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1、(10)申请公布号 CN 102891096 A (43)申请公布日 2013.01.23 C N 1 0 2 8 9 1 0 9 6 A *CN102891096A* (21)申请号 201210253759.1 (22)申请日 2012.07.20 2011-158894 2011.07.20 JP 2011-158896 2011.07.20 JP 2011-158697 2011.07.20 JP H01L 21/67(2006.01) H01L 21/02(2006.01) (71)申请人大日本网屏制造株式会社 地址日本国京都府京都市 (72)发明人长田直之 杉本健太郎 (74)专利。
2、代理机构隆天国际知识产权代理有限 公司 72003 代理人董雅会 郭晓东 (54) 发明名称 基板处理装置以及基板处理方法 (57) 摘要 本发明提供一种能够防止由于排出头以及保 持该排出头的喷嘴臂而引起的污染的基板处理装 置以及基板处理方法。通过旋转驱动部（63）使保 持排出头的喷嘴臂（62）在基板W的上方的处理位 置与包围基板W的处理罩的外侧的待机位置之间 移动。在对基板W进行了清洗处理的喷嘴臂（62） 位于待机位置时，从喷淋喷嘴（71）向斜下方的喷 嘴臂（62）喷出清洗液。通过使3个喷嘴臂（62）升 降以使3个喷嘴臂（62）穿过向斜下方喷出的清洗 液的液流，来依次清洗3个喷嘴臂（62）。。
3、然后，从 干燥气体喷嘴（76）向喷嘴臂（62）吹送氮气，来使 附着于喷嘴臂的清洗液干燥。 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 权利要求书4页 说明书25页 附图19页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书 4 页 说明书 25 页 附图 19 页 1/4页 2 1.一种基板处理装置，其特征在于，具有： 基板保持单元，将基板保持为大致水平姿势并使上述基板旋转， 罩，包围上述基板保持单元的周围， 喷嘴臂，在前端具有用于向被上述基板保持单元保持的基板排出处理液的排出头， 旋转驱动部，使上述喷嘴臂旋转，以使上述排出头在位于被上述基板保持单元保持的 基板的上方的。
4、处理位置与位于上述罩的外侧的待机位置之间移动， 喷嘴臂清洗单元，至少清洗上述喷嘴臂的特定部位，该特定部位是指，在上述排出头移 动到上述处理位置时与被上述基板保持单元保持的基板相向的部位。 2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于， 上述旋转驱动部设置于上述罩的外侧，并与上述喷嘴臂的基端相连接， 上述喷嘴臂清洗单元具有喷淋喷嘴，在上述排出头位于上述待机位置时，该喷淋喷嘴 向上述喷嘴臂喷出清洗液。 3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于， 上述基板处理装置还具有用于使上述喷嘴臂升降的升降驱动部， 上述喷淋喷嘴固定设置于上述罩的外侧，朝向斜下方喷出清洗液， 上述升降驱动部使上述喷嘴。
5、臂升降，以使上述喷嘴臂穿过从上述喷淋喷嘴喷出的清洗 液的液流。 4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，上述喷淋喷嘴向远离上述基板 保持单元的方向喷出清洗液。 5.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，上述基板处理装置还具有气体 喷出部，上述气体喷出部至少向上述喷嘴臂的附着有从上述喷淋喷嘴喷出的清洗液的部位 吹送干燥用气体来进行干燥。 6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，上述气体喷出部设置于，在上述 排出头位于上述待机位置时能够从上述喷嘴臂的前端侧吹送干燥用气体的位置。 7.根据权利要求1至6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，在上述旋转驱动部 上沿着水平方。
