本发明涉及在记录载体的具有第一光学性质的记录区上记录信息图形的记录设备，该记录区与具有第二光学性质的中间区相交替，该记录设备包括光学写装置，该光学装置包括借助写光束扫描记录载体的装置，和调制装置，该调制装置根据有特定占空系数的双价信号将写光束强度在不使扫描位置的记录载体光学性质变化的低光强与使扫描位置的记录载体光学性质有可光学检测变化的高写光强之间进行转换，记录设备还包括光学读装置，该光学读装置包括借助读光束扫描按上述方式形成的信息图形的装置，该读光束受扫描信息图形的调制，该光学读装置还包括一个将调制的读光束转换为相应的读信号的辐射敏感检测器，记录设备还包括一个用于从读信号中导出分析信号的分析电路，该分析信号指示记录区长度与中间区长度的平均比率对于占空系数规定的最佳比率地偏差，记录设备还包括根据分析信号将写光强设定到使记录区长度和中间区长度的比率基本上相应于占空系数规定的最佳比率的值的装置。 一种如本文开始一段描述的记录设备已经公知，特别是在美国专利说明书US 4，225，873中公知。这种先有技术记录设备用于记录平均占空系数为50%的信号。二次谐波信号分量的幅度指示出记录区和中间区长度比率与占空系数规定的最佳比率的偏差情况，在那种情况下的最佳比率为1。写光强根据检测的二次谐波信号分量的幅度调整到一个使得该信号分量基本为零的值。这种写光强控制的缺点在于它不能用于这样的记录过程：其中，记录带中的各记录区宽度经常并不恒定而在变化，例如，在热记录过程中，记录带宽度在该带记录结束时比开始时大。当包含这种宽度变化的记录区的信息图形被读出时，这种宽度变化会导致相当大的附加二次谐波分量。由于这个附加的分量，使得二次谐波信号分量的幅度不再能够用于写光强控制。
本发明的目的在于提供一种如本文起始段所限定的记录设备，其写光强在记录区宽度变化的情况下也可达到最佳。根据本发明，这个目的是由这样的记录设备实现的，该记录设备的特征在于分析电路包括有这样的装置，该装置用以确定读信号的直流分量相对于读信号最小和最大值的位置;该装置还用以产生这样的一种分析信号：该信号指示按此方式确定的直流分量位置是否偏离由占空系数规定的位置。本发明尤其是基于对如下事实的认识：该直流分量相对于读信号的正、负峰值的位置表示出记录区和中间区长度的比率。而且还发现，上述的直流分量位置几乎对记录区宽度变化不敏感。
记录设备的一个实施例由于其简单而非常有吸引力，该实施例的特征在于，其分析电路包括，用以确定读信号直流值和最大值的第一差值的装置，用以确定读信号最小值和直流值的第二差值的装置，以及根据第一和第二差值信号导出分析信号的装置。记录设备的另一实施例的特征在于，分析电路包括：用以消除读信号直流分量的高通滤波器、将高通滤波器滤波后的读信号最大信号值确定为第一差值的第一峰值检测器、将滤波的读信号最小值确定为第二差值的第二峰值检测器、以及产生这样一种信号形式的分析信号的装置，该信号指示检测的最小和最大值之和是否对应于占空系数规定的最佳值。这个实施例有利地利用了这一事实，即消除了直流分量后，负、正峰值之和指示该直流分量相对这些峰值的位置。
记录设备再一个实施例的特征是：分析电路适于输出这样一种信号形式的分析信号，该信号指示第一和第二差值之和与第一和第二差值之差的比率是否基本上对应于占空系数规定的最佳值。这个实施例的优点是，记录载体平均反射率变化的影响和读光束强变化的影响都被消除。如果最佳写光强对应于非零值的峰值和与差的比率，这一点是特别重要的。例如，在记录其峰值的和、差的最佳比率被认为基本上等于0.1的标准EFM信号时，情况就是这样。
记录设备的又一个实施例的特征是，该设备适于形成包括第一子图象和第二子图形的信息图形，第二子图形的空间频率低于第一子图形的空间频率，第一子图形的数量大于第二子图形的数量，这些子图形的尺寸按这样的方式选择：在读出信息图形时，对应于第一子图形的信号分量幅度小于对应于第二子图形的信号分量幅度。这个实施例的优点是，对最佳写光强的很小偏离，产生相当大的直流分量位置偏差。由于记录标准EFM信号时，低空间频率的子图形数量显著地小于较高空间频率子图形数量，因此，在记录标准EFM信号时最佳写光强可非常精确地确定。在记录信息图形的过程中，写光强例如可借助产生一个辅助读光束而调整，该辅助光束隔开一个短距离跟踪写光束。然而这个方法的缺点是要求比较复杂的技术设备。
