低熔点的电镀铝用镀液的调制方法、电镀铝用镀液、铝箔的制造方法、以及降低电镀铝用镀液的熔点的方法.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201380011635.5

申请日:

2013.02.27

公开号:

CN104204308A

公开日:

2014.12.10

当前法律状态:

实审

有效性:

审中

法律详情:

实质审查的生效IPC(主分类):C25D3/44申请日:20130227|||公开

IPC分类号:

C25D3/44; C25D1/04

主分类号:

C25D3/44

申请人:

日立金属株式会社

发明人:

冈本笃志; 松田纯一

地址:

日本东京

优先权:

2012.02.29 JP 2012-044378

专利代理机构:

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038

代理人:

王永红

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内容摘要

本发明的特征在于在调制至少含有(1)二烷基砜、(2)铝卤化物、以及(3)含氮化合物的电镀铝用镀液之际的二烷基砜、铝卤化物、含氮化合物的配合比例,相对于二烷基砜10摩尔,铝卤化物为3.5+n~4.2+n摩尔,含氮化合物为n摩尔(其中n为0.001~2.0摩尔)。还有,在通过本发明的方法调制的电镀铝用镀液中,相对于通电量,铝的析出效率高的电镀处理是可能的,因此谋求电使用量的削减有在经济性方面优异的有利之处。

权利要求书

1.  电镀铝用镀液的调制方法,其为至少含有(1)二烷基砜、(2)铝卤化物、以及(3)含氮化合物的电镀铝用镀液的调制方法,其特征在于,通过在调制镀液之际的二烷基砜、铝卤化物、含氮化合物的配合比例相对于二烷基砜10摩尔,铝卤化物为3.5+n~4.2+n摩尔,含氮化合物为n摩尔(其中n为0.001~2.0摩尔),以使镀液的熔点在25℃以下。

2.
  权利要求1记载的电镀铝用镀液的调制方法,其特征在于,二烷基砜为二甲基砜。

3.
  权利要求1记载的电镀铝用镀液的调制方法,其特征在于,含氮化合物为从卤化铵、伯胺的氯化氢盐、仲胺的氯化氢盐、叔胺的氯化氢盐、通式:R1R2R3R4N·X(R1~R4为相同或者是相异的烷基,X表示相对于季胺阳离子的阴离子)表示的季胺盐、含氮芳香族化合物组成的组中选择的至少1种。

4.
  电镀铝用镀液,其特征在于,其是通过权利要求1记载的调制方法所调制而成的。

5.
  铝箔的制造方法,其特征在于,其通过使用权利要求4记载的电镀铝用镀液的电解法在基材的表面形成铝被膜后,将该被膜从基材剥离。

6.
  降低电镀铝用镀液的熔点的方法,其特征在于,在调制至少含有(1)二烷基砜、(2)铝卤化物、以及(3)含氮化合物的电镀铝用镀液之际的二烷基砜、铝卤化物、含氮化合物的配合比例,相对于二烷基砜10摩尔,铝卤化物为3.5+n~4.2+n摩尔,含氮化合物为n摩尔(其中n为0.001~2.0摩尔)。