6、向相互平行地连接有多个上述喷嘴臂。 8.根据权利要求1至6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，在上述喷嘴臂上的 上述排出头的侧方附设有用于向从上述排出头排出的处理液中混合气体的气体排出部。 9.一种基板处理方法，其特征在于，包括： 旋转工序，使在前端具有排出头的喷嘴臂旋转，以使上述排出头在处理位置与待机位 置之间移动，其中，上述排出头用于向被基板保持单元保持为大致水平姿势并进行旋转的 基板排出处理液，上述处理位置位于被上述基板保持单元保持的基板的上方，上述待机位 置位于对上述基板保持单元的周围进行包围的罩的外侧， 喷嘴臂清洗工序，至少清洗上述喷嘴臂的特定部位，该特定部位是指，在上述排出头移。
7、 动到上述处理位置时与被上述基板保持单元保持的基板相向的部位。 10.根据权利要求9所述的基板处理方法，其特征在于，上述喷嘴臂清洗工序包括清洗 液喷出工序，在上述清洗液喷出工序中，在上述排出头位于上述待机位置时从喷淋喷嘴向 上述喷嘴臂喷出清洗液。 11.根据权利要求10所述的基板处理方法，其特征在于，在上述清洗液喷出工序中，一 权 利 要 求 书CN 102891096 A 2/4页 3 边从上述喷淋喷嘴朝向斜下方喷出清洗液，一边使上述喷嘴臂升降，以使上述喷嘴臂穿过 从上述喷淋喷嘴喷出的清洗液的液流。 12.根据权利要求11所述的基板处理方法，其特征在于，上述喷淋喷嘴向远离上述基 板保持单元的。
8、方向喷出清洗液。 13.根据权利要求10所述的基板处理方法，其特征在于，上述基板处理方法还包括喷 嘴臂干燥工序，在上述喷嘴臂干燥工序中，至少向上述喷嘴臂的附着有从上述喷淋喷嘴喷 出的清洗液的部位吹送干燥用气体来进行干燥。 14.根据权利要求13所述的基板处理方法，其特征在于，在上述喷嘴臂干燥工序中，在 上述排出头位于上述待机位置时，从上述喷嘴臂的前端侧吹送干燥用气体。 15.根据权利要求9至14中任一项所述的基板处理方法，其特征在于，上述喷嘴臂沿着 水平方向相互平行地设置有多个。 16.根据权利要求9至14中任一项所述的基板处理方法，其特征在于，在上述喷嘴臂上 的上述排出头的侧方附设有用于向从。
9、上述排出头排出的处理液中混合气体的气体排出部。 17.一种基板处理装置，其特征在于，具有： 基板保持单元，将基板保持为大致水平姿势并使上述基板旋转， 罩，包围上述基板保持单元的周围， 喷嘴臂，在前端具有用于向被上述基板保持单元保持的基板排出处理液的排出头， 旋转驱动部，使上述喷嘴臂旋转，以使上述排出头在位于被上述基板保持单元保持的 基板的上方的处理位置与位于上述罩的外侧的待机位置之间移动， 气体喷出部，在上述排出头从上述处理位置返回上述待机位置时，上述气体喷出部至 少向上述喷嘴臂的特定部位吹送干燥用气体来使进行干燥，其中，该特定部位是指，在上述 排出头移动到上述处理位置时与被上述基板保持单元保。
10、持的基板相向的部位。 18.根据权利要求17所述的基板处理装置，其特征在于，上述气体喷出部设置于，在上 述排出头位于上述待机位置时能够从上述喷嘴臂的前端侧吹送干燥用气体的位置。 19.根据权利要求18所述的基板处理装置，其特征在于， 上述气体喷出部被固定设置， 上述旋转驱动部使上述喷嘴臂摆动，以使上述喷嘴臂的前端侧穿过从上述气体喷出部 喷出的干燥用气体的气流。 20.根据权利要求17所述的基板处理装置，其特征在于，每当结束向一张基板排出处 理液的处理并上述排出头从上述处理位置返回上述待机位置时，上述气体喷出部都向上述 喷嘴臂吹送干燥用气体。 21.根据权利要求17至20中任一项所述的基板处理装。
11、置，其特征在于，在上述旋转驱 动上沿着水平方向相互平行地连接有多个上述喷嘴臂。 22.根据权利要求17至20中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，在上述喷嘴臂 上的上述排出头的侧方附设有用于向从上述排出头排出的处理液中混合气体的气体排出 部。 23.一种基板处理方法，其特征在于，包括： 处理工序，使在前端具备排出头的喷嘴臂旋转，来使上述排出头移动到位于被基板保 持单元保持为大致水平姿势并进行旋转的基板的上方的处理位置，从上述排出头向上述基 权 利 要 求 书CN 102891096 A 3/4页 4 板排出处理液， 返回工序，使上述喷嘴臂旋转，来使上述排出头从上述处理位置返回到位于对上述基 。
12、板保持单元的周围进行包围的罩的外侧的待机位置， 喷嘴臂干燥工序，在上述排出头从上述处理位置返回到上述待机位置时，从气体喷出 部至少向上述喷嘴臂的特定部分吹送干燥用气体来进行干燥，其中，特定部位是指，在上述 排出头移动到上述处理位置时与被上述基板保持单元保持的基板相向的部位。 24.根据权利要求23所述的基板处理方法，其特征在于，在上述喷嘴臂干燥工序中，在 上述排出头位于上述待机位置时，从上述喷嘴臂的前端侧吹送干燥用气体。 25.根据权利要求24所述的基板处理方法，其特征在于， 上述气体喷出部被固定设置， 在上述喷嘴臂干燥工序中使上述喷嘴臂摆动，以使上述喷嘴臂的前端侧穿过从上述气 体喷出部喷出的。