一种不需使用辅助读光束的实施例的特征是：该设备包括用以产生一个双价测试信号的装置和使对应于该测试信号的测试信息图形被记录在记录载体上可编址的位置的控制装置，该控制装置还适于使测试信息图形被光学读装置读出，设置写光强的装置适于根据在读出测试信息图形过程中得到的分析信号设定最佳写光强。这个实施例有利地利用了这样的事实：最佳写光强可在早于实际的信息记录过程的一个单独调整过程里确定，并使用于记录信息图形的光学扫描装置也能用于确定最佳写光强。如果记录载体具有用于编址目的的预先形成的地址信息，那么，为了确定最佳写光强之目的，以一个尚未被用于确定最佳写光强的记录带居先于用以记录信息图形的该记录带是有利的。实际上，当信息图形记录时，地址信息可能被破坏，从而使得正确读出地址信息不再有保证。于是，定位一个紧随地址信息破坏的记录区的记录区就会有困难。
其他的实施例及其优点将借助参照图1至图13的实例而详细叙述，这些附图之中：
图1 表示通常的光学记录设备原理图，
图2 示出：光学记录过程中辐射束光强的变化、相关的信息图形、以及当该信息图形读出时产生的读信号V1，
图3 和4 说明记录的信息图形与相关的读信号之间的关系以便阐明本发明，
图5 和9 示出根据本发明的记录设备的两个不同的实施例，
图6、7、8和13示出记录设备中使用的分析电路的各种实施例，
图10示出一个用于控制辐射束写光强的控制电路实例，
图11示出一种提供地址信息的可写的记录载体的可能的布局，
图12是用于控制图9示出的记录设备的计算机程序流程图。
图1以原理图形式表示了一个光学记录设备，它包括转台1和驱动电机2，使盘形记录载体4围绕轴线3按箭头5指示的方向旋转。记录载体4包括一个辐射敏感的记录层，当暴露在足够高的强度的辐射中时，该记录层便出现一种可光学检测的变化，例如反射率的变化。这种辐射敏感层例如可包括一层薄金属层，该金属层可借助暴露在较高强度的激光束中而被局部地除去。或者，该记录层可由例如辐射敏感的染料或相变材料之类的其他材料所构成，该材料的结构在辐射作用下可由非晶体为晶体，或反之。光学写头6包括一个例如固态激光器的辐射源，以便产生写光束13。写光束13的光强I可以通常形式按照控制信号Vs而被调制。控制信号Vs和写光束13的光强I的相应变化示于图2。写光束13的光强I在写光强Is和I1之间变化，Is足以使辐射敏感记录载体的光学性质发生可检测的变化，I1则不使其发生任何可检测变化。当记录层受到其光强按此方式调制的光束13扫描时，改变了光学性能的记录区8的信息图形就在记录层内形成，记录区8与未曾改变光学性质的中间区11互相交替。这样形成的信息图形可借助恒定光强的读光束对该图形的扫描而读出，该恒定光强的强度足够低，以免带来可检测的光学性质变化。在扫描过程中，从记录载体反射的读光束按照正在扫描的信息图形进行调制。读光束的调制可借助辐射敏感检测器以常规方式检测，该检测器产生表示光束调制的读信号V1。读信号V1也在图2中示出。读信号V1通过将其与参考电平Vref相比较而转换为双价信号Vd。为实现可靠的转换，希望读信号与参考电平的各交点能严格确定，换言之，读信号V1的“颤动”应最小。如所已知的那样，如果信息图形对称，即如果记录区8的平均长度等于中间区11的平均长度，光学记录读信号的颤动最小。接着产生的问题是：记录区8的长度与写光强Is密切相关。如果写光强过于高，则记录区长度会变得过长，如果写光强过于低，则记录区长度过短。因此需要对写光强作精确调整。在一种确定最佳写光强的常规方法中（该方法可用于记录具有平均占空系数为50%的写信号），写光强被调整到致使读信号V1的二次谐波失真最小。然而，此方法不能应用在下列记录情况：在此，由于例如热效应的原因，致使记录区宽度不恒定而记录带宽度例如从记录带始端到终端是增大的。这种变化的宽度对读信号V1引入附加的失真。这种附加失真产生附加二次谐波分量，后者导致写光强的调整不可靠。一种对该宽度变化不太敏感的最佳写光强确定法将参照图3而叙述。图3a、3b和3c示出了光强变化I、相应的记录区8的信息图形和中间区11以及读信号V1，其中分别是按写光强Is为过低、最佳和过高这三种情况。