说明书

低熔点的电镀铝用镀液的调制方法、电镀铝用镀液、铝箔的制造方法、以及降低电镀铝用镀液的熔点的方法
技术领域
本发明涉及以电解法制造可作为如锂离子二次电池或超级电容器(电双层电容器、氧化还原电容器、锂离子电容器等)的蓄电设备的正极集电体等使用的铝箔之际等可适当采用的、低熔点的电镀铝用镀液的调制方法、电镀铝用镀液、铝箔的制造方法、以及降低电镀铝用镀液的熔点的方法。
背景技术
在手机或笔记本电脑等的便携工具的电源中所使用的拥有高能源密度,且,没有放电容量的显著减少的锂离子二次电池虽是周知的事实,但近年来伴随便携工具的小型化,其中所安装的锂离子二次电池也被要求小型化。另外,伴随从地球温暖化防止对策等观点来的混合动力汽车或太阳能发电等技术的进展,加速以电双层电容器、氧化还原电容器、锂离子电容器等拥有高能源密度的超级电容器的新用途扩展的同时,这些被要求更高的能源密度化。
如锂离子二次电池或超级电容器的蓄电设备,例如,在作为电解质含有LiPF6或NR4·BF4(R为烷基)等的含氟化合物的有机电解液中,正极和负极具有介由以聚烯烃等构成的隔板所配置的结构。正极是以LiCoO2(钴酸锂)或活性炭等的正极活性物质和正极集电体组成的同时,负极是以石墨或活性炭等的负极活性物质和负极集电体组成,一般是各自的形状为在集电体的表面涂布活性物质成型为薄片状。对于各电极,除被施加大电压外,还被浸渍在含有腐蚀性高的含氟化合物的有机电解液中,特别是正极集电体的材料被要求电传导性良好的同时,耐腐蚀性也良好。从这样的情况,现在,作为正极集电体材料,几乎100%为电良 导体,且,采用通过在表面形成惰性膜而具有良好耐腐蚀性的铝。另外,作为负极集电体的材料,可例举铜或镍等。
作为使蓄电设备小型化或高能源密度化的一个方法,有构成以薄片状成型电极的集电体的薄膜化。目前来看,正极集电体中,一般使用通过压延法制造的厚度在15~20μm左右的铝箔,通过使该铝箔的厚度更薄可达成目的。但是压延法中,在工业的制造规模上,很难使箔的厚度做的比上述更薄。
为此,作为替代压延法的铝箔的制造方法,考虑到通过电解法制造铝箔的方法。通过电解法的金属箔的制造,例如,在不锈钢板等基材的表面以电镀形成金属被膜后,通过将该被膜从基材剥离来进行的,例如作为铜箔的制造方法是众所皆知的。但是,由于铝在电化学上是贱金属,故电镀有时非常难的,通过电解法制造铝箔并非容易。专利文献1中公开了作为通过电解法铝箔的制造方法,使用由氯化铝50~75摩尔%和烷基吡啶氯化物25~50摩尔%构成的电解浴或者是在此浴中添加有机溶媒的电解浴的方法,但此方法中,镀液的氯浓度非常高。因此,镀液所含的氯在镀覆处理中通过和大气中的水分反应而产生氯化氢气体,会引发设备腐蚀的问题,所以有必要寻求防止氯化氢气体的产生的对策或防止产生的氯化氢气体腐蚀设备的对策。另外,专利文献1记载的方法中,因可施加的电流密度即使最大也是2A/dm2程度,存在成膜速度慢的问题(若施加电流密度比此更高,则引发镀液分解等导致无法稳定地进行镀覆处理)。成膜速度可期待通过在镀液中添加苯或甲苯等的有机溶媒来改善,但这些有机溶媒的有如毒性高,另外,易燃性高的担心性,因此从废液处理的容易性和安全性的观点而论,不得不说在镀液中添加这些有机溶媒是有问题的。
鉴于以上的方面,本发明人的研究小组,迄今为止致力于进行通过使用氯浓度低的镀液的电解法,以快速的成膜速度制造富有延展性的高纯度铝箔的方法的研究,作为其成果,在专利文献2中提案如下方法:通过使用至少含有(1)二烷基砜,(2)铝卤化物,以及,(3)从卤化铵、伯胺的氯化盐、仲胺的氯化盐、叔胺的氯化盐、通式:R1R2R3R4N·X(R1~R4 为相同或者是相异的烷基,X表示相对于季胺阳离子的阴离子)表示的季胺盐组成的组中所选择的至少1个的含氮化合物的镀液的电解法在基材的表面形成铝被膜后,将该被膜从基材剥离的方法。根据专利文献2,此电镀铝用镀液中的二烷基砜,铝卤化物,含氮化合物的配合比例相对于二烷基砜10摩尔,优选铝卤化物为1.5~4.0摩尔,优选含氮化合物为0.01~2.0摩尔。这样的配合比例的镀液虽以快速成膜速度制造富有延展性的高纯度铝箔之际等有用,但在操作性的方面等还留有改良的余地。具体而论,这样的配合比例的镀液,因作为溶媒成分使用二烷基砜的熔点高(例如二甲基砜的熔点为约110℃),进行电镀处理之际,从如若不使镀液的温度高于二烷基砜的熔点以上,则镀液会固化而无法进行处理的方面,或在25℃的常温镀液是固化的,因此无法简易且圆滑地进行镀液的调制或废弃等的方面,所以期待不大幅变更镀液的配合比例而降低熔点的方法。
关于降低电镀铝用镀液的熔点的方法,本发明人的研究小组通过所提案的专利文献3有如下记载:在含有二烷基砜和铝卤化物的电镀铝用镀液的情况下,相对于二烷基砜10摩尔,铝卤化物4摩尔来调整两者的配合比例,则熔点降低,即使在60℃也使电镀处理成为可能。但是,专利文献3记载的镀液由于不含有专利文献2记载的含氮化合物,因此在含有专利文献2记载的含氮化合物的镀液中也以二烷基砜和铝卤化物的配合比例为相对于前者10摩尔后者4摩尔则能一定使熔点降低而论,通过本发明人的探讨明确其未必可行。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:特开平1-104791号公报
专利文献2:国际公开第2011/001932号
专利文献3:特许第4609777号公报
发明内容
发明所要解决的课题
在此,本发明的目的在于提供快速的成膜速度制造富有延展性的高纯度铝箔之际等有用的电镀铝用镀液,调制即使25℃也不固化可进行电镀处理,操作性良好的镀液的方法,通过此方法所调制电镀铝用镀液,使用此电镀铝用镀液的铝箔的制造方法,以及,降低电镀铝用镀液的熔点的方法。
用于解决课题的手段
本发明人,鉴于上述的方面进行专心探讨的结果,在调制含有二烷基砜,铝卤化物,含氮化合物的电镀铝用镀液之际,相对于二烷基砜的铝卤化物和含氮化合物的配合比例,在前者的配合比例依赖于后者的配合比例的规定关系的情况下,得到的镀液是低熔点的,发现即使在25℃也不固化并具有流动性。
基于上述见解而完成的本发明的电镀铝用镀液的调制方法,如权利要求1记载,其为至少含有(1)二烷基砜、(2)铝卤化物、以及(3)含氮化合物的电镀铝用镀液的调制方法,其特征在于,在调制镀液之际的二烷基砜、铝卤化物、含氮化合物的配合比例,相对于二烷基砜10摩尔,铝卤化物为3.5+n~4.2+n摩尔,含氮化合物为n摩尔(其中n为0.001~2.0摩尔),以使镀液的熔点在25℃以下为特征。
另外,权利要求2记载的电镀铝用镀液的调制方法是在权利要求1记载的电镀铝用镀液的调制方法中,其特征在于,二烷基砜为二甲基砜。
另外,权利要求3记载的电镀铝用镀液的调制方法是在权利要求1记载的电镀铝用镀液的调制方法中,其特征在于,含氮化合物是从卤化铵、伯胺的氯化氢盐、仲胺的氯化氢盐、叔胺的氯化氢盐、通式:R1R2R3R4N·X(R1~R4为相同或者是相异的烷基,X表示相对于季胺阳离子的阴离子)表示的季胺盐、含氮芳香族化合物组成的组中选择的至少1种。
另外,本发明的电镀铝用镀液,如权利要求4记载,其特征在于,其是通过权利要求1记载的调制方法调制而成的。
还有,本发明的铝箔的制造方法,如权利要求5记载,其特征在于,通过使用权利要求4记载的电镀铝用镀液的电解法在基材的表面形成铝被膜后,将该被膜从基材剥离。
另外,本发明的降低电镀铝用镀液的熔点方法,如权利要求6记载,其特征在于,在调制至少含有(1)二烷基砜、(2)铝卤化物、以及(3)含氮化合物的电镀铝用镀液之际的二烷基砜、铝卤化物、含氮化合物的配合比例,相对于二烷基砜10摩尔,铝卤化物为3.5+n~4.2+n摩尔,含氮化合物为n摩尔(其中n为0.001~2.0摩尔)。
发明的效果
根据本发明,在以快速的成膜速度制造富有延展性的高纯度铝箔之际等有用的电镀铝用镀液中,能够提供调制即使在25℃也不固化地可进行电镀处理的、操作性良好的镀液的方法,通过此方法调制的电镀铝用镀液,使用此电镀铝用镀液的铝箔的制造方法,以及,降低电镀铝用镀液的熔点的方法。另外,在通过本发明的方法所调制的电镀铝用镀液中,相对于通电量的铝的析出效率高的电镀处理是可能的,因此谋求电使用量的削减有在经济性方面优异的有利之处。
附图说明
[图1]将使用通过本发明的方法所调制的电镀铝用镀液所制造的铝箔作为蓄电设备用正极集电体利用的蓄电设备的一例的概略图。
[图2]图1的A-A断面。
具体实施方式
本发明的电镀铝用镀液的调制方法为至少含有(1)二烷基砜、(2)铝卤化物、以及(3)含氮化合物的电镀铝用镀液的调制方法,其特征在于,在调制镀液之际的二烷基砜、铝卤化物、含氮化合物的配合比例相对于二烷基砜10摩尔,铝卤化物为3.5+n~4.2+n摩尔,含氮化合物为n摩尔(其中n为0.001~2.0摩尔),以使镀液的熔点在25℃以下。本发明的方法为:调制电镀铝用镀液的构成成分的配合比例并未将专利文献2中所优选的配合比例大幅变更,即使在25℃也不固化并具有流动性的低熔点的镀液的方法。尤其是基于镀液的电传导性的改善因施加高电流密度的电镀处理的实现使成膜速度的提升,有助于铝箔的高纯度化或延展 性的提升等的含氮化合物相对于二烷基砜的配合比例,并未将专利文献2中所优选的配合比例变更,因此通过本发明的方法所调制的镀液对在以快速成膜的速度制造富有延展性高纯度的铝箔之际等有用。另外,在通过本发明的方法所调制的镀液中,相对于通电量的铝的析出效率高的电镀处理是可能的,因此谋求电使用量的削减有在经济性上优异的有利之处。
在调制镀液之际,相对于二烷基砜的铝卤化物和含氮化合物的配合比例为:在将前者的配合比例依赖于后者的配合比例的上述关系的情况,得到即使在25℃也不固化并具有流动性的低熔点的镀液的理由虽未必清楚,现阶段中本发明人做了如下的推测。如专利文献3记载的那样,相对于二烷基砜10摩尔的铝卤化物的配合比例在4摩尔的情况,镀液的熔点虽降低,但考虑这起因于:以相对于二烷基砜铝的卤化物的配合比例在此数值附近,在镀液中与铝离子配位而形成络合物的二烷基砜的比例高,未形成络合物的游离二烷基砜的比例低。若在此配合含氮化合物,因与铝离子配位而形成络合物的二烷基砜的比例减少,未形成络合物的游离的二烷基砜的比例虽有増加,通过追加配合含氮化合物的配合摩尔数那部分的铝卤化物,因与铝离子配位而形成络合物的二烷基砜的比例増加,未形成络合物的游离的二烷基砜的比例减少,其结果,认为镀液的熔点降低。
作为在通过本发明的方法所调制的电镀铝用镀液中所含的二烷基砜,虽可例举二甲基砜、二乙基砜、二丙基砜、二己基砜、甲乙基砜等的烷基的碳数在1~6的二烷基砜(直链状或分支状都可),但从良好的电传导性或入手的容易性等的观点看可优选采用二甲基砜。
作为铝卤化物,虽可例举氯化铝或溴化铝等,但从使成为妨碍铝的析出要因的镀液所含的水分的量尽可能减少的观点看,优选使用铝卤化物为无水物。
含氮化合物意味着在1个分子中具有1个以上的氮原子的化合物。作为优选采用的含氮化合物,可例举卤化铵、伯胺的氯化氢盐、仲胺的氯化氢盐、叔胺的氯化氢盐、通式:R1R2R3R4N·X(R1~R4为相同或者是相异 的烷基,X表示相对于季胺阳离子的阴离子)所示的季胺盐、含氮芳香族化合物等。这些含氮化合物可单独使用,也可将多个种类混合使用。
可作为含氮化合物采用的卤化铵而论,可例举氯化铵或溴化铵等。另外,作为伯胺~叔胺,可举例甲胺、二甲胺、三甲胺、乙胺、二乙胺、三乙胺、丙胺、二丙胺、三丙胺、己胺、甲乙胺等的烷基的碳数在1~6的胺(直链状或分支状均可)。作为卤化氢,可举例氯化氢或溴化氢等。在通式:R1R2R3R4N·X(R1~R4为相同或者是相异的烷基,X表示相对于季胺阳离子的阴离子)表示的季胺盐中作为R1~R4所示的烷基,可举例甲基、乙基、丙基、己基等的碳数在1~6的烷基(直链状或分支状都可)。作为X,可举例氯离子或溴离子或碘离子等的卤化物离子以外,还有BF4-或PF6-等。作为具体的化合物,可举例氯化四甲铵、溴化四甲铵、碘化四甲铵、四氟化硼四乙铵等。作为含氮芳香族化合物,可举例菲咯啉等。作为含氮化合物,从以快速的成膜速度容易制造富有延展性的高纯度铝箔的观点看,叔胺的盐酸盐,例如可例举三甲胺盐酸盐。
通过本发明的方法所调制的电镀铝用镀液中,二烷基砜、铝卤化物、含氮化合物的配合比例相对于二烷基砜10摩尔,铝卤化物为3.5+n~4.2+n摩尔,含氮化合物为n摩尔(其中n为0.001~2.0摩尔)。本发明中重点在于,将相对于二烷基砜的铝卤化物的配合比例改为依赖于相对于二烷基砜的含氮化合物的配合比例的点上,混合满足上述关系的配合比例的这些成分而调制成镀液,能得到即使在25℃也不固化并具有流动性低熔点的镀液。并且,通过本发明的方法所调制的镀液中,相对于通电量的铝的析出效率高的电镀处理是可能的,因此谋求电使用量的削减有在经济性优异的有利之处。另外,镀液的调制优选在氮气体或不活性气体的氛围下,将这些成分的混合物升温至二烷基砜的熔点,将铝卤化物和含氮化合物溶解在溶融的二烷基砜中进行。相对于二烷基砜的含氮化合物的配合比例是相对于二烷基砜10摩尔为0.001~2.0摩尔,低于0.001摩尔则配合的效果,即,有难以得到基于镀液的电传导性的改善施加高电流密度的电镀处理的实现所致成膜速度的提升,铝箔的高纯度化或延展性的提升等效果的担心,另一方面,超过2.0摩尔则因镀液的 组成在本质上改变,有铝不析出的担心。相对于二烷基砜的含氮化合物的配合比例优选相对于二烷基砜10摩尔为0.05~1.5摩尔。将相对于二烷基砜的铝卤化物的配合比例设为依赖相对于二烷基砜10摩尔的含氮化合物的配合比例n摩尔为3.5+n~4.2+n摩尔,因为即使低于3.5+n摩尔,即使超过4.2+n摩尔,也都有镀液的熔点不降低的担心或有相对于通电量的铝的析出效率降低的担心。另外,对于相对于二烷基砜的铝卤化物的配合比例,若过少则有发生形成的铝被膜发黑的现象(被称为烧焦的现象)的担心或有成膜效率降低的担心,另一方面,若过多则因镀液的液电阻过高而有使镀液发热并分解的担心。相对于二烷基砜的铝卤化物的配合比例优选相对于二烷基砜10摩尔为3.8+n~4.0+n摩尔。
使用通过本发明的方法所调制的电镀铝用镀液制造铝箔的情况下,通过电解法在基材的表面形成铝被膜后,当该被膜从基材剥离来进行即可。通过本发明的方法所调制的镀液为即使在25℃也不固化并具有流动性的低熔点的镀液。因此,镀液的温度即使在25℃也可进行电镀处理。例如镀液的温度在25~80℃来进行电镀处理的情况下,优选施加电流密度为2~15A/dm2。施加电流密度低于2A/dm2则有成膜效率降低的担心,另一方面,超过15A/dm2则含氮化合物的分解等原因使稳定的电镀处理无法进行或有得不到富有延展性的高纯度铝箔的担心。更优选施加电流密度为3~12A/dm2。通过本发明的方法所调制的镀液在进行电镀处理之际,也可加温至超过80℃的温度来使用。若提高镀液的温度,则通过镀液的粘度降低而使电传导性提升。通过本发明的方法所调制的镀液在加温至超过80℃的温度的情况下,由于可施加超过15A/dm2的电流密度,因此有效的电镀处理成为可能(施加电流密度的上限为例如60A/dm2)。另外,进行电镀处理之际的镀液的温度的上限为例如150℃。若镀液的温度超过150℃,则镀液因发生不可忽视的蒸发有使其组成变化的担心,或在基材的表面形成的铝被膜和镀液之间的反应活跃化,铝被膜中组入很多杂质而有使其纯度降低的担心。电镀处理的时间虽然依赖于铝箔所期望的厚度、镀液的温度或施加电流密度等,但通常为0.5~90分钟。电镀处理的环境从谋求防止镀液的劣化并延长其寿命的观点看,优选干 燥气氛。
作为形成铝被膜的基材(阴极),可举例不锈钢板,钛板,铝板,镍板,铜板等。通常为使铝被膜从基材的剥离容易,优选通过在基材的表面施加镜面加工等尽可能使其平滑,但使用通过本发明的方法所调制的电镀铝用镀液在基材的表面形成的铝被膜,具有相对于基材不施加这样的加工也能容易剥离的特征(其理由尚不清楚,但推测铝被膜在基材的表面形成之际,接触基材一侧的铝被膜的表面附近与来自于镀液的S和Cl变浓有关)。另外,作为阳极的材料,可例举例如铝。铝被膜从基材的剥离可以分批进行以外,使用阴极鼓可使铝被膜的形成和剥离连续地进行(例如特开平6-93490号公报)。
如果使用通过本发明的方法所调制的电镀铝用镀液,即使镀液的温度在80℃以下,目前来看,以压延法制造非常困难的厚度在15μm以下的铝箔,更进一步,说以压延法不可能制造也不过分的厚度在10μm以下的铝箔,可通过电解法来制造。另外,通过本发明的方法所调制的镀液中,相对于通电量的铝的析出效率高的电镀处理是可能的,因此谋求电使用量的削减而在经济性有优异的有利之处。并且,使用通过本发明的方法所调制的镀液得到的铝箔除富有延展性以外,还是高纯度。具体而论,如果使用通过本发明的方法所调制的镀液,可容易地制造,例如,铝的含量为97.0~99.9质量%,S和Cl的含量均为1.5质量%以下(标准的为0.01~0.5质量%),厚度在1~15μm的铝箔(含有微量从大气中不可避免混入的C或O)。被制造的铝箔可用于作为蓄电设备的小型化或高能源密度化的被薄膜化的正极集电体等。并且,通过本发明的方法所调制的镀液,不仅可在以快速的成膜速度制造富有延展性的高纯度铝箔之际利用,也可作为将设计性或耐候性赋予各种的物品进行铝涂层之际利用。另外,通过本发明的方法所调制的镀液,无需为加快成膜速度而添加苯或甲苯等的有机溶媒,将其水洗是可能的,具有可容易进行废液处理的有利之处。
实施例
以下,虽通过实施例详细说明本发明,但本发明并不限于以下的记 载而进行解释。
实施例1:
在氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、三甲胺盐酸盐如表1所示按6种摩尔比混合,在110℃溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室温(25℃)后,经静置24小时通过目测观察其性状。结果如表1所示。另外,表1中“本发明适用性”,以把作为含氮化合物的三甲胺盐酸盐的摩尔数为n时的无水氯化铝的摩尔数在3.5+n~4.2+n的范围内则为“适用”,在范围外则为“非适用”。
[表1]