13、干燥用气体的气流。 26.根据权利要求23所述的基板处理方法，其特征在于，每当结束一次上述处理工序 并且上述排出头从上述处理位置返回上述待机位置时，都执行上述喷嘴臂干燥工序。 27.根据权利要求23至26中任一项所述的基板处理方法，其特征在于，上述喷嘴臂沿 着水平方向相互平行地设置有多个。 28.根据权利要求23至26中任一项所述的基板处理方法，其特征在于，在上述喷嘴臂 上的上述排出头的侧方附设有用于向从上述排出头排出的处理液中混合气体的气体排出 部。 29.一种基板处理装置，其特征在于，具有： 基板保持单元，将基板保持为大致水平姿势并使上述基板旋转， 罩，包围上述基板保持单元的周围， 喷嘴臂。
14、，在前端具有用于向被上述基板保持单元保持的基板排出处理液的排出头， 旋转驱动部，使上述喷嘴臂旋转，以使上述排出头在位于被上述基板保持单元保持的 基板的上方的处理位置与位于上述罩的外侧的待机位置之间移动， 待机容器，配置于上述待机位置，用于容置上述排出头， 清洗单元，设置在上述待机容器上，用于向容置在上述待机容器中的上述排出头供给 清洗液来进行清洗， 干燥单元，设置在上述待机容器上，用于向通过上述清洗单元清洗后的上述排出头吹 送干燥用气体来进行干燥。 30.根据权利要求29所述的基板处理装置，其特征在于， 上述基板处理装置还具有用于使上述喷嘴臂以及上述排出头升降的升降驱动部， 上述干燥单元向通过。
15、上述升降驱动部从上述待机容器提起的上述排出头吹送干燥用 气体。 31.根据权利要求29或30所述的基板处理装置，其特征在于， 在上述待机容器上还设置有用于向上述喷嘴臂吹送干燥用气体的喷嘴臂干燥单元。 32.一种基板处理方法，其特征在于，包括： 处理工序，使在前端具备排出头的喷嘴臂旋转，来使上述排出头移动到位于被基板保 持单元保持为大致水平姿势并进行旋转的基板的上方的处理位置，从上述排出头向上述基 权 利 要 求 书CN 102891096 A 4/4页 5 板排出处理液， 返回工序，使上述喷嘴臂旋转，来使上述排出头从上述处理位置返回到位于对上述基 板保持单元的周围进行包围的罩的外侧的待机位置，。
16、并将上述排出头容置在配置于上述待 机位置的待机容器中， 清洗工序，从设置在上述待机容器上的清洗单元向容置在上述待机容器中的上述排出 头供给清洗液来进行清洗， 干燥工序，从设置在上述待机容器上的干燥单元向在上述清洗工序中已被清洗的上述 排出头吹送干燥用气体来进行干燥。 33.根据权利要求32所述的基板处理方法，其特征在于，在上述干燥工序中，一边从上 述待机容器提起上述排出头，一边从上述干燥单元向上述排出头吹送干燥用气体。 34.根据权利要求32或33所述的基板处理方法，其特征在于， 上述干燥工序包括喷嘴臂干燥工序，在上述喷嘴臂干燥工序中，从设置在上述待机容 器上的喷嘴臂干燥单元向上述喷嘴臂吹送干。
17、燥用气体。 权 利 要 求 书CN 102891096 A 1/25页 6 基板处理装置以及基板处理方法 技术领域 0001 本发明涉及将排出头以及喷嘴臂维持得洁净的基板处理装置以及基板处理方法， 其中，所述排出头向半导体晶片、液晶显示装置用玻璃基板等薄板状的精密电子基板（下面 简称为“基板”）供给处理液，所述喷嘴臂用于保持该排出头。 背景技术 0002 以往，在基板的制造工序中使用如下的基板处理装置，即，在进行利用药液的药液 处理以及利用纯水的冲洗处理等基板的表面处理之后，进行干燥处理。作为这样的基板处 理装置，使用逐张地处理基板的单张式装置和多张基板统一处理的批量式装置。单张式的 基板处理。
18、装置通常在进行了向旋转的基板表面供给药液的药液处理、供给纯水的纯水冲洗 处理之后，使基板高速旋转来进行甩出干燥。例如专利文献1、2公开了这样的单张式的基 板处理装置。 0003 专利文献1、2公开的基板处理装置具有：将基板保持为大致以水平姿势并使该基 板旋转的旋转卡盘；向被旋转卡盘保持的基板的上表面供给处理液的喷嘴（排出头）；包围 旋转卡盘的周围来挡住从基板飞散的处理液的罩。专利文献2公开的装置还具有：用于容 置这些结构构件的处理室；在罩的周围上下隔开处理室内的间隔板。 0004 在专利文献1、2公开的装置中，在处理中从旋转的基板以及旋转卡盘飞散的处理 液可能附着于排出头。如果对这样附着的处理。
