所述右侧和左侧的光学功能层的全部外围的区域。在上述结构中，光学功能层不暴露于外部的结构，可通过将后述的封装结构附着于在下方未形成光学功能层的电极层或形成导电层而形成。0018光学功能层的投影面积与电极层的投影面积不相同，电极层也形成在未形成有光学功能层的基础层的上方的情况下，通过在未形成有光学功能层的基础层上形成的电极层下面，可简称为基础层上的电极层和在光学功能层上形成的电极层下面，可简称为光学功能层上的电极层的界面的高度差例如，在图1中以附图标记X表示的区域中的高度差，可能会导致增加电极层的电阻。在使用所述基板而制造有机电子设备的情况下，这种电阻的增加可能会导致使施。
16、加于所述设备的电压上升，由此产生降低效率的问题。因此，考虑到这种问题，需要将在所述光学功能层上形成的电极层和在未形成有所述光学功能层的基础层上形成的电极层之间的电阻调节在适当的范围内。例如，以平行于在所述光学功能层上形成的电极层和在未形成所述光学功能层的基础层上形成的电极层的界面的说明书CN104205400A3/17页6方式，在所述界面两侧的规定距离形成平行电极，在所述两个平行电极之间测量的电阻率RESISTIVITY为85CM至20CM、85CM至15CM、85CM至13CM、或9CM至12CM的程度。本说明书中使用的术语“电阻率”是指以如下方式测量的电阻值。即，首先，切割用于有机电子器件。
17、的基板而制作试样。例如，如图4所示，试样可以形成平行电极401而制作，其中平行电极401是以在光学功能层上形成的电极层1022和在未形成有光学功能层的基础层上形成的电极层1021的界面为基准，横向长度D1D2，D1D2为3MM、纵向长度D4为10MM程度的平行电极401。如上所述的平行电极与待测量的电极层1021、1022相比，可以以面电阻低10倍以上的物质形成，例如，可以使用银焊膏而形成，其横向长度D3为约3MM或3MM以上。接着，在该平行电极401连接电阻测量仪402后，通过所述测量仪402可以测量电阻率。即，所述电阻率是，在所述平行电极401之间测量的电阻除以所述平行电极401间的宽度的。
18、数值。上述的长度方向是电流流动的方向，即为垂直于所述平行电极的长度方向的方向，宽度方向是指与所述平行电极平行的方向。另一方面，对在形成有所述高度差的电极层上用所述方法测量的电阻率值R1和不具有高度差而平坦地形成的电极层，以相同的方式测量的电阻率值R2的差R1R2例如为，10CM以下、9CM以下、7CM以下、或5CM以下。所述电阻值的差R1R2，其数值越小越优选，并且其下限没有特别的限定。0019在所述基板中，对将电极层间的电阻调节在所述范围的方法没有特别的限定。作为一种方法，例如，可以示出调节所述光学功能层和电极层的厚度的方法。上述的电极层的厚度是指，在未形成有光学功能层的基础层上形成的电极层。
19、的厚度。通过适当地调节所述光学功能层和电极层的厚度，能够调节电极层间的电阻。例如，在所述基板中，所述光学功能层的厚度T1和在未形成有所述光学功能层的基础层的上方形成的电极层的厚度T2的比值T1/T2为，约3至15、约4至12、或约5至10。上述的光学功能层及电极层的厚度是指各自的平均厚度。若在上述范围内适当地调节所述比值T1/T2，则能够调节电极层间的电阻。0020在所述基板中，所述基础层上的电极层可以具有6H以上、7H以上、或8H以上的铅笔硬度。如下所述，所述基础层上的电极层与封装结构等一同可以形成光学功能层不暴露于外部的结构，另外，在如有机电子设备等器件中可以与外部电源等连接。由于电极层可。
