形成天线的方法.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201210205410.0

申请日:

2012.06.20

公开号:

CN102842754A

公开日:

2012.12.26

当前法律状态:

实审

有效性:

审中

法律详情:

发明专利申请公开后的视为撤回IPC(主分类):H01Q1/38申请公开日:20121226|||实质审查的生效IPC(主分类):H01Q 1/38申请日:20120620|||公开

IPC分类号:

H01Q1/38; H01Q1/50

主分类号:

H01Q1/38

申请人:

晶钛国际电子股份有限公司

发明人:

杨忠谚

地址:

中国台湾新北市

优先权:

2011.06.20 TW 100121464; 2012.06.19 TW 101121923

专利代理机构:

深圳新创友知识产权代理有限公司 44223

代理人:

江耀纯

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内容摘要

本发明公开了一种形成天线的方法,包含成型载件本体、喷镀导电层于该载件本体上,以及于该导电层定义出该天线的样态。成型该载件本体的步骤包含成型具有非平面表面的该载件本体。于该导电层定义出该天线的样态的步骤包含于该非平面表面上所喷镀的部分导电层定义出该天线的部分样态。该形成天线的方法另包含对所形成的该天线进行电镀或化学镀。本发明形成天线的方法具有工艺简单、不受限于特殊塑料的供应问题、可满足于任何几何平面上制作天线的需求,以及使生产成本降低的优点,故可广泛应用于各种电子商品。

权利要求书

1.一种形成一天线的方法,其特征是,包含:成型一载件本体;喷镀一导电层于该载件本体上;以及于该导电层定义出该天线的样态。2.如权利要求1所述的方法,其特征是,成型该载件本体的步骤包含有:成型具有一非平面表面的该载件本体。3.如权利要求2所述的方法,其特征是,于该导电层定义出该天线的样态的步骤:于该非平面表面上所喷镀的部分导电层定义出该天线的部分样态。4.如权利要求2所述的方法,其特征是,该非平面表面为一曲面。5.如权利要求1所述的方法,其特征是,该载件本体包含有与所形成的该天线电连接的至少一接触体。6.如权利要求5所述的方法,其特征是,该载件本体另包含至少一通孔,使所形成的该天线穿过该通孔而与该接触体电连接。7.如权利要求6所述的方法,其特征是,所形成的该天线穿过且封闭该通孔而与该接触体电连接。8.如权利要求6所述的方法,其特征是,另包含:使用一接着材质来封闭该通孔。9.如权利要求1所述的方法,其特征是,于该导电层定义出该天线的样态的步骤包含:以干蚀刻的方式来于该导电层上定义出该天线的样态。10.如权利要求1所述的方法,其特征是,于该导电层定义出天线的样态的步骤包含:以湿蚀刻的方式来于该导电层上定义出该天线的样态。11.如权利要求1所述的方法,其特征是,于该导电层定义出天线的样态的步骤包含:以剥离法来于该导电层上定义出该天线的样态。12.如权利要求1所述的方法,其特征是,所形成的该天线的频率应用范围为200Hz至20GHz。13.如权利要求1所述的方法,其特征是,另包含:对所形成的该天线进行电镀、无电镀、喷镀或化学镀。14.如权利要求1所述的方法,其特征是,另包含:对所形成之该天线进行修整。15.如权利要求1所述的方法,其特征是,对所形成的该天线进行修整的步骤包含:进行一激光加工处理来修整所形成的该天线。16.如权利要求15所述的方法,其特征是,该激光加工处理使用一激光雕刻技术。17.如权利要求1所述之方法,其特征是,另包含:对所形成之该天线进行一激光加工处理。