19、液置之不理，则可能落到基板上而成为污染 源，或者干燥而成为异物颗粒产生源。专利文献3公开了如下的技术，即，在排出处理液的 排出头的周围设置排出清洗液的大直径的喷嘴架，来清洗附着于排出头的前端部的处理 液。另外，专利文献4公开了如下的技术，即，在旋转卡盘的外方的待机容器中向排出头喷 出清洗液来进行清洗。 0005 专利文献1：日本特开2008-91717号公报 0006 专利文献2：日本特开2010-192686号公报 0007 专利文献3：日本特开2004-267871号公报 0008 专利文献4：日本特开2007-149891号公报 0009 但是，从旋转的基板以及旋转卡盘飞散的处理液不仅会。
20、附着于排出头，还可能附 着于保持该排出头使其摆动的喷嘴臂。在对附着于喷嘴臂的处理液置之不理的情况下，也 会产生如下的问题，即，在臂摆动时该处理液落到基板上而成为污染源，或者附着的处理液 干燥而成为异物颗粒产生源。即使将专利文献3公开的技术应用于专利文献1、2的基板处 理装置中，虽然能够对排出头的前端部进行清洗，但是不能对保持排出头的喷嘴臂进行清 洗。因此，没能消除附着有处理液的喷嘴臂成为污染源的问题。 0010 另外，即使利用专利文献4公开的技术来清洗排出头，也会产生如下的新的问题， 即，排出头会附着清洗时使用的清洗液，并且在清洗之后处理新的基板时，附着于排出头的 清洗液落到基板上。 说 明 。
21、书CN 102891096 A 2/25页 7 发明内容 0011 本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供能够防止由于排出头以及用于 保持该排出头的喷嘴臂引起的污染的基板处理装置以及基板处理方法。 0012 为了解决上述问题，技术方案1的发明为基板处理装置，其特征在于，具有：基板 保持单元，将基板保持为大致水平姿势并使上述基板旋转，罩，包围上述基板保持单元的周 围，喷嘴臂，在前端具有用于向被上述基板保持单元保持的基板排出处理液的排出头，旋转 驱动部，使上述喷嘴臂旋转，以使上述排出头在位于被上述基板保持单元保持的基板的上 方的处理位置与位于上述罩的外侧的待机位置之间移动，喷嘴臂清洗单元，至。
22、少清洗上述 喷嘴臂的特定部位，该特定部位是指，在上述排出头移动到上述处理位置时与被上述基板 保持单元保持的基板相向的部位。 0013 另外，技术方案2的发明的特征在于，在技术方案1所述的发明的基板处理装置 中，上述旋转驱动部设置于上述罩的外侧，并与上述喷嘴臂的基端相连接，上述喷嘴臂清洗 单元具有喷淋喷嘴，在上述排出头位于上述待机位置时，该喷淋喷嘴向上述喷嘴臂喷出清 洗液。 0014 另外，技术方案3的发明的特征在于，在技术方案2所述的发明的基板处理装置 中，上述基板处理装置还具有用于使上述喷嘴臂升降的升降驱动部，上述喷淋喷嘴固定设 置于上述罩的外侧，朝向斜下方喷出清洗液，上述升降驱动部使上述喷。
23、嘴臂升降，以使上述 喷嘴臂穿过从上述喷淋喷嘴喷出的清洗液的液流。 0015 另外，技术方案4的发明的特征在于，在技术方案3所述的发明的基板处理装置 中，上述喷淋喷嘴向远离上述基板保持单元的方向喷出清洗液。 0016 另外，技术方案5的发明的特征在于，在技术方案2所述的发明的基板处理装置 中，上述基板处理装置还具有气体喷出部，上述气体喷出部至少向上述喷嘴臂的附着有从 上述喷淋喷嘴喷出的清洗液的部位吹送干燥用气体来进行干燥。 0017 另外，技术方案6的发明的特征在于，在技术方案5所述的发明的基板处理装置 中，上述气体喷出部设置于，在上述排出头位于上述待机位置时能够从上述喷嘴臂的前端 侧吹送干燥用。
24、气体的位置。 0018 另外，技术方案7的发明的特征在于，在技术方案1至6中任一项所述的发明的基 板处理装置中，在上述旋转驱动部上沿着水平方向相互平行地连接有多个上述喷嘴臂。 0019 另外，技术方案8的发明的特征在于，在技术方案1至6中任一项所述的发明的基 板处理装置中，在上述喷嘴臂上的上述排出头的侧方附设有用于向从上述排出头排出的处 理液中混合气体的气体排出部。 0020 技术方案9的发明为基板处理方法，其特征在于，包括：旋转工序，使在前端具有 排出头的喷嘴臂旋转，以使上述排出头在处理位置与待机位置之间移动，其中，上述排出头 用于向被基板保持单元保持为大致水平姿势并进行旋转的基板排出处理液。