镀液No.123456二烷基砜(摩尔)101010101010无水氯化铝(摩尔)4.04.04.04.04.04.0三甲基胺盐酸盐(摩尔)0.010.050.10.512本发明适用性适用适用适用适用非适用非适用在25℃的性状有流动性有流动性有流动性有流动性无流动性无流动性

如表1所明示,镀液含有三甲胺盐酸盐的情况下,按照专利文献3记载的将二甲基砜和无水氯化铝的配合比例,相对于前者10摩尔,将后进行4摩尔的话也并非熔点必然降低,相对于二甲基砜的三甲胺盐酸盐的配合比例多,则判明在25℃固化。
分别使用表1记载的镀液No.1~4,施加3A/dm2的电流密度,镀液保持30℃边搅拌边进行电镀处理15分钟。另外,阳极为纯度99.99%的铝板,阴极(为了形成铝被膜的基材)使用铜板。15分钟后,将铜板从镀液中取出,进行水洗并干燥后,通过目测观察其表面时,铜板的表面有白色的铝被膜形成。另外,施加18A/dm2的电流密度,镀液保持100℃边搅拌边进行电镀处理5分钟的情况,也会在铜板的表面有白色的铝被膜形成。通过任一的电镀处理在表面形成铝被膜的铜板,若使从其端部的铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。
另外,分别使用表1记载的镀液No.1~6,施加3A/dm2的电流密度,镀液保持100℃边搅拌边进行电镀处理15分钟,将各自相对于通电量的 铝的析出效率(电析效率)通过以下的数式算出。其结果,适用于本发明镀液的镀液No.1为87%,镀液No.2为94%,镀液No.3为95%,镀液No.4为85%,任一的电析效率均在85%以上,不适用于本发明镀液的镀液No.5为83%,镀液No.6为79%,任一的电析效率均未满足85%。并且,适用于本发明镀液的镀液No.1~4即使在镀液保持30℃并进行电镀处理的情况,电析效率也为相同的数值。
电析效率(%)=析出的铝质量(g)/[通电电流值(A)×通电时间(秒)×27÷3÷96500(C)]×100
(式中,通电电流值(A)为通过电流密度(A/dm2)和阴极表面积(dm2)的积,27为铝的原子量,3为铝的原子价)
实施例2:
氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、三甲胺盐酸盐按表2所示6种摩尔比混合、在110℃溶解而调制电镀铝用镀液。另外,氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、氯化四甲铵按表3所示6种摩尔比混合,在110℃溶解而调制电镀铝用镀液。并且,氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、三甲胺盐酸盐按表4所示6种摩尔比混合,在110℃溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室温(25℃)后,经静置24小时通过目测观察其性状。结果如表2~4所示。并且,表2~4中“本发明适用性”,以把作为含氮化合物的三甲胺盐酸盐或者氯化四甲铵的摩尔数为n时的无水氯化铝的摩尔数在3.5+n~4.2+n的范围内则为“适用”,在范围外则为“非适用”。
[表2]
镀液No.123456二烷基砜(摩尔)101010101010无水氯化铝(摩尔)3.43.63.84.04.24.3三甲基胺盐酸盐(摩尔)0.010.010.010.010.010.01本发明适用性非适用适用适用适用适用非适用在25℃的性状无流动性有流动性有流动性有流动性有流动性无流动性

[表3]
镀液No.123456二烷基砜(摩尔)101010101010无水氯化铝(摩尔)3.04.04.34.54.74.8三甲基胺盐酸盐(摩尔)0.50.50.50.50.50.5本发明适用性非适用适用适用适用适用非适用在25℃的性状无流动性有流动性有流动性有流动性有流动性无流动性

[表4]
镀液No.123456二烷基砜(摩尔)101010101010无水氯化铝(摩尔)5.45.65.86.06.26.4三甲基胺盐酸盐(摩尔)222222本发明适用性非适用适用适用适用适用非适用在25℃的性状无流动性有流动性有流动性有流动性有流动性无流动性