说明书

形成天线的方法

技术领域

本发明涉及一种形成天线的方法,更具体地说,涉及运用喷镀与光刻技
术来形成具有天线的载件的方法。

背景技术

由于现今技术的进步以及商品人性化的趋势,许多通信电子产品,例如
智能手机(Smart Phone)、移动电话(Mobile Phone)、笔记本电脑(Notebook)、
平板电脑(Tablet Personal Computer)、个人导航机(Personal Navigation Device,
PND)以及全球定位系统(Global Position System,GPS)等移动装置,其天
线的制造大多应用软性电路板(Flexible Printed Circuit Board,FPCB)。然而,
软性电路板在粘贴于非平面表面时,特别是在三维(Three-dimensional,3D)
的双曲面(hyperboloid),会因为无法完全伏贴而产生翻翘的情形,所以软性
电路板较适合用于介于二维(Two-dimension,2D)平面与三维
(Three-dimension,3D)空间之间(2.5D)的单曲面(Single curved surface)。
因此,当天线需设置在非平面表面时,大多以镭射直接成型技术(Laser Direct 
Structure,LDS)来应用。

镭射直接成型技术以特殊塑料通过射出成型(Injection molding)、镭射光
束活化(Laser Activation)以及化学镀(Chemical plating)等三个步骤来应用
出三维双曲面的天线,除了缩小电子元件的体积,并提升通信品质,以满足
现代化电子商品的需求。然而,镭射直接成型技术具有工艺较为繁琐、机台
价格昂贵以及天线载件本体的特殊塑料受限于少数供应商等缺点,造成生产
成本的增加。

发明内容

因此,本发明所要解决的技术问题是提供一种形成天线的方法,此方法
不仅工艺简单、不受限于特殊塑料的供应问题,更可符合于任何几何平面上
制作天线的需求。

依据本发明的一实施例,其公开一种形成一天线的方法,包含:成型一
载件本体、喷镀一导电层于该载件本体上,以及于该导电层定义出该天线的
样态。

本发明形成天线的方法具有工艺简单、不受限于特殊塑料的供应问题、
可满足于任何几何平面上制作天线的需求,以及使生产成本降低的优点,故
可广泛应用于各种电子商品。

附图说明

图1为本发明形成天线的方法的一实施例的流程图。

图2为利用本发明形成天线的方法以形成具有天线的载件的一实施例的
剖面图。

图3为图2所示的载件的俯视图。

图4为利用本发明形成天线的方法以形成具有天线的载件的另一实施例
的剖面图。

图5为利用本发明形成天线的方法以形成具有天线的载件的另一实施例
的剖面图。

图6为本发明形成天线的方法的另一实施例的流程图。

图7为本发明形成天线的方法的另一实施例的流程图。

其中,附图标记说明如下:

200、400、500        载件

205、405、505    天线

215、415、515    载件本体

225              接触体

235              通孔

245、445、545    非平面表面

535              接触点

具体实施方式

请参阅图1,图1为本发明形成天线的方法的一实施例的流程图。在步
骤110中,首先会成型一载件本体,其中该载件本体的原料可为高分子材料
或其他塑料所构成;接着,如步骤120所示,喷镀(Sputter)一导电层于该
载件本体上,其中该导电层可为金属、合金或高分子导电材料等;最后,在
步骤130中,于该导电层定义出该天线的样态,其中定义的方式包含干蚀刻
(Dry Etching)、湿蚀刻(Wet Etching)或剥离法(Lift-off)等光刻(Lithography)
技术,换言之,本发明形成天线的方法可适用于干式工艺(dry process)(例
如,以激光干式工艺来于导电层上定义出天线的样态)以及湿式工艺(wet 
process),此外,以上定义的方式仅供说明之需,并非用来做为本发明的限制。