图3中，读信号V1在最高电平A1和最低电平A2之间变化。电平DC代表读信号V1的直流电平的大小。如图3所示，读信号V1的直流电平DC在写光强为最佳值时基本上位于电平A1和A2的中间。如写光强过低，直流电平DC将高于电平A1和A2的中间值，如果写光强过高，直流电平DC将低于电平A1和A2的中间值。因此，调整写光强IS使得直流电平DC基本上等于电平A1和A2的中间值，就能获得最佳写光强。
上述确定最佳写光强方法的改进将参照图4a来说明。根据此方法，为确定最佳光强而记录一种信息图形，该图形包括多个子图形40，其中各子图形包括借助具有50%占空系数的写信号进行记录的短记录区8和短中间区11。该信息图形还包括第二子图形41，该子图形41包括也借助具有50%占空系数的写信号进行记录的较长记录区8和较长中间区11。子图形40的数量被选取成显著大于子图形41的数量。图4a示出借助光学读出设备进行读出时所获得的读信号V1。
按这样的方式选择子图形40的尺寸，使得相对应于该子图形40的读信号V1的信号分量幅度基本上小于相应于子图形41的信号分量幅度。这可借助按下列方式选择子图形40尺寸而实现：仅仅该图形的一次谐波落入光学扫描设备的光学截止频率之下。子图形41的尺寸按这样方式选择：至少该图形的一和二次谐波落入上述光学截止频率之下。读信号V1的直流电平DC主要由相应于子图形40的信号分量来规定。读信号V1的最大值A1和最小值A2之差唯一地由相应于子图形41的值来规定。由于写功率Is对子图形40的记录区8长度与中间区长度的比率的影响显著地大于对子图形41的上述长度的比率的影响，因此直流电平DC对图4方法的写电平变化的敏感程度远大于图3方法，在图3的方法中，读信号V1的幅度对于出现在信息图形中所有的子信息图形都一样。所有这些都意味着用图4A的方法确定最佳写功率要精确得多。
除了图4a所示已按最佳写光强进行记录的信息图形之外，类似的信息图形如图4b和4c所示，它们是以过低和过高的写电平分别进行记录的。由图4所将要显示的那样，在最佳写电平情况下的直流电平DC也是基本处于最大信号值（A1）和最小信号值（A2）的中间，而在写电平过低或过高时，直流电平DC分别高于和低于这个中间值。图4示出的信息图形仅仅是包含着由短区（8或11）构成的较大量的子图形和由长区（8或11）构成的较小量的子图形的可能的信息图形中的一个。一种也很适合的子图形是相应于标准EFM信号的图形。这种图形包含其长度对应于至少3位（I3效应）和至多11位（I11效应）的各个区。这种EFM图形的全部效应中约三分之一是I3效应，而仅有4%是I11效应。I3效应的尺寸是这样确定的：仅仅这些效应的基频低于光学读出系统光学截止频率。I11效应的尺寸这样确定：至少其一、二和三次谐波频率低于该光学截止频率。
图5 示出根据本发明的记录设备的第一实施例。该记录设备包括用于产生写光束13的第一半导体激光器51和用于产生读光束53的第二激光器52。写光束13和读光束53借助包括物镜54的光学系统对准记录载体4，该记录载体按箭头55的方向移过光学头50。系统按常规方式这样进行工作：按箭头55所示的方向观看读光束53入射到记录载体上时，落后于写光束13的落点一个短距离，使得读光束53的落点追随写光束13描绘的路径。对于同时产生写光束和独立的读光束的光学系统的详细描述，参见美国专利4，255，873和4，488，277。
写光束13的光强I被控制为一个由信号Vs所决定的数值。为此，记录设备包括一个辐射敏感二极管56，它用以检测由半导体激光器51背面发出的、其光强正比于写光束光强的光束57。于是辐射敏感二极管56产生正比于被检测光强的信号电流。信号Vs和该信号电流在比较器电路58内彼此进行比较。代表此比较结果的信号加到可控电流源59上，该可控电流源59按这样方式产生对于半导体激光器51的控制电流，即是使得二极管56产生的信号电流以及因而写光束13的光强都受到控制而取成由写信号Vs所决定的数值。