如表2~4所明示,与相对于二烷基砜的含氮化合物的配合比例所对应,通过变化铝卤化物的配合比例,得到即使在25℃也不固化并具有流动性的镀液。将以上的结果作为基础,进一步探讨在调制镀液之际的二烷基砜、铝卤化物、含氮化合物的配合比例时,判明:相对于二烷基砜10摩尔,铝卤化物为3.5+n~4.2+n摩尔,含氮化合物为n摩尔(其中n为0.001~2.0摩尔)的情况下,得到的镀液为低熔点,即使在25℃也不固化并具有流动性。
分别使用如表2~4记载的镀液No.2~5,施加3A/dm2的电流密度,镀液保持30℃边搅拌边进行电镀处理15分钟。另外,阳极为纯度99.99%的铝板,阴极(为了形成铝被膜的基材)使用铜板。15分钟后,将铜板从镀液中取出,进行水洗并干燥后,通过目测观察其表面时,铜板的表面有白色的铝被膜形成。还有,施加18A/dm2的电流密度,镀液保持100℃边搅拌边进行电镀处理5分钟的情况,也会在铜板的表面有白色的铝被膜形成。通过任一的电镀处理在表面形成铝被膜的铜板,若使从其端部的铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。
另外,分别使用表2记载的镀液No.1~6相对于通电量的铝的析出效率(电析效率)通过和实施例1记载的方法同样算出。其结果,适用于本发明镀液的镀液No.2为92%,镀液No.3为95%,镀液No.4为93%,镀液No.5为93%,任一的电析效率均在85%以上,不适用于本发明镀液的镀液No.1为84%,镀液No.6为84%,任一的电析效率均未满足85%。表3和表4记载的镀液No.1~6各自的相对于通电量的铝的析出效率(电析效率)通过和实施例1记载的方法同样算出,适用于本发明镀液的镀液No.2~5的电析效率任一个均在85%以上,不适用于本发明镀液的镀液No.1,6的电析效率任一个均未满足85%。
实施例3:
氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、三甲胺盐酸盐按摩尔比10:3.8:0.001的比例混合,在110℃溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室温(25℃)后,经静置24小时通过目测观察其性状,不固化并具有流动性。使用该镀液,施加50A/dm2的电流密度,镀液保持145℃边搅拌边进行电镀处理3分钟(阳极:纯度99.99%的铝板,阴极:铜板),铜板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中相对于通电量的铝的析出效率(电析效率)通过实施例1记载的数式算出结果为99%。从表面形成铝被膜的铜板端部,在铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。
实施例4:
氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、三甲胺盐酸盐按摩尔比10:3.8:0.1的比例混合,在110℃溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室温(25℃)后,经静置24小时通过目测观察其性状,不固化并具有流动性。通过和实施例3记载的方法同样进行电镀处理,铜板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中相对于通电量的铝的析出效率(电析效率)通过实施例1记载的公式算出结果为90%。从表面形成铝被膜的铜板端部,在铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。
实施例5:
氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、氯化铵按摩尔比10:3.8:0.01的比例混合,在110℃溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室温(25℃)后,经静置24小时通过目测观察其性状,不固化并具有流动性。使用该镀液,施加7A/dm2的电流密度,镀液保持60℃边搅拌边进行电镀处理15分钟(阳极:纯度99.99%的铝板,阴极:铜板),铜板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中相对于通电量的铝的析出效率(电析效率)通过实施例1记载的公式算出结果为89%。从表面形成铝被膜的铜板端部,在铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。
实施例6:
氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、二甲胺盐酸盐按摩尔比10:3.8:0.01的比例混合,在110℃溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室温(25℃)后,经静置24小时通过目测观察其性状,不固化并具有流动性。使用该镀液,通过和实施例5记载的方法同样进行电镀处理,铜板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中相对于通电量的铝的析出效率(电析效率)通过实施例1记载的公式算出结果为92%。从表面形成铝被膜的铜板端部,在铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。
实施例7:
氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、氯化四甲铵按摩尔比10:3.8:0.01的比例混合,在110℃溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室温(25℃)后,经静置24小时通过目测观察其性状,不固化并具有流动性。使用该镀液,通过和实施例5记载的方法同样进行电镀处理,铜板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中相对于通电量的铝的析出效率(电析效率)通过实施例1记载的公式算出结果为85%。从表面形成铝被膜的铜板端部,在铝被膜和铜板的间 隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。
实施例8:
氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、菲咯啉按摩尔比10:3.8:0.001的比例混合、在110℃溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室温(25℃)后,经静置24小时通过目测观察其性状,不固化并具有流动性。使用该镀液,通过和实施例5记载的方法同样进行电镀处理,铜板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中相对于通电量的铝的析出效率(电析效率)通过实施例1记载的公式算出结果为90%。从表面形成铝被膜的铜板端部,在铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。
实施例9:
使用表3记载的镀液No.4,施加15A/dm2的电流密度,镀液保持90℃边搅拌边进行电镀处理15分钟(阳极:纯度99.99%的铝板,阴极:铜板),铜板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中相对于通电量的铝的析出效率(电析效率)通过实施例1记载的公式算出结果为85%。从表面形成铝被膜的铜板端部,在铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。
实施例10:
氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、氯化四甲铵按摩尔比10:5.8:2.0的比例混合,在110℃溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室温(25℃)后,经静置24小时通过目测观察其性状,不固化并具有流动性。使用该镀液,施加15A/dm2的电流密度,镀液保持115℃边搅拌边进行电镀处理15分钟(阳极:纯度99.99%的铝板,阴极:铜板),铜板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中相对于通电量的铝的析出效率(电析效率)通过实施例1记载的公式算出结果为97%。从表面形成铝被膜的铜板端部,在铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色 的铝箔。
实施例11:
使用表2记载的镀液No.3,施加18A/dm2的电流密度,镀液保持95℃边搅拌边进行电镀处理5分钟(阳极:纯度99.99%的铝板,阴极:铜板),铜板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中相对于通电量的铝的析出效率(电析效率)通过实施例1记载的公式算出结果为98%。从表面形成铝被膜的铜板端部,在铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。得到的铝箔为:厚度在5μm,铝的纯度高(铝的含量:99.36质量%,S的含量:0.21质量%,Cl的含量:0.43质量%),和通过压延法所制造的铝箔同样,是富有延展性的铝箔。另外,铝箔的厚度通过使用测微计(MCD191-30WD:新泻精机社制)测定(以下的实施例也采用)。铝箔的纯度为将其两面水洗后通过使用硫黄分析装置(EMIA-820W:堀场制作所社制)来测定S的含量的同时,通过使用波长分散荧光X线分析装置(RIX-2100:理学社制)测定Cl的含量,其余作为铝的含量(以下的实施例也采用)。
实施例12:
使用表2记载的镀液No.3,施加25A/dm2的电流密度,镀液保持115℃边搅拌边进行电镀处理3分钟。另外,阳极为纯度99.99%的铝板,阴极(为了形成铝被膜的基材)使用钛板。3分后,将表面形成有铝被膜的钛板从镀液中取出,进行水洗并干燥后,通过目测观察其表面,钛板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中,相对于通电量的铝的析出效率(电析效率)通过实施例1记载的公式算出结果为92%。从表面形成铝被膜的钛板端部,在铝被膜和钛板的间隙介入的镊子沿着钛板滑行的方式移动,铝被膜从钛板容易地剥离,得到白色的铝箔。相对于该铝箔,在氩气氛围下,300℃进行30分钟的热处理,缓和箔的内部应力。得到的铝箔为:厚度在15μm,铝的纯度高(铝的含量:99.91质量%,S的含量:0.03质量%,Cl的含量:0.06质量%),和通过压延法所制造的铝箔同样,是富有延展性的铝箔。
实施例13:
氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、二甲胺盐酸盐按摩尔比10:4.1:0.15的比例混合,在110℃溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室温(25℃)后,经静置24小时通过目测观察其性状,不固化并具有流动性。使用该镀液,施加10A/dm2的电流密度,镀液保持80℃边搅拌边进行电镀处理5分钟以外,同实施例12记载的方法同样地得到白色的铝箔。如此进行的电镀处理中,相对于通电量的铝的析出效率(电析效率)通过实施例1记载的公式算出结果为95%。对于该铝箔,在氩气氛围下,于300℃进行30分钟的热处理,缓和箔的内部应力。得到的铝箔为:厚度在10μm,铝的纯度高(铝的含量:99.56质量%,S的含量:0.15质量%,Cl的含量:0.29质量%),和通过压延法所制造的铝箔同样,是富有延展性的铝箔。
应用例1:使用通过本发明的方法所调制的电镀铝用镀液所制造的铝箔用作蓄电设备用正极集电体来制造蓄电设备
实施例11得到的铝箔用作正极集电体,在其表面涂布正极活性物质作为正极,制造成图1所示的蓄电设备。蓄电设备100具有:在筐体10的内部充填有含有氟化合物的有机电解液,在该有机电解液中浸渍有电极单元8的结构。电极单元8是将薄箔且为带状的正极、负极、隔板,按正极-隔板-负极-隔板的顺序重叠成积层体,将此积层体卷绕的结构。筐体10由金属材料构成,其内侧形成有绝缘层4。另外,在筐体10形成作为和外部机器连接端子的正极端子5和负极端子6,正极端子5和电极单元8的正极,负极端子6和电极单元8的负极,分别电连接。图2为图1的A-A断面图。正极1和负极2因通过隔板3物理隔离,故二者不直接通电。但是,隔板3由有机电解液7易透过的多孔质的材质构成,正极1和负极2介由有机电解液7处于电连接的状态。
产业上的利用可能性
本发明涉及提供以快速的成膜速度制造富有延展性的高纯度铝箔之际等有用的电镀铝用镀液,调制即使在25℃也不固化进行电镀处理的,操作性良好的镀液的方法,通过该方法所调制的电镀铝用镀液,使用该电镀铝用镀液铝箔的制造方法,以及,降低电镀铝用镀液熔点的方 法的方面具有在产业上利用的可能性。
符号的说明
  1 正极
  2 负极
  3 隔板
  4 绝缘层
  5 正极端子
  6 负极端子
  7 有机电解液
  8 电极单元
 10 筐体
100 蓄电设备