请一并参阅图2与图3,图2为利用本发明形成天线的方法以形成具有
天线的载件200的一实施例的剖面图,以及图3为图2所示的载件200的俯
视图。于此实施例中,首先以射出成型的方式成型一载件本体215,其中载
件本体215包含至少一接触体225、至少一通孔235,以及至少一非平面表面
245。接着在非平面表面245喷镀一导电层255,最后再以蚀刻方式或剥离法
定义出天线205的样态(但本发明并不局限于此)。此外,在以蚀刻方式来定
义天线205的样态时,可依据蚀刻方式的类型(例如,干蚀刻与湿蚀刻)来
使用光罩及/或光阻,以预先定义出天线205的样态。接触体225通过通孔235
而与天线205电连接,非平面表面245在此简化为一平滑曲面,但实际上由
于喷镀与光刻技术并不受限于载件本体的表面几何型态,因此在其他实施例
中,载件本体亦可具有至少二个法向量夹成预定角度的平面组合,或是具有
平面与曲面的组合,例如,载件本体的部份表面可为凹陷状、波浪状、阶梯
状或浮凸状等。请参阅图4,图4为利用本发明形成天线的方法以形成具有
天线的载件的另一实施例的剖面图。载件400包含载件本体415、接触体225、
通孔235、非平面表面445、导电层255,以及天线405。由图可知,以本发
明形成天线的方法可应用出包含有凹陷状或波浪状表面的具有天线的载件。
由于载件400应用的步骤与载件200相似,故相关说明在此便不再赘述。

于一设计变化中,在溅镀导电层255之前,可对载件本体215的非平面
表面245进行预处理以提升工艺品质,举例来说(但本发明并不局限于此),
可针对非平面表面245进行喷砂处理(sandblasting process)以提升导电层255
于非平面表面245的附着性。简言之,只要是以将导电层溅镀于载件本体,
进而定义出天线的样态的方式来形成天线,皆遵循本发明的发明精神。

此外,本发明形成天线的方法亦可应用于载件本体的内表面(即公模面)。
请参阅图5,图5为利用本发明形成天线的方法以形成具有天线的载件的另
一实施例的剖面图。载件500包含载件本体515、接触体225、接触点535、
非平面表面545、导电层255,以及天线505。由于依据本发明形成天线的方
法可应用于载件本体的外表面(即母模面)及/或内表面,而其中上述的外表
面与内表面皆可为非平面表面或曲面,因此本发明形成天线的方法可满足现
今将天线应用在三维曲面的各种需求。换言之,本发明形成天线的方法可应
用于二维、三维或介于二维与三维之间的表面。另外,由于载件500应用的
步骤与载件200、400相似,故相关说明在此便不再赘述。

请再参阅图2,由于接触体225与天线205为电连接,因此当配置一电
元件(例如,集成电路基板(Integrated Circuit Substrate)以及做为信号源的
元件)以使该电元件与接触体225电连接时,会使该电元件与天线205形成
电导通。因此,利用本发明形成天线的方法所应用出具有天线的载件,可以
广泛运用于各种电子商品(例如上述的移动装置),且所形成的天线的频率应
用范围可包含200Hz至20GHz。此外,在喷镀导电层255于载件本体215时,
可同时将通孔235封闭以避免外界湿气或其他影响天线品质的因素侵入载件
200。再者,在其他实施例中,所形成具有天线的载件可能会为了设置其他电
元件而预留通孔,或是因为受限于工艺而留下通孔,因此,在此实施例的另
一变形,在形成天线之后,可使用一接着材质(例如,高分子胶)来封闭所
留下的通孔以确保天线的品质。

请参阅图6,图6为本发明形成天线的方法的另一实施例的流程图。图6
中的步骤基于图1所示的流程,包含有步骤110、步骤120以及步骤630。在
此实施例中,以干蚀刻的方式来于导电层上定义出天线的样态,因此,在步
骤630中,会涂布光阻以及依据光罩来于该导电层蚀刻出天线的样态。请注
意,以上仅用来作范例说明,并不用来作为本发明的限制。换言之,于导电
层上定义天线的样态不一定要使用光阻或光罩,或可应用薄膜来取代之,以
所使用的光刻技术来决定。此外,在本实施例的另一变形,当形成天线之后,
可再对所形成的天线进行电镀、无电镀、喷镀或化学镀等技术以形成一增厚
层来提升导电性。