20、能会持续地被磨损或暴露在压力环境中，因此，为了制造电连接等稳定的器件，需要高耐久性。若基础层上的电极层具有上述范围内的铅笔硬度，则能够实现在被持续磨损或暴露在压力环境下具有优异的耐久性的结构。另外，铅笔硬度越高，能够制造出在被持续磨损或暴露于环境下具有越优异的耐久性的结构，因此，对所述铅笔硬度的上限没有特别的限制。例如，常用的所述铅笔硬度的上限可以是10H或9H左右。在所述基板，所述光学功能层上的电极层与所述基础层上的电极层可以具有互不相同的铅笔硬度。例如，在所述基板中，基础层上的电极层可以具有上述范围内的铅笔硬度，光学功能层上的电极层可以具有2B至5H、1H至5H、或1H至4H程度的铅笔硬度。
21、。本说明书中的铅笔硬度是，根据ASTMD3363，以500G的铅笔荷重和250MM/MIN的铅笔移动速度来测量的。0021就所述基板而言，例如，还可以包括均与所述光学功能层上的电极层及所述基础层上的电极层电连接的导电层。图5示出一种基板的示例性实施方案，其中基板进一步包含导电物质，导电物质501通过均与基础层上的电极层1021和光学功能层上的电极层1022说明书CN104205400A4/17页7这两者物理接触而实现电连接。本说明书中使用的术语“电连接”是指，在所连接的对象之间电流可以流动的所有的连接状态。若导电物质以如上方式形成，则如上所述，能够解决在基础层上的电极层和光学功能层上的电极层的。
22、界面的高度差所产生的电极层的电阻增加的问题，从而不局限在上述的光学功能层的厚度和基础层上的电极层厚度的调节等方面，能够更加自由地制造基板。另外，由于存在导电物质，因此能够更加有效地制造光学功能层未暴露于外部的结构。所述导电物质的种类，只要是能够与所述电极层电连接的，就没有特别的限制，例如，能够使用多种电子产品领域中所使用的电极材料。例如，所述导电物质能够使用银AG、铜CU、镍NI、钼MO、或铝AL等金属电极材料等。在所述基板中，在存在有与所述电极层电连接的导电物质的状态下所测量的所述电阻率可以为，例如，1CM至85CM、1CM至80CM、或1CM至77CM。所述电阻除了在存在有与电极层电连接的。
23、导电物质的状态下进行测量之外，可以与上述内容用相同的方式进行测量。0022所述基板还包括，例如，在所述光学功能层与所述电极层之间存在的中间层。就所述中间层而言，例如，与所述光学功能层相比具有更大的投影面积，另外可以形成在所述光学功能层的上方及未形成有所述光学功能层的基础层的上方。图6示出基板的示例性实施方案，其中基板还包括以如上所述的方案形成的中间层601。如上所述的中间层，使在由所述光学功能层而形成的光学功能层上的电极层和基础层上的电极层的界面的高度差缩小，从而解决电极层的电阻增加的问题。另外，作为所述中间层使用势垒层，即使用水分或湿气的透过率低的物质，则能够更加有效地制造光学功能层未暴露于。
24、外部的结构。所述中间层可以是，例如，与所述电极层的折射率之差的绝对值约为1以下、07以下、05以下、或03以下的层。若以如上方式调节折射率，则例如在电极层的上方产生的光，在所述电极层和中间层的界面等被捕获，从而能够防止光提取效率的下降。上述的中间层或电极层的折射率是对550NM程度的波长的光进行测量的折射率。形成所述中间层的物质是，具有与如上所述的电极层的折射率的关系，根据需要，可以是具有势垒性的物质。这种物质已被公知，例如，SION、TIO2、SIO2、AL2O3、TA2O3、TI3O3、TIO、ZRO2、NB2O3、CEO2、或ZNS等。所述中间层使用如上所述的物质，例如通过沉积法或湿涂法。
