一种铜稀土合金的晶界显示新方法.pdf

本发明属于金属腐蚀与防腐技术领域。
    迄今为止，人们对铜及铜-稀土合金的晶界显示均采用一种常规方法，即将试样切割、研磨、抛光、清洗后以NH4OH∶H2O2∶H2O;HNO3∶H2CrO4∶H2O;FeCl∶HCl∶H2O或FeSO4∶NaOH∶H2O予以浸蚀（见姚鸿年，金相研究方法，中国工业出版社，1963，350）。由于上述方法所采用的浸蚀剂不是以酸为主，就是以碱为主，使合金中的稀土元素尤其是使偏聚在晶界的稀土元素优先浸蚀而出现如图1-4所示的晶界勾槽，从而给研究和观察稀土元素在铜的固溶和分布带来难以克服的困难。

    为解决常规方法之不足，本发明人将切割、研磨、抛光后的试样在室温下用无水乙醇（C2H5OH）擦试1秒至数分钟，结果既能显示晶界（见图5～8），又能避免稀土元素优先浸蚀，使稀土元素在铜中的固溶情况和分布状态真实地显示出来（见图9～12）。

    本发明的关键之处在于，它用无水乙醇作为浸蚀剂，从而打破了人们在常规方法中把无水乙醇仅仅作为清洗剂的传统观念。显而易见，采用本发明显示铜-稀土合金的晶界，除具上述优点外，还具有操作简便、经济实用和对人无害等优点。

    图1-4依次为用常规方法显示的铜-镧、铜-铈、铜-钇和铜-钕的金相照片;图5-8依次为用本发明所显示的铜-镧、铜-铈、铜-钇和铜-钕的金相照片;图9～12依次为用本发明所显示的铜-镧、铜-铈、铜-钇和铜-钕的面扫描照片。