此外,于另一实施例中,当一天线形成之后,可对所形成的该天线进行
后处理(post-process),举例来说(但本发明并不局限于此),可对所形成的
该天线进行修整、加强硬度及/或提升导电性。于一实施方式中,当形成天线
之后,可再对所形成的天线进行电镀、无电镀、溅镀或化镀等技术以形成一
增厚层来提升天线品质(例如,硬度、耐磨度及/或导电性)。于另一实施方
式中,可使用一激光加工处理(laser processing)技术(例如,激光雕刻(laser 
sculpture/marking)技术)来修整所形成的该天线,此外,值得注意的是,本领
域的技术人员应可理解,上述对所形成的天线进行修补的方式,并不局限于
激光雕刻技术。

除了修整的用途之外,激光加工处理技术也可用来进行切割、熔接及表
面处理,因此,于另一实施例中,当形成天线之后,可对所形成的天线进行
激光加工处理(例如表面处理),以提升所形成的天线的品质。请参阅图7,
图7为本发明形成天线的方法的另一实施例的流程图。图7中的步骤基于第
1图所示的流程,而主要的差别在于图7所示的流程另包含对所形成的天线
进行一激光加工处理(如步骤740所示)。由于本领域的技术人员通过阅读上
述相关说明,应可轻易地了解图7中每一步骤的细节,故进一步的说明在此
便不再赘述。

综合上述,本发明形成天线的方法具有工艺简单、不受限于特殊塑料的
供应问题、可满足于任何几何平面上制作天线的需求,以及使生产成本降低
的优点,故可广泛应用于各种电子商品。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本
领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和
原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护
范围之内。

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1、(10)申请公布号 CN 102842754 A (43)申请公布日 2012.12.26 C N 1 0 2 8 4 2 7 5 4 A *CN102842754A* (21)申请号 201210205410.0 (22)申请日 2012.06.20 100121464 2011.06.20 TW 101121923 2012.06.19 TW H01Q 1/38(2006.01) H01Q 1/50(2006.01) (71)申请人晶钛国际电子股份有限公司 地址中国台湾新北市 (72)发明人杨忠谚 (74)专利代理机构深圳新创友知识产权代理有 限公司 44223 代理人江耀纯 (54) 发。

2、明名称 形成天线的方法 (57) 摘要 本发明公开了一种形成天线的方法,包含成 型载件本体、喷镀导电层于该载件本体上,以及于 该导电层定义出该天线的样态。成型该载件本体 的步骤包含成型具有非平面表面的该载件本体。 于该导电层定义出该天线的样态的步骤包含于该 非平面表面上所喷镀的部分导电层定义出该天线 的部分样态。该形成天线的方法另包含对所形成 的该天线进行电镀或化学镀。本发明形成天线的 方法具有工艺简单、不受限于特殊塑料的供应问 题、可满足于任何几何平面上制作天线的需求,以 及使生产成本降低的优点,故可广泛应用于各种 电子商品。 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 权利要求书1页 说明。

3、书4页 附图4页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书 1 页 说明书 4 页 附图 4 页 1/1页 2 1.一种形成一天线的方法,其特征是,包含: 成型一载件本体; 喷镀一导电层于该载件本体上;以及 于该导电层定义出该天线的样态。 2.如权利要求1所述的方法,其特征是,成型该载件本体的步骤包含有: 成型具有一非平面表面的该载件本体。 3.如权利要求2所述的方法,其特征是,于该导电层定义出该天线的样态的步骤: 于该非平面表面上所喷镀的部分导电层定义出该天线的部分样态。 4.如权利要求2所述的方法,其特征是,该非平面表面为一曲面。 5.如权利要求1所述的方法,。

4、其特征是,该载件本体包含有与所形成的该天线电连接 的至少一接触体。 6.如权利要求5所述的方法,其特征是,该载件本体另包含至少一通孔,使所形成的该 天线穿过该通孔而与该接触体电连接。 7.如权利要求6所述的方法,其特征是,所形成的该天线穿过且封闭该通孔而与该接 触体电连接。 8.如权利要求6所述的方法,其特征是,另包含: 使用一接着材质来封闭该通孔。 9.如权利要求1所述的方法,其特征是,于该导电层定义出该天线的样态的步骤包含: 以干蚀刻的方式来于该导电层上定义出该天线的样态。 10.如权利要求1所述的方法,其特征是,于该导电层定义出天线的样态的步骤包含: 以湿蚀刻的方式来于该导电层上定义出该。