记录设备还包括通常的CIRC编码电路60和EFM调制器61的级联布置，用于将提供的信息信号Vi转换为按照CD标准调制的EFM信号Vefm。该信号Vefm被送到可控开关62的控制输入端，该开关的特点是：根据加到其控制输入端的信号的逻辑值将其两个输入端信号is或il中之一转送至输出端。开关62输出端信号作为信号Vs加到比较器电路58上。信号is限定写光强Is，信号il限定光强Il。代表信号Vi的信息图形按下述方式记录。
CIRC编码电路60和EFM调制器61将信号Vi转换为EFM调制的双价信号Vefm。此信号控制开关62，使得信号is和il交替地供给比较器电路58，其结果就使写光束光强在信号is限定的写光强Is和信号il限定的光强Il之间转换，从而使相应于信号Vefm的信息图形记录在记录载体上。一当进行记录之后，这样所形成的信息图形就被读光束53扫描。读光束从记录载体4上反射，反射光束按正被扫描的信息图形进行调制。如此调制的读光束经过半透明镜63投向辐射敏感检测器64，该检测器产生表示此光束调制的读信号V1。读信号V1加到分析电路65，分析电路65就产生表示直流电平DC偏离对应于最佳写光强的值的程度的信号Va。信号Va加到积分电路66。积分电路的输出信号△is加到加法器电路67的输出端。一种对应于恒定光强的信号io加到加法器电路67的另一输入端。代表信号io和信号△is之和的输出信号就作为信号is加到开关62。如果在图5所示的记录设备中写光强Is偏离最佳值，则这种情况将根据分析信号Va表现为非零信号值而得到指示。结果，使得积分电路66输出端上的信号△is发生改变，从而使写光强受控制而接近最佳值。这就导致对写光强Is的连续控制从而使写光强Is基本上保持在最佳值。
图6示出分析电路65的第一实施例，它包括用于确定读信号V1的直流电平DC的低通滤波器70。分析电路65还包括用于确定读信号V1最大值A1的正峰值检测器71和用于确定读信号V1最小值A2的负峰值检测器72。峰值检测器71和72的输出信号加到加法器电路73的非反相输入端上，而低通滤波器70的输出信号在其值放大到2倍后加到加法器电路73的反相输入端，使得加法器电路73的输出信号为：Va＝A1+A2-2Dc，该信号构成分析信号Va，因而指示了信号值DC的位置偏离最大信号值A1和最小信号值A2的中间值的程度。
图7 示出分析电路65的另一实施，其中包括一个比较器90，读信号V1和表示DC值的参考信号分别加到该比较器的非反相和反相输入端。比较器90的输出信号加到积分电路91。读信号V1还加到正峰值检测器92和负峰值检测器93，它们分别检测读信号V1的最大和最小信号电平，并且它们还将指示所述信号电平的信号加到增益因数为1/2的加法器电路94，从而使得加法器电路94输出端的信号电平处在被校正的读信号V1的最小和最大信号电平的正中间。加法器电路94输出端的信号加到差分放大器95的反相输入端，表示DC值的参考信号来自积分电路91而加到差分放大器95的非反相输入端。差分放大器95的输出信号表示两个输入信号之差，该信号按其功能就是分析信号Va。图7所示的分析电路按下述方式工作。由于从积分电路91至比较器90反相输入端的反馈作用，积分电路输出端的参考信号将被调制到使得比较器90输出信号Vo平均值为零的电平，从而使得积分器91输出端的信号值指示读信号V1的直流分量电平。分析信号Va再次指示直流电平位置偏离读信号最小和最大电平中间的程度。
图8 示出分析电路65的第三个实施例，它包括用于消除读信号V1直流分量的高通滤波器80。通过该高通滤波器消除直流分量后的信号V1′加到正峰值检测器81和负峰值检测器82。正峰值检测器81输出端的信号值A1′等于信号值A1减去直流值。负峰值检测器82输出端的信号值A2′等于信号值减去直流值。加法器电路83确定A1′与A2′之和，减法器电路84确定A1′和A2′之差。除法电路85确定加法器83输出端信号值与减法器84输出端信号值之商。此商后文称之为β，它也指示直流电平DC位置偏离信号值A1和A2的中间值的程度。
