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1、10申请公布号CN104166962A43申请公布日20141126CN104166962A21申请号201410365880222申请日20140729G06T5/00200601A61B6/0320060171申请人南京邮电大学地址210023江苏省南京市亚东新城区文苑路9号72发明人谢世朋葛琦成孝刚邵文泽朱虎74专利代理机构南京知识律师事务所32207代理人张苏沛54发明名称一种使用散射核方法的锥束CT散射校正方法57摘要本发明公开了一种使用散射核方法的锥束CT散射校正方法，其步骤为步骤一测量遮挡板下的散射信号；步骤二自适应散射核参数的计算；步骤三估计扩散函数的参数；步骤四通过扩散函数对。
2、图像进行散射校正；步骤五图像遮挡区域的修复；步骤六锥束CT的重建。本发明不需要获取模型参数的先验数据，不增加图像获取及重建的复杂度，添加的设备复杂度不高，且不需要重复扫描被测物体，能高效的进行锥束CT散射校正。51INTCL权利要求书1页说明书4页附图6页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书4页附图6页10申请公布号CN104166962ACN104166962A1/1页21一种使用散射核方法的锥束CT散射校正方法，其特征在于，其步骤为步骤一测量遮挡板下的散射信号；步骤二自适应散射核参数的计算；步骤三估计扩散函数的参数；步骤四通过扩散函数对图像进行散射校正；步骤。
3、五图像遮挡区域的修复；步骤六锥束CT的重建。2根据权利要求1所述的使用散射核方法的锥束CT散射校正方法，其特征在于所述步骤一中遮挡板形状为“十”字型，由两个铅条十字交叉构成，铅条宽2MM、高3MM、长120MM，铅条放置在圆形塑料板上；所述遮挡板放置在X射线源与被照物体之间，且围绕圆心按一定方向旋转；所述遮挡板离射线源230MM，离被照物770MM，离平板探测器1170MM。3根据权利要求1所述的使用散射核方法的锥束CT散射校正方法，其特征在于所述估计扩散函数的参数和所述通过扩散函数对图像进行散射校正是通过迭代方法进行。4根据权利要求1所述的使用散射核方法的锥束CT散射校正方法，其特征在于所述。
4、通过扩散函数对图像进行散射校正，散射分布函数PSF公式为估计X,Y点处的散射公式为获取遮挡板下方的散射分布后，进行计算,A,B,1,2，计算公式为AFXM,YNAIPXM,YN/I0XM,YNLNI0XM,YN/IPXM,YN，对应的不同区域可以求出不同的,A,B,1,2，在初始散射校正后图像通过与散射核做卷积计算得到进一步的散射校正。5根据权利要求4所述的使用散射核方法的锥束CT散射校正方法，其特征在于式中，XM,YN是大小为MN图像坐标系中的坐标，其图像是降采样后的图像；IPXM,YN是初始射线强度估计。6根据权利要求1所述的使用散射核方法的锥束CT散射校正方法，其特征在于所述图像遮挡区域。
5、的修复是使用基于样例纹理的遮挡区域修复算法来进一步抑制因为遮挡部分区域对断层重建造成的影响，其步骤为首先，标记要修复的区域；其次，使用被修复区域临近的像素的纹理计算纹理和结构；最后，填充。权利要求书CN104166962A1/4页3一种使用散射核方法的锥束CT散射校正方法技术领域0001本发明涉及一种医学图像处理技术领域，尤其涉及锥束CT散射校正领域。背景技术0002锥束CT具有更高的扫描速度和辐射利用率，能有效的减少X射线管的负载输出，降低扫描成本，能快速获得高分辨率三维断层图像数据。影响锥束CT重建图像质量的因素有很多，如X线散射、噪声、几何误差、能谱、探测单元响应不一致等，但由于锥束平板。