5、天线的样态。 11.如权利要求1所述的方法,其特征是,于该导电层定义出天线的样态的步骤包含: 以剥离法来于该导电层上定义出该天线的样态。 12.如权利要求1所述的方法,其特征是,所形成的该天线的频率应用范围为200Hz至 20GHz。 13.如权利要求1所述的方法,其特征是,另包含: 对所形成的该天线进行电镀、无电镀、喷镀或化学镀。 14.如权利要求1所述的方法,其特征是,另包含: 对所形成之该天线进行修整。 15.如权利要求1所述的方法,其特征是,对所形成的该天线进行修整的步骤包含: 进行一激光加工处理来修整所形成的该天线。 16.如权利要求15所述的方法,其特征是,该激光加工处理使用一激光。

6、雕刻技术。 17.如权利要求1所述之方法,其特征是,另包含: 对所形成之该天线进行一激光加工处理。 权 利 要 求 书CN 102842754 A 1/4页 3 形成天线的方法 技术领域 0001 本发明涉及一种形成天线的方法,更具体地说,涉及运用喷镀与光刻技术来形成 具有天线的载件的方法。 背景技术 0002 由于现今技术的进步以及商品人性化的趋势,许多通信电子产品,例如智能手 机(Smart Phone)、移动电话(Mobile Phone)、笔记本电脑(Notebook)、平板电脑(Tablet Personal Computer)、个人导航机(Personal Navigation D。

7、evice,PND)以及全球定位 系统(Global Position System,GPS)等移动装置,其天线的制造大多应用软性电路板 (Flexible Printed Circuit Board,FPCB)。然而,软性电路板在粘贴于非平面表面时, 特别是在三维(Three-dimensional,3D)的双曲面(hyperboloid),会因为无法完全伏贴而 产生翻翘的情形,所以软性电路板较适合用于介于二维(Two-dimension,2D)平面与三维 (Three-dimension,3D)空间之间(2.5D)的单曲面(Single curved surface)。因此,当天 线需设置。

8、在非平面表面时,大多以镭射直接成型技术(Laser Direct Structure,LDS)来应 用。 0003 镭射直接成型技术以特殊塑料通过射出成型(Injection molding)、镭射光束活 化(Laser Activation)以及化学镀(Chemical plating)等三个步骤来应用出三维双曲面 的天线,除了缩小电子元件的体积,并提升通信品质,以满足现代化电子商品的需求。然而, 镭射直接成型技术具有工艺较为繁琐、机台价格昂贵以及天线载件本体的特殊塑料受限于 少数供应商等缺点,造成生产成本的增加。 发明内容 0004 因此,本发明所要解决的技术问题是提供一种形成天线的方法,。

9、此方法不仅工艺 简单、不受限于特殊塑料的供应问题,更可符合于任何几何平面上制作天线的需求。 0005 依据本发明的一实施例,其公开一种形成一天线的方法,包含:成型一载件本体、 喷镀一导电层于该载件本体上,以及于该导电层定义出该天线的样态。 0006 本发明形成天线的方法具有工艺简单、不受限于特殊塑料的供应问题、可满足于 任何几何平面上制作天线的需求,以及使生产成本降低的优点,故可广泛应用于各种电子 商品。 附图说明 0007 图1为本发明形成天线的方法的一实施例的流程图。 0008 图2为利用本发明形成天线的方法以形成具有天线的载件的一实施例的剖面图。 0009 图3为图2所示的载件的俯视图。。