25、等方法形成。对中间层的厚度没有特别的限制，例如，可以在约10NM至100NM、或约20NM至80NM的范围内。所述厚度是指平均厚度，例如，在光学功能层上形成的中间层和在基础层上形成的中间层可能具有互不相同的厚度。0023在所述基板中，作为基础层，可以无特别限制地使用合适的材料。例如，当用于底部发光BOTTOMEMISSION器件时，可使用透明基础层，例如使用相对于可见光区域的光的透光率为50以上的基础层。作为透明基础层，可列举玻璃基础层或透明聚合物基础层等。玻璃基础层的实例可包括钠钙玻璃、含有钡/锶的玻璃、铅玻璃、铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、钡硼硅酸盐玻璃或石英等基础层，聚合物基础层的实例可包。
26、括含有聚酰亚胺PL，POLYIMIDE、聚萘二甲酸乙二酯PEN，POLYETHYLENENAPHTHALATE、聚碳酸酯PC，POLYCARBONATE、丙烯酸树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯PET，POLYETHYLENETREPHTHATLE、聚醚硫化物PES，POLYETHERSULDE或聚砜PS，POLYSULFONE等的基础层，但不限于此。根据需要，基础层可为具有用于驱动的TFT的TFT基板。如果将基板用于顶部发光TOPEMISSION器件，则基础层无需必须为透明基础层。根据需要，可在基础层的表面等形成例如由铝形成的反射层。例如，如上所述，需要将基础层上的电极层的铅笔说明书CN104205。
27、400A5/17页8硬度维持在高水平的情况下，能够使用如玻璃基础层等的具有刚性的基础层。0024所述基板中，电极层可为用于制造有机电子器件的常规的空穴注入或电子注入电极层。0025空穴注入电极层例如可使用功函数WORKFUCTION相对较高的材料形成，根据需要，可使用透明材料形成。例如，空穴注入电极层可包括功函数为至少约40EV的金属、合金、导电化合物或这些的至少两种的混合物。这类材料的实例包括金属，如金；CUI；氧化物材料，如氧化铟锡ITO、氧化铟锌IZO、氧化锌锡ZTO、掺杂铝或铟的氧化锌、氧化镁铟、氧化镍钨、ZNO、SNO2或IN2O3；金属氮化物，如氮化镓；金属硒化物，如硒化锌；和金属。
28、硫化物，如硫化锌。此外，透明空穴注入电极层可用金属薄层和高折射透明材料的层叠体形成，所述金属例如AU、AG或CU，所述高折射透明材料如ZNS、TIO2或ITO。0026空穴注入电极层可通过任意方法形成，所述方法例如沉积法、喷溅法、化学沉积法或电化学方法。此外，根据需要，形成的电极层可通过已知的技术例如光刻法或荫罩法形成图案。0027透明电子注入电极层可用例如功函数相对较小的透明材料形成，例如，可以使用上述用于形成所述空穴注入电极层的合适的材料，但不限于此。电子注入电极层还可以通过例如沉积法或喷溅法形成，并且，根据需要，可适当地形成图案。0028对如上所述的电极层的厚度没有特别的限定，但考虑到上。
29、述的电极层间的电阻等，例如，可以具有约90NM至200NM、90NM至180NM、或约90NM至150NM的厚度而形成。0029在所述基板中，对位于电极层和基础层之间的光学功能层的种类没有特别的限制。由于光学功能层位于电极层和基础层之间，至少发挥一种光学功能，因此，能够使用如有机电子设备等能够提高器件功能的任意种类的层。通常情况下，就这种光学功能层而言，由于对从外部渗入的水分或湿气等物质的耐久性下降，因此在制造器件后可能会提供所述水分或湿气等向器件内部渗入的路径，从而对器件的性能产生恶劣影响。但是，由于在所述基板的结构中的光学功能层或电极层等的投影面积和形成位置、或者导电物质或中间层等的存在，。