6、CT使用大范围的X射线平板探测器，这使得成像质量与传统CT相比较更易受到X射线散射的影响，因散射而形成的伪影、CT数的不准确等严重影响对重建图像的分析与判断，因此，针对X射线散射校正的研究显得尤为重要。0003国内外有许多方法提出用于解决锥束CT的散射校正，按照类型我们可分为基于散射测量的方法和基于非散射测量的方法。非散射测量的方法包括空气间隙滤AIRGAP，反散射网格ANTISCATTERGRIDS，分析方法和蒙特卡洛方法。这些方法通常会各种限制，如设备结构、被测物密度分布和计算量巨大，只能降低一部分因散射造成的伪影。基于散射测量方法是在X射线管与被扫描物体之间加一个射线遮挡设备，来测量部分。
7、的散射射线，通过插值能方法来估计整个区域的散射分布，基于散射测量方法中，有些方法需要多次扫描来获取散射信号和主射线信号,这样增加了扫描时间和病人的X射线照射剂量；有些方法只通过一次扫描就可以了，但这些方法中有些增加了图像获取和重建的复杂度；有些是增加了设备的复杂度和扫描模式的难度。0004在散射校正的方法中，蒙特卡洛模拟方法非常耗费时间；模型分析计算方法需要知道X射线谱的信息、被照物体的物质组成和几何结构，实际这些参数不太容易获得；初级射线调制方法中校正结果受限于调制板自身的结构；基于部分散射射线测量方法，有些需要增加照射剂量，有些方法对散射分布的估计准确度不高；STARLACK等使用散射核的。
8、研究方法进行锥束CT散射校正，在不增加照射剂量的情况下，可以方便的解决不同能级的X射线散射对锥束CT重建图像的影响，但其需要使用先验知识估计模型参数，且其没有较好的构建散射模型，一定程度上阻碍了方法使用的广度和精度。发明内容0005针对现有技术中存在的问题，本发明提供了一种使用散射核方法的锥束CT散射校正方法，是依靠加入遮挡板来获取部分区域散射分布，自适应的调整散射分布模型参数，进而求解散射核的参数。0006本发明的技术解决方案是一种使用散射核方法的锥束CT散射校正方法，其步骤为0007步骤一测量遮挡板下的散射信号；0008步骤二自适应散射核参数的计算；0009步骤三估计扩散函数的参数；说明书。
9、CN104166962A2/4页40010步骤四通过扩散函数对图像进行散射校正；0011步骤五图像遮挡区域的修复；0012步骤六锥束CT的重建。0013其中，遮挡板形状为“十”字型，由两个铅条十字交叉构成，铅条宽2MM、高3MM、长120MM，铅条放置在圆形塑料板上；所述遮挡板放置在X射线源与被照物体之间，且围绕圆心按一定方向旋转；所述遮挡板离射线源230MM，离被照物770MM，离平板探测器1170MM；遮挡板放置在X射线源与被照物体之间是防止重建时因相同区域连续遮挡造成重建误差过大；遮挡板的形状可以多样化，主要目的是测出部分区域的散射分布情况。0014其中估计扩散函数的参数和通过扩散函数对。
10、图像进行散射校正是通过迭代方法进行的。0015在通过扩散函数对图像进行散射校正中散射分布函数PSF公式为00160017估计X,Y点处的散射公式为00180019这里XM,YN是大小为MN图像坐标系中的坐标，为了增加计算效率，其图像可以是降采样后的图像；IPXM,YN是初始射线强度估计。0020在获取遮挡板下方的散射分布后，进行计算,A,B,1,2，计算公式为0021AFXM,YNAIPXM,YN/I0XM,YNLNI0XM,YN/IPXM,YN，00220023对应的不同区域可以求出不同的,A,B,1,2，在初始散射校正后图像通过与散射核做卷积计算得到进一步的散射校正。0024同时，图像遮挡。