25、，上述处理位置 位于被上述基板保持单元保持的基板的上方，上述待机位置位于对上述基板保持单元的周 围进行包围的罩的外侧，喷嘴臂清洗工序，至少清洗上述喷嘴臂的特定部位，该特定部位是 指，在上述排出头移动到上述处理位置时与被上述基板保持单元保持的基板相向的部位。 0021 另外，技术方案10的发明的特征在于，在技术方案9所述的发明的基板处理方法 中，述喷嘴臂清洗工序包括清洗液喷出工序，在上述清洗液喷出工序中，在上述排出头位于 说 明 书CN 102891096 A 3/25页 8 上述待机位置时从喷淋喷嘴向上述喷嘴臂喷出清洗液。 0022 另外，技术方案11的发明的特征在于，在技术方案10所述的发明。
26、的基板处理方法 中，在上述清洗液喷出工序中，一边从上述喷淋喷嘴朝向斜下方喷出清洗液，一边使上述喷 嘴臂升降，以使上述喷嘴臂穿过从上述喷淋喷嘴喷出的清洗液的液流。 0023 另外，技术方案12的发明的特征在于，在技术方案11所述的发明的基板处理方法 中，上述喷淋喷嘴向远离上述基板保持单元的方向喷出清洗液。 0024 另外，技术方案13所述的发明的特征在于，在技术方案10所述的发明的基板处理 方法中，上述基板处理方法还包括喷嘴臂干燥工序，在上述喷嘴臂干燥工序中，至少向上述 喷嘴臂的附着有从上述喷淋喷嘴喷出的清洗液的部位吹送干燥用气体来进行干燥 0025 另外，技术方案14的发明的特征在于，在技术方。
27、案13所述的发明的基板处理方法 中，在上述喷嘴臂干燥工序中，在上述排出头位于上述待机位置时，从上述喷嘴臂的前端侧 吹送干燥用气体。 0026 另外，技术方案15的发明的特征在于，在技术方案9至14中任一项所述的发明的 基板处理方法中，上述喷嘴臂沿着水平方向相互平行地设置有多个。 0027 另外，技术方案16的发明的特征在于，在技术方案9至14的任一项所述的发明的 基板处理方法中，在上述喷嘴臂上的上述排出头的侧方附设有用于向从上述排出头排出的 处理液中混合气体的气体排出部。 0028 技术方案17的发明为基板处理装置，其特征在于，具有：基板保持单元，将基板保 持为大致水平姿势并使上述基板旋转，罩。
28、，包围上述基板保持单元的周围，喷嘴臂，在前端 具有用于向被上述基板保持单元保持的基板排出处理液的排出头，旋转驱动部，使上述喷 嘴臂旋转，以使上述排出头在位于被上述基板保持单元保持的基板的上方的处理位置与位 于上述罩的外侧的待机位置之间移动，气体喷出部，在上述排出头从上述处理位置返回上 述待机位置时，上述气体喷出部至少向上述喷嘴臂的特定部位吹送干燥用气体来使进行干 燥，其中，该特定部位是指，在上述排出头移动到上述处理位置时与被上述基板保持单元保 持的基板相向的部位。 0029 另外，技术方案18的发明的特征在于，在技术方案17所述的发明的基板处理装置 中，上述气体喷出部设置于，在上述排出头位于上。
29、述待机位置时能够从上述喷嘴臂的前端 侧吹送干燥用气体的位置。 0030 另外，技术方案19的发明的特征在于，在技术方案18所述的发明的基板处理装置 中，上述气体喷出部被固定设置，上述旋转驱动部使上述喷嘴臂摆动，以使上述喷嘴臂的前 端侧穿过从上述气体喷出部喷出的干燥用气体的气流。 0031 另外，技术方案20的发明的特征在于，在技术方案17所述的发明的基板处理装置 中，每当结束向一张基板排出处理液的处理并且上述排出头从上述处理位置返回上述待机 位置时，上述气体喷出部都向上述喷嘴臂吹送干燥用气体。 0032 另外，技术方案21的发明的特征在于，在技术方案17至20中任一项所述的发明 的基板处理装置。
30、中，在上述旋转驱动上沿着水平方向相互平行地连接有多个上述喷嘴臂。 0033 另外，技术方案22的发明的特征在于，在技术方案17至20的任一项所述的发明 的基板处理装置中，在上述喷嘴臂上的上述排出头的侧方附设有用于向从上述排出头排出 的处理液中混合气体的气体排出部。 说 明 书CN 102891096 A 4/25页 9 0034 技术方案23所述的发明为基板处理方法，其特征在于，包括：处理工序，使在前端 具备排出头的喷嘴臂旋转，来使上述排出头移动到位于被基板保持单元保持为大致水平姿 势并进行旋转的基板的上方的处理位置，从上述排出头向上述基板排出处理液，返回工序， 使上述喷嘴臂旋转，来使上述排出。