30、在制造器件时，可以制造所述光学功能层未暴露于外部的结构，由此，能够制造耐久性优异的器件。0030光学功能层的一个例子可以例举出光散射层。本申请中使用的“光散射层”是指例如以如下方式形成的所有类型的层能够散射、折射或衍射入射至所述光学功能层的光，并且能够消除或减少从所述电极层方向入射的光被基础层、光散射层、及电极层中的任意两层之间的界面被捕获的现象。只要光散射层可以具有上述功能，就不对所述光散射层的实施方案作特别的限制。0031例如，光散射层可为包括基体材料和散射区域的层。图7示出光散射层的示例性实施方案，其中光散射层包括用散射粒子形成的散射区域702及基体材料701，并且所述光散射层形成于基础。
31、层101处。本说明书中使用的术语“散射区域”可以指例如折射率与周围材料不同且尺寸合适的区域，因而可以散射、折射或衍射入射光，所述周围材料为例如基体材料或在下文中描述的平整层PLANARIZATIONLAYER。所述散射区域可为例如具有如上所述的折射率和尺寸的颗粒，或者可以为空置空间。例如，散射区域可用颗粒形成，所述颗粒的折射率与周围材料不同且高于或低于周围材料的折射率。散射颗粒的折射率与周围材料例如所述基体材料及/或平整层的折射率之差可以大于03或为03以上。例如，散说明书CN104205400A6/17页9射颗粒的折射率可为约10至35或10至30。术语“折射率”是指以波长为约550NM的光。
32、测定的折射率。散射颗粒的折射率可以例如在10至16的范围内或在10至13的范围内。在另一个实施方案中，散射颗粒的折射率可以在约20至35的范围内或在22至30的范围内。散射颗粒的实例可包括平均粒径为至少50NM、至少100NM、至少500NM或至少1,000NM的颗粒。散射颗粒的平均粒径可以为例如10,000NM以下。散射区域还可由空间形成，所述空间具有上述大小并填充有空气而作为空置空间。0032散射颗粒或散射区域可为球形、椭圆形或多面体，或者可以为不定形的，但不对散射颗粒的形状作特别限定。散射颗粒的实例可包括例如颗粒例如，有机材料，如聚苯乙烯或其衍生物，丙烯酸树脂或其衍生物，硅树脂或其衍生物。
33、，酚醛树脂或其衍生物；或无机材料，如二氧化硅、氧化铝、氧化钛或氧化锆。散射颗粒可包括任一种或至少两种上述材料而形成。例如，中空颗粒如中空二氧化硅HOLLOWSILICA或芯/壳结构的颗粒可用作散射颗粒。0033光散射层还可包括基体材料，从而保持散射区域，例如散射颗粒形成的散射区域。基体材料可例如由折射率近似于或高于相邻材料例如基础层的折射率的材料形成。例如，可用作基体材料的为有机材料和无机材料或有机无机复合材料，所述有机材料为聚酰亚胺、含有芴环的卡多树脂CARDORESIN、聚氨酯、环氧树脂、聚酯或丙烯酸酯基热固化或光固化单体、低聚物或聚合物，所述无机材料例如二氧化硅、氮化硅、氮氧化硅或聚硅氧。
34、烷。0034基体材料可包括聚硅氧烷、聚酰胺酸或聚酰亚胺。其中，聚硅氧烷可例如通过可缩合的硅烷化合物或硅氧烷低聚物的缩聚生成，从而形成基于硅氧键SIO的基体材料。通过调节基体材料形成过程中的缩合条件，聚硅氧烷可形成为仅基于硅氧键SIO的材料，或包括部分残留的有机基团例如烷基或可缩合的官能团例如烷氧基。0035例如，可使用相对于波长为633NM的光的折射率为约15以上、约16以上、约165以上或约17以上的聚酰胺酸或聚酰亚胺。这种高折射率的聚酰胺酸或聚酰亚胺可例如使用引入除氟以外的卤原子、硫原子或磷原子的单体而制备。例如，可使用这样的聚酰胺酸，其因存在可连接至颗粒的位点例如羧基而可以增加颗粒的分散。