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1、10申请公布号CN104204308A43申请公布日20141210CN104204308A21申请号201380011635522申请日20130227201204437820120229JPC25D3/44200601C25D1/0420060171申请人日立金属株式会社地址日本东京72发明人冈本笃志松田纯一74专利代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038代理人王永红54发明名称低熔点的电镀铝用镀液的调制方法、电镀铝用镀液、铝箔的制造方法、以及降低电镀铝用镀液的熔点的方法57摘要本发明的特征在于在调制至少含有1二烷基砜、2铝卤化物、以及3含氮化合物的电镀铝用镀液之际的二烷基砜。

2、、铝卤化物、含氮化合物的配合比例,相对于二烷基砜10摩尔,铝卤化物为35N42N摩尔,含氮化合物为N摩尔其中N为000120摩尔。还有,在通过本发明的方法调制的电镀铝用镀液中,相对于通电量,铝的析出效率高的电镀处理是可能的,因此谋求电使用量的削减有在经济性方面优异的有利之处。30优先权数据85PCT国际申请进入国家阶段日2014082986PCT国际申请的申请数据PCT/JP2013/0551492013022787PCT国际申请的公布数据WO2013/129479JA2013090651INTCL权利要求书1页说明书12页附图1页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页。

3、说明书12页附图1页10申请公布号CN104204308ACN104204308A1/1页21电镀铝用镀液的调制方法,其为至少含有1二烷基砜、2铝卤化物、以及3含氮化合物的电镀铝用镀液的调制方法,其特征在于,通过在调制镀液之际的二烷基砜、铝卤化物、含氮化合物的配合比例相对于二烷基砜10摩尔,铝卤化物为35N42N摩尔,含氮化合物为N摩尔其中N为000120摩尔,以使镀液的熔点在25以下。2权利要求1记载的电镀铝用镀液的调制方法,其特征在于,二烷基砜为二甲基砜。3权利要求1记载的电镀铝用镀液的调制方法,其特征在于,含氮化合物为从卤化铵、伯胺的氯化氢盐、仲胺的氯化氢盐、叔胺的氯化氢盐、通式R1R2。

4、R3R4NXR1R4为相同或者是相异的烷基,X表示相对于季胺阳离子的阴离子表示的季胺盐、含氮芳香族化合物组成的组中选择的至少1种。4电镀铝用镀液,其特征在于,其是通过权利要求1记载的调制方法所调制而成的。5铝箔的制造方法,其特征在于,其通过使用权利要求4记载的电镀铝用镀液的电解法在基材的表面形成铝被膜后,将该被膜从基材剥离。6降低电镀铝用镀液的熔点的方法,其特征在于,在调制至少含有1二烷基砜、2铝卤化物、以及3含氮化合物的电镀铝用镀液之际的二烷基砜、铝卤化物、含氮化合物的配合比例,相对于二烷基砜10摩尔,铝卤化物为35N42N摩尔,含氮化合物为N摩尔其中N为000120摩尔。权利要求书CN10。

5、4204308A1/12页3低熔点的电镀铝用镀液的调制方法、电镀铝用镀液、铝箔的制造方法、以及降低电镀铝用镀液的熔点的方法技术领域0001本发明涉及以电解法制造可作为如锂离子二次电池或超级电容器电双层电容器、氧化还原电容器、锂离子电容器等的蓄电设备的正极集电体等使用的铝箔之际等可适当采用的、低熔点的电镀铝用镀液的调制方法、电镀铝用镀液、铝箔的制造方法、以及降低电镀铝用镀液的熔点的方法。背景技术0002在手机或笔记本电脑等的便携工具的电源中所使用的拥有高能源密度,且,没有放电容量的显著减少的锂离子二次电池虽是周知的事实,但近年来伴随便携工具的小型化,其中所安装的锂离子二次电池也被要求小型化。另外。

6、,伴随从地球温暖化防止对策等观点来的混合动力汽车或太阳能发电等技术的进展,加速以电双层电容器、氧化还原电容器、锂离子电容器等拥有高能源密度的超级电容器的新用途扩展的同时,这些被要求更高的能源密度化。0003如锂离子二次电池或超级电容器的蓄电设备,例如,在作为电解质含有LIPF6或NR4BF4R为烷基等的含氟化合物的有机电解液中,正极和负极具有介由以聚烯烃等构成的隔板所配置的结构。正极是以LICOO2钴酸锂或活性炭等的正极活性物质和正极集电体组成的同时,负极是以石墨或活性炭等的负极活性物质和负极集电体组成,一般是各自的形状为在集电体的表面涂布活性物质成型为薄片状。对于各电极,除被施加大电压外,还。

7、被浸渍在含有腐蚀性高的含氟化合物的有机电解液中,特别是正极集电体的材料被要求电传导性良好的同时,耐腐蚀性也良好。从这样的情况,现在,作为正极集电体材料,几乎100为电良导体,且,采用通过在表面形成惰性膜而具有良好耐腐蚀性的铝。另外,作为负极集电体的材料,可例举铜或镍等。0004作为使蓄电设备小型化或高能源密度化的一个方法,有构成以薄片状成型电极的集电体的薄膜化。目前来看,正极集电体中,一般使用通过压延法制造的厚度在1520M左右的铝箔,通过使该铝箔的厚度更薄可达成目的。但是压延法中,在工业的制造规模上,很难使箔的厚度做的比上述更薄。0005为此,作为替代压延法的铝箔的制造方法,考虑到通过电解法。

8、制造铝箔的方法。通过电解法的金属箔的制造,例如,在不锈钢板等基材的表面以电镀形成金属被膜后,通过将该被膜从基材剥离来进行的,例如作为铜箔的制造方法是众所皆知的。但是,由于铝在电化学上是贱金属,故电镀有时非常难的,通过电解法制造铝箔并非容易。专利文献1中公开了作为通过电解法铝箔的制造方法,使用由氯化铝5075摩尔和烷基吡啶氯化物2550摩尔构成的电解浴或者是在此浴中添加有机溶媒的电解浴的方法,但此方法中,镀液的氯浓度非常高。因此,镀液所含的氯在镀覆处理中通过和大气中的水分反应而产生氯化氢气体,会引发设备腐蚀的问题,所以有必要寻求防止氯化氢气体的产生的对策或防止产生的氯化氢气体腐蚀设备的对策。另外。

9、,专利文献1记载的方法中,因可施加的电流密度即使说明书CN104204308A2/12页4最大也是2A/DM2程度,存在成膜速度慢的问题若施加电流密度比此更高,则引发镀液分解等导致无法稳定地进行镀覆处理。成膜速度可期待通过在镀液中添加苯或甲苯等的有机溶媒来改善,但这些有机溶媒的有如毒性高,另外,易燃性高的担心性,因此从废液处理的容易性和安全性的观点而论,不得不说在镀液中添加这些有机溶媒是有问题的。0006鉴于以上的方面,本发明人的研究小组,迄今为止致力于进行通过使用氯浓度低的镀液的电解法,以快速的成膜速度制造富有延展性的高纯度铝箔的方法的研究,作为其成果,在专利文献2中提案如下方法通过使用至少。

10、含有1二烷基砜,2铝卤化物,以及,3从卤化铵、伯胺的氯化盐、仲胺的氯化盐、叔胺的氯化盐、通式R1R2R3R4NXR1R4为相同或者是相异的烷基,X表示相对于季胺阳离子的阴离子表示的季胺盐组成的组中所选择的至少1个的含氮化合物的镀液的电解法在基材的表面形成铝被膜后,将该被膜从基材剥离的方法。根据专利文献2,此电镀铝用镀液中的二烷基砜,铝卤化物,含氮化合物的配合比例相对于二烷基砜10摩尔,优选铝卤化物为1540摩尔,优选含氮化合物为00120摩尔。这样的配合比例的镀液虽以快速成膜速度制造富有延展性的高纯度铝箔之际等有用,但在操作性的方面等还留有改良的余地。具体而论,这样的配合比例的镀液,因作为溶媒。

11、成分使用二烷基砜的熔点高例如二甲基砜的熔点为约110,进行电镀处理之际,从如若不使镀液的温度高于二烷基砜的熔点以上,则镀液会固化而无法进行处理的方面,或在25的常温镀液是固化的,因此无法简易且圆滑地进行镀液的调制或废弃等的方面,所以期待不大幅变更镀液的配合比例而降低熔点的方法。0007关于降低电镀铝用镀液的熔点的方法,本发明人的研究小组通过所提案的专利文献3有如下记载在含有二烷基砜和铝卤化物的电镀铝用镀液的情况下,相对于二烷基砜10摩尔,铝卤化物4摩尔来调整两者的配合比例,则熔点降低,即使在60也使电镀处理成为可能。但是,专利文献3记载的镀液由于不含有专利文献2记载的含氮化合物,因此在含有专利。