31、头从上述处理位置返回到位于对上述基板保持单元的周 围进行包围的罩的外侧的待机位置，喷嘴臂干燥工序，在上述排出头从上述处理位置返回 到上述待机位置时，从气体喷出部至少向上述喷嘴臂的特定部分吹送干燥用气体来进行干 燥，其中，特定部位是指，在上述排出头移动到上述处理位置时与被上述基板保持单元保持 的基板相向的部位。 0035 另外，技术方案24的发明的特征在于，在技术方案23所述的发明的基板处理方法 中，在上述喷嘴臂干燥工序中，在上述排出头位于上述待机位置时，从上述喷嘴臂的前端侧 吹送干燥用气体。 0036 另外，技术方案25的发明的特征在于，在技术方案24所述的发明的基板处理方法 中，上述气体喷出。
32、部被固定设置，在上述喷嘴臂干燥工序中，使上述喷嘴臂摆动，以使上述 喷嘴臂的前端侧穿过从上述气体喷出部喷出的干燥用气体的气流。 0037 另外，技术方案26的发明的特征在于，在技术方案23所述的发明的基板处理方法 中，每当结束一次上述处理工序并且上述排出头从上述处理位置返回上述待机位置时，都 执行上述喷嘴臂干燥工序。 0038 另外，技术方案27的发明的特征在于，在技术方案23至26中任一项所述的发明 的基板处理方法中，上述喷嘴臂沿着水平方向相互平行地设置有多个。 0039 另外，技术方案28的发明的特征在于，在技术方案23至26中任一项所述的发明 的基板处理方法中，在上述喷嘴臂上的上述排出头的。
33、侧方附设有用于向从上述排出头排出 的处理液中混合气体的气体排出部。 0040 技术方案29所述的发明为基板处理装置，其特征在于，具有：基板保持单元，将基 板保持为大致水平姿势并使上述基板旋转，罩，包围上述基板保持单元的周围，喷嘴臂，在 前端具有用于向被上述基板保持单元保持的基板排出处理液的排出头，旋转驱动部，使上 述喷嘴臂旋转，以使上述排出头在位于被上述基板保持单元保持的基板的上方的处理位置 与位于上述罩的外侧的待机位置之间移动，待机容器，配置于上述待机位置，用于容置上述 排出头，清洗单元，设置在上述待机容器上，用于向容置在上述待机容器中的上述排出头供 给清洗液来进行清洗，干燥单元，设置在上述。
34、待机容器上，用于向通过上述清洗单元清洗后 的上述排出头吹送干燥用气体来进行干燥。 0041 另外，技术方案30的发明的特征在于，在技术方案29所述的发明的基板处理装置 中，上述基板处理装置还具有用于使上述喷嘴臂以及上述排出头升降的升降驱动部，上述 干燥单元向通过上述升降驱动部从上述待机容器提起的上述排出头吹送干燥用气体。 0042 另外，技术方案31所述的发明的特征在于，在技术方案29或者30所述的发明的 基板处理装置中，在上述待机容器上还设置有用于向上述喷嘴臂吹送干燥用气体的喷嘴臂 干燥单元。 0043 技术方案32所述的发明为基板处理方法，其特征在于，包括：处理工序，使在前端 具备排出头的。
35、喷嘴臂旋转，来使上述排出头移动到位于被基板保持单元保持为大致水平姿 势并进行旋转的基板的上方的处理位置，从上述排出头向上述基板排出处理液，返回工序， 说 明 书CN 102891096 A 5/25页 10 使上述喷嘴臂旋转，来使上述排出头从上述处理位置返回到位于对上述基板保持单元的周 围进行包围的罩的外侧的待机位置，并将上述排出头容置在配置于上述待机位置的待机容 器中，清洗工序，从设置在上述待机容器上的清洗单元向容置在上述待机容器中的上述排 出头供给清洗液来进行清洗，干燥工序，从设置在上述待机容器上的干燥单元向在上述清 洗工序中已被清洗的上述排出头吹送干燥用气体来进行干燥。 0044 另外，。
36、技术方案33的发明的特征在于，在技术方案32所述的发明的基板处理方法 中，在上述干燥工序中，一边从上述待机容器提起上述排出头，一边从上述干燥单元向上述 排出头吹送干燥用气体。 0045 另外，技术方案34的发明的特征在于，在技术方案32或者33所述的发明的基板 处理方法中，上述干燥工序包括喷嘴臂干燥工序，在上述喷嘴臂干燥工序中，从设置在上述 待机容器上的喷嘴臂干燥单元向上述喷嘴臂吹送干燥用气体。 0046 根据技术方案1至8的发明，具有至少清洗在前端具有排出头的喷嘴臂的特定部 位的喷嘴臂清洗单元，因此至少能够清洗喷嘴臂的该特定部位，从而能够防止由于喷嘴臂 而引起的污染，该特定部位是指，在排出头。
37、移动到处理位置时与被基板保持单元保持的基 板相向的部位。 0047 尤其，根据技术方案3的发明，因为使喷嘴臂升降以使喷嘴臂穿过从喷淋喷嘴朝 向斜下方喷出的清洗液的液流，因此无论喷嘴臂的设置宽度如何都能够清洗喷嘴臂的整 体。 0048 尤其，根据技术方案4的发明，因为喷淋喷嘴向远离基板保持单元的方向喷出清 洗液，因此能够防止由于在清洗喷嘴臂时清洗液附着于基板保持单元而引起的污染。 0049 尤其，根据技术方案6的发明，气体喷出部从喷嘴臂的前端侧吹送干燥用气体，因 此能够防止被干燥用气体吹飞的清洗液附着于设置有排出头的喷嘴臂的前端侧。 0050 根据技术方案9至16的发明，至少清洗在前端具有排出头。