35、稳定性。聚酰胺酸可使用包括化学式1的重复单元的化合物。003600370038在化学式1中，N为正数。0039所述重复单元可任选地被至少一个取代基取代。取代基的实例可包括除氟以外的卤原子、苯基、苄基、萘基或含卤原子、硫原子或磷原子的官能团，例如硫代苯基。0040聚酰胺酸可为由化学式1的重复单元形成的共聚物，或为包括除化学式1的重复说明书CN104205400A7/17页10单元以外的其他单元的嵌段共聚物或无规共聚物。对于共聚物，例如其他单元的种类和比例可适当地选择，条件是其不影响最终的折射率、耐热性或透光率。0041下述化学式2的重复单元可为化学式1重复单元的具体示例。00420043在化学式。
36、2中，N为正数。0044例如，聚酰胺酸的重均分子量可为约10,000至100,000或约10,000至50,000，所述重均分子量以聚苯乙烯为内标使用凝胶渗透色谱GPC测定。含有化学式1的重复单元的聚酰胺酸在可见光区域的透光率为至少80、至少85或至少90，并且具有超高的耐热性。0045光散射层可为例如具有凹凸结构的层。图8示出在基础层101上形成的具有凹凸结构的光散射层801的示例性实施方案的示意图。入射光可通过适当地控制光散射层的凹凸结构而发生散射。具有凹凸结构的光散射层可例如通过如下方式制造使热固化或光固化材料在与模具接触的情况下固化，所述模具可在固化过程中转印最终的凹凸结构；或者，预先。
37、形成用于形成光散射层的材料层，随后通过刻蚀过程形成凹凸结构。或者，光散射层可通过将具有合适粒径和形状的颗粒结合至形成光散射层的粘合剂而形成。此情况下，所述颗粒不必具有散射功能，然而，也可不作限制地使用具有散射功能的颗粒。0046光散射层可例如通过如下方式形成通过湿涂法WETCOATING涂覆材料，通过加热、光辐射或使用溶胶凝胶法使材料固化，或通过沉积法例如化学气相沉积CVD或物理气相沉积PVD，或通过纳米压印或微热压。0047根据需要，光散射层还可包括高折射颗粒。术语“高折射颗粒”可以指例如折射率为至少15、至少20、至少25、至少26或至少27的颗粒。可例如在合适的范围内选择高折射颗粒的折射。
38、率上限，以满足光散射层的最终折射率。高折射颗粒的平均粒径可例如小于所述散射颗粒的平均粒径。高散射颗粒的平均粒径可为约1NM至100NM、10NM至90NM、10NM至80NM、10NM至70NM、10NM至60NM、10NM至50NM或10NM至45NM。高折射颗粒的实例可包括氧化铝、铝硅酸盐、氧化钛或氧化锆。例如，金红石型二氧化钛可用作折射率为至少25的高折射颗粒。金红石型二氧化钛的折射率高于其他颗粒的折射率，这样，即使以相对较小的比值也可以实现对最终折射率的控制。所述高折射颗粒的折射率可以为对波长为550NM的光进行测量的折射率。0048光学功能层例如是，包括所述光散射层及形成在所述光散射。
39、层的上方的平整层的层。平整层可以以对应于所述光散射层的投影面积而形成。本说明书中使用的术语“具有对应于A的投影面积的B”可以指“A”的投影面积和“B”的投影面积基本相同的情况，以从上方观察基板时可分辨的面积为基准，另有说明除外。术语“基本相同”可包括例如两个区域的投影面积因工艺误差等因素而产生非常小的差值的情况。例如，“A”的投影面积AA说明书CN104205400A108/17页11与具有对应于所述“A”的投影面积的“B”的投影面积BA的比值AA/BA在05至15、07至13、085至115的范围内或基本为1的情况下可包括在上述情况中。当进一步存在有平整层时，所述光散射层和平整层可存在于所述。
40、基础层和电极层之间，所述电极层的投影面积可大于所述光散射层和平整层的投影面积，且所述电极层可形成于未形成所述光散射层和平整层的所述基础层的表面上。然而，平整层并非必须存在的，例如，在光散射层自身平整地形成时，可以省略平整层。0049平整层可提供例如电极层可形成于光散射层之上的表面，并且可通过与光散射层之间的相互作用而提供更高的光提取效率。平整层的折射率可例如等于相邻电极层的折射率。平整层的折射率可为例如约17以上、18至35或22至30。当平整层形成于具有上述凹凸结构的光散射层之上时，所述平整层可形成为折射率与所述光散射层的折射率不同的层。0050平整层可例如通过将上述高折射颗粒与基体材料混合。