12、文献2记载的含氮化合物的镀液中也以二烷基砜和铝卤化物的配合比例为相对于前者10摩尔后者4摩尔则能一定使熔点降低而论,通过本发明人的探讨明确其未必可行。0008现有技术文献0009专利文献0010专利文献1特开平1104791号公报0011专利文献2国际公开第2011/001932号0012专利文献3特许第4609777号公报发明内容0013发明所要解决的课题0014在此,本发明的目的在于提供快速的成膜速度制造富有延展性的高纯度铝箔之际等有用的电镀铝用镀液,调制即使25也不固化可进行电镀处理,操作性良好的镀液的方法,通过此方法所调制电镀铝用镀液,使用此电镀铝用镀液的铝箔的制造方法,以及,降低电镀。

13、铝用镀液的熔点的方法。0015用于解决课题的手段0016本发明人,鉴于上述的方面进行专心探讨的结果,在调制含有二烷基砜,铝卤化物,含氮化合物的电镀铝用镀液之际,相对于二烷基砜的铝卤化物和含氮化合物的配合比说明书CN104204308A3/12页5例,在前者的配合比例依赖于后者的配合比例的规定关系的情况下,得到的镀液是低熔点的,发现即使在25也不固化并具有流动性。0017基于上述见解而完成的本发明的电镀铝用镀液的调制方法,如权利要求1记载,其为至少含有1二烷基砜、2铝卤化物、以及3含氮化合物的电镀铝用镀液的调制方法,其特征在于,在调制镀液之际的二烷基砜、铝卤化物、含氮化合物的配合比例,相对于二烷。

14、基砜10摩尔,铝卤化物为35N42N摩尔,含氮化合物为N摩尔其中N为000120摩尔,以使镀液的熔点在25以下为特征。0018另外,权利要求2记载的电镀铝用镀液的调制方法是在权利要求1记载的电镀铝用镀液的调制方法中,其特征在于,二烷基砜为二甲基砜。0019另外,权利要求3记载的电镀铝用镀液的调制方法是在权利要求1记载的电镀铝用镀液的调制方法中,其特征在于,含氮化合物是从卤化铵、伯胺的氯化氢盐、仲胺的氯化氢盐、叔胺的氯化氢盐、通式R1R2R3R4NXR1R4为相同或者是相异的烷基,X表示相对于季胺阳离子的阴离子表示的季胺盐、含氮芳香族化合物组成的组中选择的至少1种。0020另外,本发明的电镀铝用。

15、镀液,如权利要求4记载,其特征在于,其是通过权利要求1记载的调制方法调制而成的。0021还有,本发明的铝箔的制造方法,如权利要求5记载,其特征在于,通过使用权利要求4记载的电镀铝用镀液的电解法在基材的表面形成铝被膜后,将该被膜从基材剥离。0022另外,本发明的降低电镀铝用镀液的熔点方法,如权利要求6记载,其特征在于,在调制至少含有1二烷基砜、2铝卤化物、以及3含氮化合物的电镀铝用镀液之际的二烷基砜、铝卤化物、含氮化合物的配合比例,相对于二烷基砜10摩尔,铝卤化物为35N42N摩尔,含氮化合物为N摩尔其中N为000120摩尔。0023发明的效果0024根据本发明,在以快速的成膜速度制造富有延展性。

16、的高纯度铝箔之际等有用的电镀铝用镀液中,能够提供调制即使在25也不固化地可进行电镀处理的、操作性良好的镀液的方法,通过此方法调制的电镀铝用镀液,使用此电镀铝用镀液的铝箔的制造方法,以及,降低电镀铝用镀液的熔点的方法。另外,在通过本发明的方法所调制的电镀铝用镀液中,相对于通电量的铝的析出效率高的电镀处理是可能的,因此谋求电使用量的削减有在经济性方面优异的有利之处。附图说明0025图1将使用通过本发明的方法所调制的电镀铝用镀液所制造的铝箔作为蓄电设备用正极集电体利用的蓄电设备的一例的概略图。0026图2图1的AA断面。具体实施方式0027本发明的电镀铝用镀液的调制方法为至少含有1二烷基砜、2铝卤化。

17、物、以及3含氮化合物的电镀铝用镀液的调制方法,其特征在于,在调制镀液之际的二烷基砜、铝卤化物、含氮化合物的配合比例相对于二烷基砜10摩尔,铝卤化物为35N42N摩尔,含氮化合物为N摩尔其中N为000120摩尔,以使镀液的熔点在25以下。本发说明书CN104204308A4/12页6明的方法为调制电镀铝用镀液的构成成分的配合比例并未将专利文献2中所优选的配合比例大幅变更,即使在25也不固化并具有流动性的低熔点的镀液的方法。尤其是基于镀液的电传导性的改善因施加高电流密度的电镀处理的实现使成膜速度的提升,有助于铝箔的高纯度化或延展性的提升等的含氮化合物相对于二烷基砜的配合比例,并未将专利文献2中所优。

18、选的配合比例变更,因此通过本发明的方法所调制的镀液对在以快速成膜的速度制造富有延展性高纯度的铝箔之际等有用。另外,在通过本发明的方法所调制的镀液中,相对于通电量的铝的析出效率高的电镀处理是可能的,因此谋求电使用量的削减有在经济性上优异的有利之处。0028在调制镀液之际,相对于二烷基砜的铝卤化物和含氮化合物的配合比例为在将前者的配合比例依赖于后者的配合比例的上述关系的情况,得到即使在25也不固化并具有流动性的低熔点的镀液的理由虽未必清楚,现阶段中本发明人做了如下的推测。如专利文献3记载的那样,相对于二烷基砜10摩尔的铝卤化物的配合比例在4摩尔的情况,镀液的熔点虽降低,但考虑这起因于以相对于二烷基。

19、砜铝的卤化物的配合比例在此数值附近,在镀液中与铝离子配位而形成络合物的二烷基砜的比例高,未形成络合物的游离二烷基砜的比例低。若在此配合含氮化合物,因与铝离子配位而形成络合物的二烷基砜的比例减少,未形成络合物的游离的二烷基砜的比例虽有増加,通过追加配合含氮化合物的配合摩尔数那部分的铝卤化物,因与铝离子配位而形成络合物的二烷基砜的比例増加,未形成络合物的游离的二烷基砜的比例减少,其结果,认为镀液的熔点降低。0029作为在通过本发明的方法所调制的电镀铝用镀液中所含的二烷基砜,虽可例举二甲基砜、二乙基砜、二丙基砜、二己基砜、甲乙基砜等的烷基的碳数在16的二烷基砜直链状或分支状都可,但从良好的电传导性或。

20、入手的容易性等的观点看可优选采用二甲基砜。0030作为铝卤化物,虽可例举氯化铝或溴化铝等,但从使成为妨碍铝的析出要因的镀液所含的水分的量尽可能减少的观点看,优选使用铝卤化物为无水物。0031含氮化合物意味着在1个分子中具有1个以上的氮原子的化合物。作为优选采用的含氮化合物,可例举卤化铵、伯胺的氯化氢盐、仲胺的氯化氢盐、叔胺的氯化氢盐、通式R1R2R3R4NXR1R4为相同或者是相异的烷基,X表示相对于季胺阳离子的阴离子所示的季胺盐、含氮芳香族化合物等。这些含氮化合物可单独使用,也可将多个种类混合使用。0032可作为含氮化合物采用的卤化铵而论,可例举氯化铵或溴化铵等。另外,作为伯胺叔胺,可举例甲。

21、胺、二甲胺、三甲胺、乙胺、二乙胺、三乙胺、丙胺、二丙胺、三丙胺、己胺、甲乙胺等的烷基的碳数在16的胺直链状或分支状均可。作为卤化氢,可举例氯化氢或溴化氢等。在通式R1R2R3R4NXR1R4为相同或者是相异的烷基,X表示相对于季胺阳离子的阴离子表示的季胺盐中作为R1R4所示的烷基,可举例甲基、乙基、丙基、己基等的碳数在16的烷基直链状或分支状都可。作为X,可举例氯离子或溴离子或碘离子等的卤化物离子以外,还有BF4或PF6等。作为具体的化合物,可举例氯化四甲铵、溴化四甲铵、碘化四甲铵、四氟化硼四乙铵等。作为含氮芳香族化合物,可举例菲咯啉等。作为含氮化合物,从以快速的成膜速度容易制造富有延展性的高。

22、纯度铝箔的观点看,叔胺的盐酸盐,例如可例举三甲胺盐酸盐。说明书CN104204308A5/12页70033通过本发明的方法所调制的电镀铝用镀液中,二烷基砜、铝卤化物、含氮化合物的配合比例相对于二烷基砜10摩尔,铝卤化物为35N42N摩尔,含氮化合物为N摩尔其中N为000120摩尔。本发明中重点在于,将相对于二烷基砜的铝卤化物的配合比例改为依赖于相对于二烷基砜的含氮化合物的配合比例的点上,混合满足上述关系的配合比例的这些成分而调制成镀液,能得到即使在25也不固化并具有流动性低熔点的镀液。并且,通过本发明的方法所调制的镀液中,相对于通电量的铝的析出效率高的电镀处理是可能的,因此谋求电使用量的削减有。