11、区域的修复是使用基于样例纹理的遮挡区域修复算法来进一步抑制因为遮挡部分区域对断层重建造成的影响，其步骤为首先，标记要修复的区域；其次，使用被修复区域临近的像素的纹理计算纹理和结构；最后，填充。0025本发明于现有技术相比具有积极的有益效果本发明的使用散射核方法的锥束CT散射校正方法采用了自适应散射核的方式进行自适应的获取构建的模型参数，依靠加入遮挡板来获取部分区域散射分布，自适应的调整散射分布模型参数，进而求解散射核的参数，不需要获取模型参数的先验数据，不增加图像获取及重建的复杂度，添加的设备复杂度不高，也不需要重复扫描被测物体，能高效的进行锥束CT散射校正。附图说明0026图1为本发明中遮挡。
12、板结构状态示意图；0027图2为本发明流程图；0028图3为蒙特卡洛模拟投影图；0029图4为使用本发明方法计算的散射分布图；0030图5为去除散射的投影图；0031图6为修复后的投影图一；说明书CN104166962A3/4页50032图7为模体的几何结构示意图；0033图8为蒙特卡洛模拟结果；0034图9为修复后的投影图二；0035图10为应用STARLACK方法校正结果示意图；0036图11为模体CATPHAN500及锥束CT实验室系统；0037图12为本发明散射校正前后对比图一；0038图13为本发明散射校正前后对比图二。具体实施方式0039以下结合附图，通过具体实施例对本发明技术方案。
13、做进一步的说明。0040本实施例的使用散射核方法的锥束CT散射校正方法是使用蒙特卡洛粒子进行模拟。图1为本发明中遮挡板结构状态示意图；图2为本发明流程图；0041如图3、4、5、6，图3为蒙特卡洛模拟投影图；图4为使用本发明方法计算的散射分布图；图5为去除散射的投影图；图6为修复后的投影图一。模体是由PMMA构成的长方体40CM40CM8CM，使用5107个光子模拟，结果如图3所示，图4是使用本发明方法计算的散射分布图；图5为去除散射的投影图；图6是对遮挡板下方的图像使用最邻近插值的方法进行插补，进行散射校正后，并使用基于样本纹理的图像修复技术后的投影图。0042对散射校正效果分析见表1004。
14、30044表1杯状伪影CUP与投影噪声的分析0045本发明是杯状伪影CUP从2609下降到126，但投影噪声有一定的上升，从11上升到16，未进行散射校正的投影图表示为PI_NONE,散射校正后的投影图表示为PI_SC。0046如图7、8、9、10，图7为模体的几何结构示意图；图8为蒙特卡洛模拟结果；图9为修复后的投影图二；图10为应用STARLACK方法校正结果示意图。摸体的几何结构如图7所示，材料由PPMA树脂组成，使用5108个光子模拟，120KV，蒙特卡洛模拟结果如图8所示，从图中能较明显看出，本发明能降低散射带来的伪影。0047表2为模体的定量分析表0048说明书CN10416696。
15、2A4/4页60049表2模体投影图的散射校正定理分析0050如图11、12、13所示，图11为模体CATPHAN500及锥束CT实验室系统；图12为本发明散射校正前重建断层图；图13为本发明散射校正后重建断层图。从图13中能看出本发明方法能使杯状伪影和条纹状伪影明显减少，其中杯状伪影从36减少到10。图13中方框用来强调与图12中相应位置条纹状伪影的减少。0051虽然本发明已以较佳实施例公开如上，但它们并不是用来限定本发明，任何熟习此技艺者，在不脱离本发明之精神和范围内，自当可作各种变化或润饰，但同样在本发明的保护范围之内。说明书CN104166962A1/6页7图1说明书附图CN104166962A2/6页8图2说明书附图CN104166962A3/6页9图3图4图5图6说明书附图CN104166962A4/6页10图7图8图9说明书附图CN104166962A105/6页11图10图11说明书附图CN104166962A116/6页12图12图13说明书附图CN104166962A12。