41、的方法形成。例如，所述基体材料可使用在所述光散射层的部分描述的基体材料。0051在另一实施方案中，平整层可使用化合物与含有极性基团如羰基或羟基的粘合剂结合的材料，所述化合物例如金属醇盐或金属酰化物，所述金属如锆、钛或铯。所述化合物例如醇盐或酰化物可与粘合剂中的极性基团通过缩合而发生反应，并可通过向粘合剂骨架中引入所述金属而实现高折射率。所述醇盐或酰化物的实例可包括例如钛醇盐，如四正丁醇钛、四异丙醇钛、四正丙醇钛或四乙醇钛；酰化钛，如硬脂酸钛；钛螯合物；锆醇盐，如四正丁醇锆、四正丙醇锆、四异丙醇锆或四乙醇锆；酰化锆，如硬脂酸三丁醇锆；以及锆螯合物。平整层可通过溶胶凝胶法涂覆形成，其中，通过将金属。
42、醇盐例如钛醇盐或锆醇盐与溶剂例如醇或水结合制造涂料溶液，并在施用涂料溶液之后，在合适的温度下烧结所述涂料溶液。0052对如上所述的光学功能性的厚度没有特别的限定，但考虑到上述的电极层间的电阻等，例如，能够具有约500NM至1,000NM、约500NM至900NM、或约500NM至800NM的厚度而形成。0053本申请还涉及有机电子设备。示例性的有机电子设备可包括用于有机电子器件的基板；在所述基板的电极层上形成的有机层；及在所述有机层上形成的电极层。为了区分各电极层，将在用于有机电子器件的基板上形成的电极层称为第一电极层，将在所述有机层上形成的电极层称为第二电极层。在包括所述基板的有机电子设备中。
43、第一电极层的投影面积大于所述基板的光学功能层的投影面积，所述电极层可以在未形成有所述光学功能层的所述的基础层的表面上形成。0054所述有机层可包括至少一层发光层。例如，如第一电极层为透明的且第二电极层为反射电极层，则可得到如下的底部发光器件在有机层的发光层中产生的光子通过光散射层向基础层侧发射。0055有机电子设备中的光学功能层的投影面积可例如对应于或大于发光层的发光区域的投影面积。例如，光学功能层的形成区域的长度B与发光层的发光区域的长度C之差BC可在约10M至约2MM的范围内。在上述实施方案中，光学功能层的形成区域的长度B为从上方观察光学功能层时可辨别的区域中的任一方向的长度，此情况下，发。
44、光区域的长度C也可以指在与所述光学功能层的形成区域的长度B方向相同的方向上测说明书CN104205400A119/17页12量的长度，基于从上方观察发光区域时可辨别的区域计。光学功能层还可在对应于所述发光区域的位置形成。本文中使用的术语“在对应于发光区域的位置形成的光学功能层”可指例如在从上方或下部观察有机电子设备时，发光区域和光学功能层基本上彼此重叠的情况。0056在一实施方案中，有机电子器件可为有机发光器件OLED。对于有机发光器件，所述有机电子器件可具有例如如下结构包括至少一层发光层的有机层介于空穴注入电极层与电子注入电极层之间。例如，如果基板中的电极层为空穴注入电极层，则第二电极层可为。
45、电子注入电极层，相反地，如果基板中的电极层为电子注入电极层，则第二电极层为空穴注入电极层。0057位于电子注入电极层和空穴注入电极层之间的有机层可包括至少一层发光层。有机层可包括多层即至少两层发光层。如果包括至少两层发光层，则发光层可具有如下结构发光层由具有电荷生成性能的中间电极层或电荷生成层CGL分隔。0058发光层可例如使用各种本领域已知的荧光或磷光有机材料形成。用于发光层的材料的实例包括ALQ型材料，例如三4甲基8羟基喹啉铝IIITRIS4METHYL8QUINOLINOLATEALUMINUMIIIALQ3、4MALQ3或GAQ3等的ALQ系列材料；C545TC26H26N2O2S、D。