23、在经济性优异的有利之处。另外,镀液的调制优选在氮气体或不活性气体的氛围下,将这些成分的混合物升温至二烷基砜的熔点,将铝卤化物和含氮化合物溶解在溶融的二烷基砜中进行。相对于二烷基砜的含氮化合物的配合比例是相对于二烷基砜10摩尔为000120摩尔,低于0001摩尔则配合的效果,即,有难以得到基于镀液的电传导性的改善施加高电流密度的电镀处理的实现所致成膜速度的提升,铝箔的高纯度化或延展性的提升等效果的担心,另一方面,超过20摩尔则因镀液的组成在本质上改变,有铝不析出的担心。相对于二烷基砜的含氮化合物的配合比例优选相对于二烷基砜10摩尔为00515摩尔。将相对于二烷基砜的铝卤化物的配合比例设为依赖相对。

24、于二烷基砜10摩尔的含氮化合物的配合比例N摩尔为35N42N摩尔,因为即使低于35N摩尔,即使超过42N摩尔,也都有镀液的熔点不降低的担心或有相对于通电量的铝的析出效率降低的担心。另外,对于相对于二烷基砜的铝卤化物的配合比例,若过少则有发生形成的铝被膜发黑的现象被称为烧焦的现象的担心或有成膜效率降低的担心,另一方面,若过多则因镀液的液电阻过高而有使镀液发热并分解的担心。相对于二烷基砜的铝卤化物的配合比例优选相对于二烷基砜10摩尔为38N40N摩尔。0034使用通过本发明的方法所调制的电镀铝用镀液制造铝箔的情况下,通过电解法在基材的表面形成铝被膜后,当该被膜从基材剥离来进行即可。通过本发明的方法。

25、所调制的镀液为即使在25也不固化并具有流动性的低熔点的镀液。因此,镀液的温度即使在25也可进行电镀处理。例如镀液的温度在2580来进行电镀处理的情况下,优选施加电流密度为215A/DM2。施加电流密度低于2A/DM2则有成膜效率降低的担心,另一方面,超过15A/DM2则含氮化合物的分解等原因使稳定的电镀处理无法进行或有得不到富有延展性的高纯度铝箔的担心。更优选施加电流密度为312A/DM2。通过本发明的方法所调制的镀液在进行电镀处理之际,也可加温至超过80的温度来使用。若提高镀液的温度,则通过镀液的粘度降低而使电传导性提升。通过本发明的方法所调制的镀液在加温至超过80的温度的情况下,由于可施加。

26、超过15A/DM2的电流密度,因此有效的电镀处理成为可能施加电流密度的上限为例如60A/DM2。另外,进行电镀处理之际的镀液的温度的上限为例如150。若镀液的温度超过150,则镀液因发生不可忽视的蒸发有使其组成变化的担心,或在基材的表面形成的铝被膜和镀液之间的反应活跃化,铝被膜中组入很多杂质而有使其纯度降低的担心。电镀处理的时间虽然依赖于铝箔所期望的厚度、镀液的温度或施加电流密度等,但通常为0590分钟。电镀处理的环境从谋求防止镀液的劣化并延长其寿命的观点看,优选干燥气氛。0035作为形成铝被膜的基材阴极,可举例不锈钢板,钛板,铝板,镍板,铜板等。通常为使铝被膜从基材的剥离容易,优选通过在基材。

27、的表面施加镜面加工等尽可能使其平滑,但使用通过本发明的方法所调制的电镀铝用镀液在基材的表面形成的铝被膜,具有相对于说明书CN104204308A6/12页8基材不施加这样的加工也能容易剥离的特征其理由尚不清楚,但推测铝被膜在基材的表面形成之际,接触基材一侧的铝被膜的表面附近与来自于镀液的S和CL变浓有关。另外,作为阳极的材料,可例举例如铝。铝被膜从基材的剥离可以分批进行以外,使用阴极鼓可使铝被膜的形成和剥离连续地进行例如特开平693490号公报。0036如果使用通过本发明的方法所调制的电镀铝用镀液,即使镀液的温度在80以下,目前来看,以压延法制造非常困难的厚度在15M以下的铝箔,更进一步,说以。

28、压延法不可能制造也不过分的厚度在10M以下的铝箔,可通过电解法来制造。另外,通过本发明的方法所调制的镀液中,相对于通电量的铝的析出效率高的电镀处理是可能的,因此谋求电使用量的削减而在经济性有优异的有利之处。并且,使用通过本发明的方法所调制的镀液得到的铝箔除富有延展性以外,还是高纯度。具体而论,如果使用通过本发明的方法所调制的镀液,可容易地制造,例如,铝的含量为970999质量,S和CL的含量均为15质量以下标准的为00105质量,厚度在115M的铝箔含有微量从大气中不可避免混入的C或O。被制造的铝箔可用于作为蓄电设备的小型化或高能源密度化的被薄膜化的正极集电体等。并且,通过本发明的方法所调制的。

29、镀液,不仅可在以快速的成膜速度制造富有延展性的高纯度铝箔之际利用,也可作为将设计性或耐候性赋予各种的物品进行铝涂层之际利用。另外,通过本发明的方法所调制的镀液,无需为加快成膜速度而添加苯或甲苯等的有机溶媒,将其水洗是可能的,具有可容易进行废液处理的有利之处。0037实施例0038以下,虽通过实施例详细说明本发明,但本发明并不限于以下的记载而进行解释。0039实施例10040在氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、三甲胺盐酸盐如表1所示按6种摩尔比混合,在110溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室温25后,经静置24小时通过目测观察其性状。结果如表1所示。另外,表1中“本发明适用性”。

30、,以把作为含氮化合物的三甲胺盐酸盐的摩尔数为N时的无水氯化铝的摩尔数在35N42N的范围内则为“适用”,在范围外则为“非适用”。0041表10042镀液NO123456二烷基砜摩尔101010101010无水氯化铝摩尔404040404040三甲基胺盐酸盐摩尔001005010512本发明适用性适用适用适用适用非适用非适用在25的性状有流动性有流动性有流动性有流动性无流动性无流动性0043如表1所明示,镀液含有三甲胺盐酸盐的情况下,按照专利文献3记载的将二甲基砜和无水氯化铝的配合比例,相对于前者10摩尔,将后进行4摩尔的话也并非熔点必然降低,相对于二甲基砜的三甲胺盐酸盐的配合比例多,则判明在2。

31、5固化。说明书CN104204308A7/12页90044分别使用表1记载的镀液NO14,施加3A/DM2的电流密度,镀液保持30边搅拌边进行电镀处理15分钟。另外,阳极为纯度9999的铝板,阴极为了形成铝被膜的基材使用铜板。15分钟后,将铜板从镀液中取出,进行水洗并干燥后,通过目测观察其表面时,铜板的表面有白色的铝被膜形成。另外,施加18A/DM2的电流密度,镀液保持100边搅拌边进行电镀处理5分钟的情况,也会在铜板的表面有白色的铝被膜形成。通过任一的电镀处理在表面形成铝被膜的铜板,若使从其端部的铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。00。

32、45另外,分别使用表1记载的镀液NO16,施加3A/DM2的电流密度,镀液保持100边搅拌边进行电镀处理15分钟,将各自相对于通电量的铝的析出效率电析效率通过以下的数式算出。其结果,适用于本发明镀液的镀液NO1为87,镀液NO2为94,镀液NO3为95,镀液NO4为85,任一的电析效率均在85以上,不适用于本发明镀液的镀液NO5为83,镀液NO6为79,任一的电析效率均未满足85。并且,适用于本发明镀液的镀液NO14即使在镀液保持30并进行电镀处理的情况,电析效率也为相同的数值。0046电析效率析出的铝质量G/通电电流值A通电时间秒27396500C1000047式中,通电电流值A为通过电流密。

33、度A/DM2和阴极表面积DM2的积,27为铝的原子量,3为铝的原子价0048实施例20049氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、三甲胺盐酸盐按表2所示6种摩尔比混合、在110溶解而调制电镀铝用镀液。另外,氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、氯化四甲铵按表3所示6种摩尔比混合,在110溶解而调制电镀铝用镀液。并且,氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、三甲胺盐酸盐按表4所示6种摩尔比混合,在110溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室温25后,经静置24小时通过目测观察其性状。结果如表24所示。并且,表24中“本发明适用性”,以把作为含氮化合物的三甲胺盐酸盐或者氯化四甲铵的摩尔数为N时。

34、的无水氯化铝的摩尔数在35N42N的范围内则为“适用”,在范围外则为“非适用”。0050表20051镀液NO123456二烷基砜摩尔101010101010无水氯化铝摩尔343638404243三甲基胺盐酸盐摩尔001001001001001001本发明适用性非适用适用适用适用适用非适用在25的性状无流动性有流动性有流动性有流动性有流动性无流动性0052表3说明书CN104204308A8/12页100053镀液NO123456二烷基砜摩尔101010101010无水氯化铝摩尔304043454748三甲基胺盐酸盐摩尔050505050505本发明适用性非适用适用适用适用适用非适用在25的性状。

35、无流动性有流动性有流动性有流动性有流动性无流动性0054表40055镀液NO123456二烷基砜摩尔101010101010无水氯化铝摩尔545658606264三甲基胺盐酸盐摩尔222222本发明适用性非适用适用适用适用适用非适用在25的性状无流动性有流动性有流动性有流动性有流动性无流动性0056如表24所明示,与相对于二烷基砜的含氮化合物的配合比例所对应,通过变化铝卤化物的配合比例,得到即使在25也不固化并具有流动性的镀液。将以上的结果作为基础,进一步探讨在调制镀液之际的二烷基砜、铝卤化物、含氮化合物的配合比例时,判明相对于二烷基砜10摩尔,铝卤化物为35N42N摩尔,含氮化合物为N摩尔其。