除法电路的输出信号代表β值，按其功能也就是分析信号Va。经过以A1′和A2′之差作除数的除运算后，实现了下面的结果：半导体激光器53产生的辐射的光强变化或记录载体平均反射率的变化不再对分析信号Va的信号值发生任何影响。它的优点将在下面叙述。
在EFM信号记录过程中，当写光强Is设置到与直流电平DC精确地处于读信号最大和最小值中间相对应的数值时，虽然达到了满意的结果，但是发现这种设置严格地说并非最佳。对于对称的EFM信息图形，β值并不准确为零而接近于0.1。这是由于在相应于具有高空间频率的图形的读信号中，各分量的直流成分的效应小于相应于具有低空间频率的图形的信号分量的直流成分的效应。为了使用于记录EFM调制信号的写光强最佳，就适于将写光强Is设置到使β基本上为0.1的值。对于这种使β为非零值的写光强设置来说，消除写光强变化的影响十分重要，因为如不消除这个影响就很难实现精确调制。
在根据本发明的记录设备的上述实施例中，写光强被连续地校正。这种记录设备的缺点在于：为此必须产生一个辅助读光束，而这是比较困难的技术问题。现在就叙述另一种能减小该缺点的方法。在这个实施例中最佳写光强在先于记录信息信号Vi的一个单独的调制过程内加以确定。在此调制过程中一种测试信息图形按不同的写光强Is记录在记录载体的可编址记录带内。然后，这些测试信息图形被读出，并且借助从读信号导出的分析信号Va确定哪个测试信息图形是以最佳写光强而记录的，从而将记录信息信号Vi过程中的写光强设置到相应于如此找出的测试信息图形的写光强。图9示出按上述方法确定写光强的记录设备的一个实施例。其中，记录设备包括作为驱动装置的电机100和供辐射敏感记录载体4′绕轴线102旋转的转盘101，该记录载体属于这样的类型，在该记录载体上借助于伺服轨迹的轨迹调制记录着地址信息。这种记录载体4′在荷兰专利申请NL-A-8800151、NL-A8900766和NL-A-8901145（PHN12.398、PHN12.887、PHN12，925）中已有全面叙述，其内容综合于此以供参考。这些专利申请中叙述的记录载体具有“颤动的”伺服轨迹，该颤动频率根据包括绝对时间代码ATIP的位置信息信号而进行调制。一个普通类型的光学读/写头105装设在旋转的记录载体4′对面，并借助于定位装置可沿相对记录载体4′的径向移动，该定位装置例如是电机103和轴104。如果需要的话，读/写头105可用于记录和读出信息图形。为此，读/写头105包括用以产生辐射光束107a的半导体激光器，激光束107a的光强受控制电路107的控制而变化。辐射光束107按已知的方法瞄准记录载体4′伺服轨迹。光束107a从记录载体4′部分反射，反射的光束按轨迹颤动进行调制，并且，如果已经记录了信息图形，就按信息图形进行调制。反射光束投向辐射敏感检测器108a，于是从该检测器产生出相应于光束调制的读信号V1″，信号V1″包含由轨迹颤动产生的成分并且在额定扫描速度下具有接近22千赫的频率。借助于控制电机100的电机控制电路108，电机速度受到控制，使得轨迹颤动产生的读信号V1″的成分的频率基本保持在22千赫。读信号V1″还加到检测电路109，该电路从轨迹颤动产生的读信号V1″的成分中导出时间代码ATIP，并将这些代码加到例如包括微计算机110的处理单元。而且，读信号V1″还加到具有高通特性的放大器电路111以便抑制轨迹颤动在读信号V1″中产生的信号成分。按此方式去除了低频成分的读信号V1′加到例如图8所示电路的分析电路65。分析信号Va由分析电路65输出端输出，并且也加到微计算机110上。记录设备还包括普通的CIRC编码电路112，待记录的信号Vi经过由微计算机110控制的开关115后加到该编码电路112上。该CIRC编码电路112与一个常规的EFM调制器113相串联。EMF调制器的输出端连接到控制电路107。控制电路107是可控型的，它与微计算机110相联以便取得控制信号。