46、SA胺、TBSA、BTP、PAPNPA、螺环FPA、PH3SIPHTDAOXD、环戊二烯CYCLOPENADIENE衍生物例如PPCP1,2,3,4,5五苯基1,3环戊二烯、DPVBI4,4二2,2二苯基乙烯基1,1联苯、二苯乙烯基苯或其衍生物或DCJTB4二氰基亚甲基2叔丁基61,1,7,7,四甲基久洛尼啶9烯基4H吡喃，4DICYANOMETHYLENE2TERTBUTYL61,1,7,7,TETRAMETHYLJULOLIDYL9ENYL4HPYRAN、DDP、AAAP、NPAMLI；或磷光材料，例如FIRPIC、MFIRPIC、NFIRPIC、BON2IRACAC、C62IRACAC、。
47、BT2IRACAC、DP2IRACAC、BZQ2IRACAC、BO2IRACAC、F2IRBPY、F2IRACAC、OP2IRACAC、PPY2IRACAC、TPY2IRACAC、FIRPPY面式三24,5二氟苯基吡啶C2,N合铱III,FACTRIS24,5DIFLUOROPHENYLPYRIDINEC2,NIRIDIUMIII或BTP2IRACAC二22苯并4,5A噻吩基吡啶N,C3合铱乙酰丙酮BIS22BONZO4,5ATHIENYLPYRIDINATON,C3IRIDIUMACETYLACTONATE，但不限于此。发光层可具有主体掺杂HOSTDOPANT体系，所述主体掺杂体系包括所述材。
48、料作为主体，且包括苝PERYLENE、二苯乙烯基联苯DISTYRYLBIPHENYL、DPT、喹吖酮QUINACRIDONE、红荧烯RUBRENE、BTX、ABTX、DCJTB等作为掺杂体。0059发光层可适当使用电子接收有机化合物或电子给予有机化合物中合适类型的表现出发光性能的物质形成，所述电子接收有机化合物或电子给予有机化合物将在下文中描述。0060有机层可用还包括本领域已知的其他功能性层的各种结构形成，条件是其包括发光层。可包括在有机层中的所述层的实例可包括电子注入层、空穴阻挡层、电子传输层、空穴传输层和空穴注入层。0061电子注入层或电子传输层可例如使用电子接收有机化合物ELECTRO。
49、NACCEPTINGORGANICCOMPOUND形成。任何已知的化合物均可无特定限制地用作电子接收有机化合物。所述有机化合物的实例可包括多环化合物或其衍生物，例如对三联苯或四联苯；多环说明书CN104205400A1210/17页13烃类化合物或其衍生物，例如萘、稠四苯、芘、六苯并苯、蒽、二苯基蒽、并四苯或菲；和杂环化合物或其衍生物，例如邻二氮杂菲、红菲绕啉、菲啶、吖啶、喹啉、喹喔啉或吩嗪。此外，可用在低折射层中的电子接收有机化合物还有荧光素、苝、酞苝PHTHALOPERYLENE、萘并苝NAPHTHALOPERYLENE、苝酮PERYNONE、酞苝酮PHTHAHLOPERYNONE、萘并苝酮NAPHTHALOPERYNONE、二苯基丁二烯、四苯基丁二烯、噁二唑、醛连氮、双苯并噁唑啉、联苯乙烯、吡嗪、环戊二烯、8羟基喹啉、氨基喹啉、亚胺、二苯基乙烯、乙烯基蒽、二氨基咔唑、吡喃、噻喃、多甲炔、部花青MEROCYANINE、喹吖酮或红荧烯或其衍生物；日本特开第1988295695号公报、日本特开第199622557号公报、日本特开第199681472号公报、日本特开第1993009470号公报或日本特开第1993017764号公报等公开的金属螯合络合化合物，例如金属螯合化OXANOID化合物METALCHEL。