10、 0010 图4为利用本发明形成天线的方法以形成具有天线的载件的另一实施例的剖面 图。 说 明 书CN 102842754 A 2/4页 4 0011 图5为利用本发明形成天线的方法以形成具有天线的载件的另一实施例的剖面 图。 0012 图6为本发明形成天线的方法的另一实施例的流程图。 0013 图7为本发明形成天线的方法的另一实施例的流程图。 0014 其中,附图标记说明如下: 0015 200、400、500 载件 0016 205、405、505 天线 0017 215、415、515 载件本体 0018 225 接触体 0019 235 通孔 0020 245、445、545 非平面表。

11、面 0021 535 接触点 具体实施方式 0022 请参阅图1,图1为本发明形成天线的方法的一实施例的流程图。在步骤110中, 首先会成型一载件本体,其中该载件本体的原料可为高分子材料或其他塑料所构成;接 着,如步骤120所示,喷镀(Sputter)一导电层于该载件本体上,其中该导电层可为金属、 合金或高分子导电材料等;最后,在步骤130中,于该导电层定义出该天线的样态,其中定 义的方式包含干蚀刻(Dry Etching)、湿蚀刻(Wet Etching)或剥离法(Lift-off)等光刻 (Lithography)技术,换言之,本发明形成天线的方法可适用于干式工艺(dry process)。

12、(例 如,以激光干式工艺来于导电层上定义出天线的样态)以及湿式工艺(wet process),此外, 以上定义的方式仅供说明之需,并非用来做为本发明的限制。 0023 请一并参阅图2与图3,图2为利用本发明形成天线的方法以形成具有天线的载件 200的一实施例的剖面图,以及图3为图2所示的载件200的俯视图。于此实施例中,首先 以射出成型的方式成型一载件本体215,其中载件本体215包含至少一接触体225、至少一 通孔235,以及至少一非平面表面245。接着在非平面表面245喷镀一导电层255,最后再以 蚀刻方式或剥离法定义出天线205的样态(但本发明并不局限于此)。此外,在以蚀刻方式 来定义天。

13、线205的样态时,可依据蚀刻方式的类型(例如,干蚀刻与湿蚀刻)来使用光罩及/ 或光阻,以预先定义出天线205的样态。接触体225通过通孔235而与天线205电连接,非 平面表面245在此简化为一平滑曲面,但实际上由于喷镀与光刻技术并不受限于载件本体 的表面几何型态,因此在其他实施例中,载件本体亦可具有至少二个法向量夹成预定角度 的平面组合,或是具有平面与曲面的组合,例如,载件本体的部份表面可为凹陷状、波浪状、 阶梯状或浮凸状等。请参阅图4,图4为利用本发明形成天线的方法以形成具有天线的载 件的另一实施例的剖面图。载件400包含载件本体415、接触体225、通孔235、非平面表面 445、导电层。

14、255,以及天线405。由图可知,以本发明形成天线的方法可应用出包含有凹陷 状或波浪状表面的具有天线的载件。由于载件400应用的步骤与载件200相似,故相关说 明在此便不再赘述。 0024 于一设计变化中,在溅镀导电层255之前,可对载件本体215的非平面表面245进 行预处理以提升工艺品质,举例来说(但本发明并不局限于此),可针对非平面表面245进行 说 明 书CN 102842754 A 3/4页 5 喷砂处理(sandblasting process)以提升导电层255于非平面表面245的附着性。简言 之,只要是以将导电层溅镀于载件本体,进而定义出天线的样态的方式来形成天线,皆遵循 本发。

15、明的发明精神。 0025 此外,本发明形成天线的方法亦可应用于载件本体的内表面(即公模面)。请参阅 图5,图5为利用本发明形成天线的方法以形成具有天线的载件的另一实施例的剖面图。载 件500包含载件本体515、接触体225、接触点535、非平面表面545、导电层255,以及天线 505。由于依据本发明形成天线的方法可应用于载件本体的外表面(即母模面)及/或内表 面,而其中上述的外表面与内表面皆可为非平面表面或曲面,因此本发明形成天线的方法 可满足现今将天线应用在三维曲面的各种需求。换言之,本发明形成天线的方法可应用于 二维、三维或介于二维与三维之间的表面。另外,由于载件500应用的步骤与载件2。