控制电路107根据从微计算机110接收的控制信号将所产生的光束107a的光强调定为恒定的低光强I1，或者，控制电路107按照从EFM调制器113接收的EFM调制信号使光束光强在低光强I1和写光强Is之间转换。而且，写光强Is可借助微计算机110而调整。图10示出电路107的一个实施例，电路107与图5所示用于控制半导体激光器51的电路有许多相似之处。图10中与图5相对应的元件采取相同的标号。电路107包括双输入端与门115，由EFM调制器113提供的EFM调制信号Vefm加到其中一个输入端，微计算机110供给的控制信号L/S加到另一输入端。如果控制信号L/S取逻辑值“0”，则与门115输出端的逻辑值也为“0”。与门115的输出信号加到开关62的控制输入端，该开关是这样设计的，当控制信号为逻辑“0”，相应于低光强I1的信号I1加到电路58，从而使激光器106产生的光束107a的光强设定为值I1。当控制信号L/S的逻辑值为“1”时，与门115输出端的逻辑值将根据信号EFM而改变，从而使光束107a的光强根据信号Vefm而交替地设定为写光强Is和光强I1。为产生测试信息图形，图9的记录装置包括信号发生器114，它例如产生一个任意的数字信号或者产生一个相应于数字信号值为零（数字抑制）的信号。信号发生器114产生的信号经过开关115加到CIRC编码电路112。开关115为通常的类型，它根据从微计算机110接收的控制信号传输欲记录的信号Vi或者传输信号发生器114的输出信号。
如上所述，测试信息图形最好记录在记录载体4′的可编址位置。如果记录载体4′根据上述荷兰专利申请（PHN 12.887）而构形，其中，伺服轨迹按其次序划分为：用于记录暂时内容表（暂时TOC）的记录区（PMA）、用于存储确定的内容表（TOC）的记录区（导入区）和程序区（PA），那么，测试信息图形最好记录在居先于记录暂时内容表的记录区（PMA）的记录区（PCA）中。图11示意示出了伺服轨迹116的布局。而且图11示出了借助以分、秒和帧表示的绝对时间代码ATIP指示的不同区的起始位置。例如，程序区起点的绝对时间代码ATIP为0.00.00。导入区起点的绝对时间代码ATIP被标志为TLIA。PMA区起点的绝对时间代码ATIP等于TLIA减去0.13.15，而PCA区起点的绝对时间代码等于TLIA减去0.34.00。每个绝对时间代码ATIP标志具有相应于1帧的长度的伺服轨迹段。因此，PCA区可有1560帧应用记录测试图形。由于一个对应于15帧的区对于记录测试图形。由于一个对应于15帧的区对于确定最佳写光强来说足够长，因此PCA区的总长完全足够完成100次调整过程。如果该记录载体用于记录标准CD信号，则这个数目足够执行用于每个欲记录信息信号的一次调整过程。这是因为：根据CD标准，不同信息信号（轨迹）的最大数量是100。对于可能的100个不同的信息信号（轨迹）中的每一个来说，最好有一个具有15帧长度（简称为15帧区）的预定部分保留在PCA区中。
由于在那些已经记录测试信息图形的区中ATIP代码的读出并非总是受保证的，因此这些“15帧”区的使用顺序适于从后向前，即第一个欲使用的“15帧”区处在PCA区的末端（即，靠近与PMA区相邻的边界）。为了记录具有暂时内容表内顺序号n的随后信息信号（轨迹），利用比PCA区末端超前n个“15帧”区的那一个“15帧”区。这样，就可实现：一个用于确定最佳写光强的区总是有一个尚未记录信息图形的较大区在它的前面。这是一个优点，因为在已经记录了信息图形的一个伺服轨迹段内，绝对时间代码ATIP不可能总是可靠地记录，虽然对于确定所要用的“15帧”区的起点来说这是必需的。最佳写光强可按如下方法确定：在记录新信息信号（轨迹）之前，已经记录的信息信号（轨迹）的数量借助PMA区内暂时内容表中的数据来确定。用于记录测试信息图形的“15帧”区地址由这个数导出。然后，将一个测试信息图形按一系列不同的写光强设定值记录在具有指定地址的“15帧”区内，这测试信息图形最好如图4所示的测试图形或者类似的测试图形，例如相应于EFM信号的图形。此后，记录的测试信息图形被读出，并且借助分析信号Va来确定在记录区的哪一部分中该测试信息图形最佳。然后，按照与记录最佳测试信息图形时使用的写光强相应的写光强来记录信息信号。