38、的喷嘴臂的特定部位， 因此至少能够清洗喷嘴臂的该特定部位，从而能够防止由于喷嘴臂引起的污染，其中，特定 部位是指，在排出头移动到处理位置时与被基板保持单元保持的基板相向的部位。 0051 尤其，根据技术方案11的发明，一边从喷淋喷嘴朝朝向斜下方喷出清洗液，一边 使喷嘴臂升降以使喷嘴臂穿过从喷淋喷嘴喷出的清洗液的液流，因此无论喷嘴臂的设置宽 度如何都能够清洗喷嘴臂的整体。 0052 尤其，根据技术方案12的发明，喷淋喷嘴向远离基板保持单元的方向喷出清洗 液，因此能够防止由于在清洗喷嘴臂时清洗液附着于基板保持单元而引起的污染。 0053 尤其，根据技术方案14的发明，从喷嘴臂的前端侧吹送干燥用气体。
39、，因此能够防 止被干燥用气体吹飞的清洗液附着于设置有排出头的喷嘴臂的前端侧。 0054 根据技术方案17至22的发明，在排出头从处理位置返回到待机位置时，至少向喷 嘴臂的特定部位吹送干燥用气体来进行干燥，因此至少使喷嘴臂的该特定部位干燥而除去 所附着的处理液，从而能够防止由于在处理中附着有处理液的喷嘴臂引起的污染。其中，特 定部位是指，在排出头移动到处理位置时与被基板保持单元保持的基板相向的部位。 0055 尤其，根据技术方案18的发明，在排出头位于待机位置时，气体喷出部从喷嘴臂 的前端侧吹送干燥用气体，因此能够防止被干燥用气体吹飞的清洗液附着于设置有排出头 的喷嘴臂的前端侧。 说 明 书CN。
40、 102891096 A 10 6/25页 11 0056 尤其，根据技术方案19的发明，使喷嘴臂摆动以使喷嘴臂的前端侧穿过从固定设 置的气体喷出部喷出的干燥用气体的气流，因此无论喷嘴臂的设置宽度如何都能够对喷嘴 臂的整体进行干燥。 0057 尤其，根据技术方案20的发明，每次结束向一张基板排出处理液的处理并且排出 头从处理位置返回待机位置，向喷嘴臂吹送干燥用气体，因此能够防止在某一基板的处理 中附着有处理液的喷嘴臂污染下一处理的基板的情况。 0058 根据技术方案23至28的发明，在排出头从处理位置返回到待机位置时，从气体喷 出部至少向喷嘴臂的特定部位吹送干燥用气体来进行干燥，因此至少能够对。
41、喷嘴臂的该特 定部位进行干燥而除去所附着的处理液，从而能够防止由于在处理中附着有处理液的喷嘴 臂引起的污染，其中，特定部位是指，在排出头移动到处理位置时与被基板保持单元保持的 基板相向的部位。 0059 尤其，根据技术方案24的发明，在喷嘴臂干燥工序中，在排出头位于待机位置时， 从喷嘴臂的前端侧吹送干燥用气体，因此能够防止被干燥用气体吹飞的清洗液附着于设置 有排出头的喷嘴臂的前端侧。 0060 尤其，根据技术方案25的发明，在喷嘴臂干燥工序中，使喷嘴臂摆动以使喷嘴臂 的前端侧穿过从固定设置的气体喷出部喷出的干燥用气体的气流，因此无论喷嘴臂的设置 宽度如何都能够清洗喷嘴臂的整体。 0061 尤其。
42、，根据技术方案26的发明，每次结束一次处理工序并且排出头从处理位置返 回待机位置，执行喷嘴臂干燥工序，因此能够防止在某一基板的处理中附着有处理液的喷 嘴臂污染下一处理的基板的情况。 0062 根据技术方案29至31的发明，向容置在待机容器中的排出头供给清洗液来进行 清洗，向被清洗后的排出头吹送干燥用气体来进行干燥，因此即使在清洗后的排出头移动 到处理位置时，也能够防止清洗液从排出头落到基板上的情况。 0063 尤其，根据技术方案30的发明，向从待机容器提起的排出头吹送干燥用气体，因 此能够有效地从排出头吹飞清洗液来进行干燥。 0064 尤其，根据技术方案31的发明，还设置有用于向喷嘴臂吹送干燥。
43、用气体的喷嘴臂 干燥单元，因此能够防止由于附着有处理液的喷嘴臂引起的污染。 0065 根据技术方案32至34的发明，向容置在待机容器中的排出头供给清洗液来进行 清洗，向被清洗的排出头吹送干燥用气体来进行干燥，因此即使在清洗后的排出头移动到 处理位置的情况下，也能够防止清洗液从排出头落到基板上的情况。 0066 尤其，根据技术方案33的发明，一边从待机容器提起排出头，一边向该排出头吹 送干燥用气体，因此能够有效地从排出头吹飞清洗液来进行干燥。 0067 尤其，根据技术方案34的发明，从设置于待机容器的喷嘴臂干燥单元向喷嘴臂吹 送干燥用气体，因此能够防止由于附着有处理液的喷嘴臂引起的污染。 附图说。