16、00、400 相似,故相关说明在此便不再赘述。 0026 请再参阅图2,由于接触体225与天线205为电连接,因此当配置一电元件(例如, 集成电路基板(Integrated Circuit Substrate)以及做为信号源的元件)以使该电元件 与接触体225电连接时,会使该电元件与天线205形成电导通。因此,利用本发明形成天线 的方法所应用出具有天线的载件,可以广泛运用于各种电子商品(例如上述的移动装置), 且所形成的天线的频率应用范围可包含200Hz至20GHz。此外,在喷镀导电层255于载件 本体215时,可同时将通孔235封闭以避免外界湿气或其他影响天线品质的因素侵入载件 200。再者。

17、,在其他实施例中,所形成具有天线的载件可能会为了设置其他电元件而预留通 孔,或是因为受限于工艺而留下通孔,因此,在此实施例的另一变形,在形成天线之后,可使 用一接着材质(例如,高分子胶)来封闭所留下的通孔以确保天线的品质。 0027 请参阅图6,图6为本发明形成天线的方法的另一实施例的流程图。图6中的步 骤基于图1所示的流程,包含有步骤110、步骤120以及步骤630。在此实施例中,以干蚀刻 的方式来于导电层上定义出天线的样态,因此,在步骤630中,会涂布光阻以及依据光罩来 于该导电层蚀刻出天线的样态。请注意,以上仅用来作范例说明,并不用来作为本发明的限 制。换言之,于导电层上定义天线的样态不。

18、一定要使用光阻或光罩,或可应用薄膜来取代 之,以所使用的光刻技术来决定。此外,在本实施例的另一变形,当形成天线之后,可再对所 形成的天线进行电镀、无电镀、喷镀或化学镀等技术以形成一增厚层来提升导电性。 0028 此外,于另一实施例中,当一天线形成之后,可对所形成的该天线进行后处理 (post-process),举例来说(但本发明并不局限于此),可对所形成的该天线进行修整、加强 硬度及/或提升导电性。于一实施方式中,当形成天线之后,可再对所形成的天线进行电 镀、无电镀、溅镀或化镀等技术以形成一增厚层来提升天线品质(例如,硬度、耐磨度及/或 导电性)。于另一实施方式中,可使用一激光加工处理(las。

19、er processing)技术(例如,激 光雕刻(laser sculpture/marking)技术)来修整所形成的该天线,此外,值得注意的是, 本领域的技术人员应可理解,上述对所形成的天线进行修补的方式,并不局限于激光雕刻 技术。 0029 除了修整的用途之外,激光加工处理技术也可用来进行切割、熔接及表面处理,因 此,于另一实施例中,当形成天线之后,可对所形成的天线进行激光加工处理(例如表面处 理),以提升所形成的天线的品质。请参阅图7,图7为本发明形成天线的方法的另一实施例 的流程图。图7中的步骤基于第1图所示的流程,而主要的差别在于图7所示的流程另包含 说 明 书CN 1028427。

20、54 A 4/4页 6 对所形成的天线进行一激光加工处理(如步骤740所示)。由于本领域的技术人员通过阅读 上述相关说明,应可轻易地了解图7中每一步骤的细节,故进一步的说明在此便不再赘述。 0030 综合上述,本发明形成天线的方法具有工艺简单、不受限于特殊塑料的供应问题、 可满足于任何几何平面上制作天线的需求,以及使生产成本降低的优点,故可广泛应用于 各种电子商品。 0031 以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技 术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修 改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。 说 明 书CN 102842754 A 1/4页 7 图1 图2 说 明 书 附 图CN 102842754 A 2/4页 8 图3 图4 说 明 书 附 图CN 102842754 A 3/4页 9 图5 图6 说 明 书 附 图CN 102842754 A 4/4页 10 图7 说 明 书 附 图CN 102842754 A 10 。

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