将用于执行调整过程的合适控制程序装入微计算机110。图12为这种程序的举例的流程图。在程序的S1步，读/写头105在微计算机110控制下定位在记录载体上PMA区对面的位置，借助于由检测电路109检测的读信号V1″内的绝对时间代码ATIP实现编址。在S2步，从PMA区读出暂时内容表，并且，用于记录测试信息图形的“15帧”区地址由关于暂时内容表内原先记录的信息信号数量的信息中导出。在S3步，具有此地址的“15帧”区在微计算机110控制下被确定。在S4步，一旦到达此区，写光强就设定为初始值I。。与记录载体有关的该I。值最好按上述专利申请NL-A-8901145（PHN 12.925）叙述的方式预先记录在记录载体上。这个值然后可在调整过程之前读出。而且，在微计算机110控制下，信号发生器114借助可控开关115联接到CIRC编码电路112，从而，使得由该信号发生器输出信号确定的EFM调制测试信号从EFM调制器113中产生。最后，在S5步中控制信号S/L按这样方式设定控制电路107：使得光束107a的光强根据EFM调制器113输出端的EFM调制信号Vefm在光强设定值Is和写光强I1之间转换，该设定导致产生相应正被记录的EFM信号的测试信息图形。在S6步，检测电路109检测的绝对时间代码ATIP由计算机110读出。在S7步，查明该绝对时间代码是否已针对原先的读出而改变。如果没有，则重复S6步。如果已改变，则在S8步测试正读出的绝对时间码是否指示“15帧”区的终点。如果不是，执行S9步，在此写光强Is增加一个小挡值△1，然后程序转到S6步。如果在S8步发现“15帧”区的终点已到达，则执行S10步，在这步中，控制信号S/L按照使光束107a的光强恒定地保持在光强I1的原则来设定控制电路107。在S11步，确定该“15帧”区的起点位置并读出该区。在S12步，分析信号Va由微计算机110读出。在S13步，检查分析信号Va值是否对应于最佳写光强。如果不对应，则程序转入S12步。如果对应，则由检测电路109检测的绝对时间代码在S14步读出。然后，在S15步，计算出相应于S14步读出的绝对时间代码的最佳写光强。这可例如通过确定最后读出的绝对时间代码与相应于该“15帧”区起点的时间代码之间的差别来实现。借助这个差别就可确定在记录测试信息图形过程中，在达到最后读出的绝对时间代码ATIP之前，写光强初始值I。已递增了多少个△I挡值。这个增加的挡值的数目和初始值I。规定最佳写能量Iopt。最后，在S16步写光强Is设定为最佳值Iopt。
上述的分析电路65的所有实施例都提供了分析信号Va，该分析信号Va规定了读信号直流电平DC相对最佳电平偏差值的幅度和符号。然而，这对图9所示记录设备实施例却并非必需。在这种设备中使用分析电路67的一个实施例：其中逻辑信号指示直流电平DC的位置是否处于最佳电平周围的一个规定的小范围内，这就足以解决问题。图13示出一个实施例，它产生作为分析信号Va的这种逻辑信号。在此实施例中，经过滤波器111已经除去了直流分量的读信号V1′加到正、负峰值检测器130和131，它们分别确定读信号V1′中的最大信号值（A1′）和最小信号值（A2′）。峰值检测器130和131的输出信号分别代表该最大信号值A1′和最小信号值A2′，它们被加至计算电路132，在该电路中按常规方法分别产生代表该最大值A1′和最小值A2′之和以及代表A1′和A2′之差的1/10的两种信号。计算电路132的两种输出信号加到窗口比较器电路133，该比较器电路例如包括型号为LM311的积分电路。窗口比较器电路133仅在（A1′+A2′）-0.1（A1′-A2′）的绝对值小于或等于∑（∑是大于零的一个较小的数值）的情况下给出一个逻辑“1”信号。∑的数值例如这样来选择：如果β＝ (A1′+A2′)/(A1′-A2′) 处在0.09与0.11之间，则逻辑“1”信号被产生。比较器电路133输出端的逻辑信号再被作为分析信号Va用。