44、明 0068 图1是本发明的基板处理装置的俯视图。 0069 图2是图1的基板处理装置的纵向剖视图。 0070 图3是上表面处理液喷嘴的侧视图。 说 明 书CN 102891096 A 11 7/25页 12 0071 图4是从前端侧观察上表面处理液喷嘴的主视图。 0072 图5是示出上表面处理液喷嘴的旋转动作的情况的图。 0073 图6是双流体喷嘴的侧视图。 0074 图7是从前端侧观察双流体喷嘴的主视图。 0075 图8是示出双流体喷嘴的旋转动作的情况的图。 0076 图9是用于示意性地说明一边使3个喷嘴臂升降一边进行清洗的情况的图。 0077 图10是用于示意性地说明一边使3个喷嘴臂摆动。
45、一边进行干燥的情况的图。 0078 图11是用于示意性地说明一边使双流体喷嘴的喷嘴臂摆动一边进行干燥的情况 的图。 0079 图12是第三实施方式的基板处理装置的俯视图。 0080 图13是示出上表面处理液喷嘴的概略动作的俯视图。 0081 图14是上表面处理液喷嘴以及待机容器的侧视示意图。 0082 图15是示出双流体喷嘴的概略动作的俯视图。 0083 图16是双流体喷嘴以及待机容器的侧视示意图。 0084 图17是用于说明上表面处理液喷嘴的排出头的清洗处理的步骤的图。 0085 图18是用于说明上表面处理液喷嘴的排出头的清洗处理的步骤的图。 0086 图19是用于说明上表面处理液喷嘴的排出。
46、头的清洗处理的步骤的图。 0087 图20是用于说明上表面处理液喷嘴的排出头的清洗处理的步骤的图。 具体实施方式 0088 下面，参照附图，对本发明的实施方式进行详细地说明。 0089 第一实施方式 0090 图1是本发明的基板处理装置1的俯视图。另外，图2是基板处理装置1的纵向 剖视图。此外，在图1以及之后的各图中，为了明确图上的方向关系，适当标注以Z轴方向 作为铅垂方向、以XY平面作为水平面的XYZ正交坐标系。另外，在图1以及之后的各图中， 为了容易理解，根据需要夸张或者简略地描画各部分的尺寸、数量。 0091 该基板处理装置1为逐张处理半导体的基板W的单张式的基板处理装置，在圆形 的硅基。
47、板W上进行药液处理以及利用了纯水的冲洗处理之后进行干燥处理。此外，图1示 出在旋转卡盘20上未保持基板W的状态，图2示出旋转卡盘20上保持有基板W的状态。 0092 基板处理装置1在腔室10内具有如下的主要要素：将基板W保持为水平姿势（法 线沿着铅垂方向的姿势）并使该基板旋转的旋转卡盘20；用于向被旋转卡盘20保持的基板 W的上表面供给处理液的上表面处理液喷嘴60；将处理液的液滴和气体的混合流体喷射至 基板的双流体喷嘴80；包围旋转卡盘20的周围的处理罩40。另外，在腔室10内的处理罩 40的周围设置有将腔室10的内侧空间上下隔开的间隔板15。此外，在本说明书中，处理液 是包括药液以及纯水双方。
48、的总称。 0093 腔室10具有沿着铅垂方向的侧壁11、封闭被侧壁11包围的空间的上侧的顶壁12 以及封闭被侧壁11包围的空间的下侧的底壁13。由侧壁11、顶壁12以及底壁13所包围 的空间形成基板W的处理空间。另外，在腔室10的侧壁11的一部分设置有用于相对腔室 10搬出和搬入基板W的搬出入口以及用于开关该搬出入口的遮挡板（都省略图示）。 说 明 书CN 102891096 A 12 8/25页 13 0094 在腔室10的顶壁12设置有风机过滤单元（FFU）14，该风机过滤单元14将基板处 理装置1所设置的无尘室内的空气进一步净化后供给至腔室10内的处理空间。风机过滤 单元14包括取入无尘。
49、室内的空气并送出至腔室10内的风扇以及过滤器（例如HEPA过滤器 （高效粒子空气过滤器），在腔室10内的处理空间形成洁净空气的下降流（down flow）。为 了均匀地分散从风机过滤单元14供给的洁净空气，可以在顶壁12的正下方设置贯穿设置 有多个喷出孔的冲压板。 0095 旋转卡盘20具有：圆板形状的旋转基座21，以水平姿势固定在沿着铅垂方向延伸 的旋转轴24的上端；旋转马达22，配置在旋转基座21的下方，用于使旋转轴24旋转；筒状 的罩构件23，包围旋转马达22的周围。圆板形状的旋转基座21的外径稍大于被旋转卡盘 20保持的圆形的基板W的直径。因此，旋转基座21具有与基板W的整个下表面相向的保持 面21a一边进行保持。 0096 在旋转基座21的保持面21a的周边部立设有多个（在本实施方式中为4个）卡紧 构件26。多个卡紧构件26沿着与圆形的基板W的外周圆相对应的圆周以隔着相等的间隔 （如本实施方式。