36、中N为000120摩尔的情况下,得到的镀液为低熔点,即使在25也不固化并具有流动性。0057分别使用如表24记载的镀液NO25,施加3A/DM2的电流密度,镀液保持30边搅拌边进行电镀处理15分钟。另外,阳极为纯度9999的铝板,阴极为了形成铝被膜的基材使用铜板。15分钟后,将铜板从镀液中取出,进行水洗并干燥后,通过目测观察其表面时,铜板的表面有白色的铝被膜形成。还有,施加18A/DM2的电流密度,镀液保持100边搅拌边进行电镀处理5分钟的情况,也会在铜板的表面有白色的铝被膜形成。通过任一的电镀处理在表面形成铝被膜的铜板,若使从其端部的铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜。

37、从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。0058另外,分别使用表2记载的镀液NO16相对于通电量的铝的析出效率电析效率通过和实施例1记载的方法同样算出。其结果,适用于本发明镀液的镀液NO2为92,镀液NO3为95,镀液NO4为93,镀液NO5为93,任一的电析效率均在85以上,不适用于本发明镀液的镀液NO1为84,镀液NO6为84,任一的电析效率均未满足85。表3和表4记载的镀液NO16各自的相对于通电量的铝的析出效率电析效率通过和实施例1记载的方法同样算出,适用于本发明镀液的镀液NO25的电析效率任一个均说明书CN104204308A109/12页11在85以上,不适用于本发明镀液的镀液NO1,6。

38、的电析效率任一个均未满足85。0059实施例30060氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、三甲胺盐酸盐按摩尔比10380001的比例混合,在110溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室温25后,经静置24小时通过目测观察其性状,不固化并具有流动性。使用该镀液,施加50A/DM2的电流密度,镀液保持145边搅拌边进行电镀处理3分钟阳极纯度9999的铝板,阴极铜板,铜板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中相对于通电量的铝的析出效率电析效率通过实施例1记载的数式算出结果为99。从表面形成铝被膜的铜板端部,在铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥。

39、离,得到白色的铝箔。0061实施例40062氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、三甲胺盐酸盐按摩尔比103801的比例混合,在110溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室温25后,经静置24小时通过目测观察其性状,不固化并具有流动性。通过和实施例3记载的方法同样进行电镀处理,铜板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中相对于通电量的铝的析出效率电析效率通过实施例1记载的公式算出结果为90。从表面形成铝被膜的铜板端部,在铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。0063实施例50064氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、氯化铵按。

40、摩尔比1038001的比例混合,在110溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室温25后,经静置24小时通过目测观察其性状,不固化并具有流动性。使用该镀液,施加7A/DM2的电流密度,镀液保持60边搅拌边进行电镀处理15分钟阳极纯度9999的铝板,阴极铜板,铜板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中相对于通电量的铝的析出效率电析效率通过实施例1记载的公式算出结果为89。从表面形成铝被膜的铜板端部,在铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。0065实施例60066氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、二甲胺盐酸盐按摩尔比1038。

41、001的比例混合,在110溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室温25后,经静置24小时通过目测观察其性状,不固化并具有流动性。使用该镀液,通过和实施例5记载的方法同样进行电镀处理,铜板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中相对于通电量的铝的析出效率电析效率通过实施例1记载的公式算出结果为92。从表面形成铝被膜的铜板端部,在铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。0067实施例70068氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、氯化四甲铵按摩尔比1038001的比例混合,在110溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室。

42、温25后,经静置24小时通过目测观察其性状,不固化并具有流动性。使用该镀液,通过和实施例5记说明书CN104204308A1110/12页12载的方法同样进行电镀处理,铜板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中相对于通电量的铝的析出效率电析效率通过实施例1记载的公式算出结果为85。从表面形成铝被膜的铜板端部,在铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。0069实施例80070氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、菲咯啉按摩尔比10380001的比例混合、在110溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室温25后,经静置24小时通过。

43、目测观察其性状,不固化并具有流动性。使用该镀液,通过和实施例5记载的方法同样进行电镀处理,铜板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中相对于通电量的铝的析出效率电析效率通过实施例1记载的公式算出结果为90。从表面形成铝被膜的铜板端部,在铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。0071实施例90072使用表3记载的镀液NO4,施加15A/DM2的电流密度,镀液保持90边搅拌边进行电镀处理15分钟阳极纯度9999的铝板,阴极铜板,铜板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中相对于通电量的铝的析出效率电析效率通过实施例1记载的公式算出结。

44、果为85。从表面形成铝被膜的铜板端部,在铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。0073实施例100074氮气体氛围下,二甲基砜、无水氯化铝、氯化四甲铵按摩尔比105820的比例混合,在110溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室温25后,经静置24小时通过目测观察其性状,不固化并具有流动性。使用该镀液,施加15A/DM2的电流密度,镀液保持115边搅拌边进行电镀处理15分钟阳极纯度9999的铝板,阴极铜板,铜板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中相对于通电量的铝的析出效率电析效率通过实施例1记载的公式算出结果为97。从。

45、表面形成铝被膜的铜板端部,在铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。0075实施例110076使用表2记载的镀液NO3,施加18A/DM2的电流密度,镀液保持95边搅拌边进行电镀处理5分钟阳极纯度9999的铝板,阴极铜板,铜板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中相对于通电量的铝的析出效率电析效率通过实施例1记载的公式算出结果为98。从表面形成铝被膜的铜板端部,在铝被膜和铜板的间隙介入的镊子沿着铜板滑行的方式移动,铝被膜从铜板容易地剥离,得到白色的铝箔。得到的铝箔为厚度在5M,铝的纯度高铝的含量9936质量,S的含量021质量,CL的。

46、含量043质量,和通过压延法所制造的铝箔同样,是富有延展性的铝箔。另外,铝箔的厚度通过使用测微计MCD19130WD新泻精机社制测定以下的实施例也采用。铝箔的纯度为将其两面水洗后通过使用硫黄分析装置EMIA820W堀场制作所社制来测定S的含量的同时,通过使用波长分散荧光X线分析装置RIX2100理学社制测定CL的含量,其余作为铝的含量以下的实施例也采用。说明书CN104204308A1211/12页130077实施例120078使用表2记载的镀液NO3,施加25A/DM2的电流密度,镀液保持115边搅拌边进行电镀处理3分钟。另外,阳极为纯度9999的铝板,阴极为了形成铝被膜的基材使用钛板。3分。

47、后,将表面形成有铝被膜的钛板从镀液中取出,进行水洗并干燥后,通过目测观察其表面,钛板的表面有白色的铝被膜形成。如此进行的电镀处理中,相对于通电量的铝的析出效率电析效率通过实施例1记载的公式算出结果为92。从表面形成铝被膜的钛板端部,在铝被膜和钛板的间隙介入的镊子沿着钛板滑行的方式移动,铝被膜从钛板容易地剥离,得到白色的铝箔。相对于该铝箔,在氩气氛围下,300进行30分钟的热处理,缓和箔的内部应力。得到的铝箔为厚度在15M,铝的纯度高铝的含量9991质量,S的含量003质量,CL的含量006质量,和通过压延法所制造的铝箔同样,是富有延展性的铝箔。0079实施例130080氮气体氛围下,二甲基砜、。

48、无水氯化铝、二甲胺盐酸盐按摩尔比1041015的比例混合,在110溶解而调制电镀铝用镀液。通过自然放热使镀液冷却至室温25后,经静置24小时通过目测观察其性状,不固化并具有流动性。使用该镀液,施加10A/DM2的电流密度,镀液保持80边搅拌边进行电镀处理5分钟以外,同实施例12记载的方法同样地得到白色的铝箔。如此进行的电镀处理中,相对于通电量的铝的析出效率电析效率通过实施例1记载的公式算出结果为95。对于该铝箔,在氩气氛围下,于300进行30分钟的热处理,缓和箔的内部应力。得到的铝箔为厚度在10M,铝的纯度高铝的含量9956质量,S的含量015质量,CL的含量029质量,和通过压延法所制造的铝。

49、箔同样,是富有延展性的铝箔。0081应用例1使用通过本发明的方法所调制的电镀铝用镀液所制造的铝箔用作蓄电设备用正极集电体来制造蓄电设备0082实施例11得到的铝箔用作正极集电体,在其表面涂布正极活性物质作为正极,制造成图1所示的蓄电设备。蓄电设备100具有在筐体10的内部充填有含有氟化合物的有机电解液,在该有机电解液中浸渍有电极单元8的结构。电极单元8是将薄箔且为带状的正极、负极、隔板,按正极隔板负极隔板的顺序重叠成积层体,将此积层体卷绕的结构。筐体10由金属材料构成,其内侧形成有绝缘层4。另外,在筐体10形成作为和外部机器连接端子的正极端子5和负极端子6,正极端子5和电极单元8的正极,负极端子6和电极单元8的负极,分别电连接。图2为图1的AA断面图。正极1和负极2因通过隔板3物理隔离,故二者不直接通电。但是,隔板3由有机电解液7易透过的多孔质的材质构成,正极1和负极2介由有机电解液7处于电连接的状态。0083产业上的利用可。

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