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本发明的塑料成形品在塑料基板表面形成有通过等离子CVD法形成的蒸镀膜，该蒸镀膜包含有机硅系蒸镀层和硅氧化物系蒸镀层，所述有机硅系蒸镀层形成于塑料基板1的表面侧、不含氧，所述硅氧化物系蒸镀层形成于有机硅系蒸镀层上。该塑料成形品不仅阻气性良好，还可以有效防止成膜时臭气的产生，且风味保持性优异。

1.  一种塑料成形品，所述塑料成形品包含塑料基板和通过等离子CVD法形成于该塑料基板表面的蒸镀膜，其特征在于，
所述蒸镀膜具有形成于所述塑料基板表面侧的第一蒸镀层和形成于该第一蒸镀层上的第二蒸镀层，
所述第一蒸镀层为不含有氧作为构成元素的有机金属蒸镀层。

2.  根据权利要求1所述的塑料成形品，其中，所述第二蒸镀层为氧化物蒸镀层。

3.  根据权利要求1所述的塑料成形品，其中，所述有机金属蒸镀层由有机硅聚合物构成。

4.  根据权利要求1所述的塑料成形品，其中，所述塑料基板由生物降解性树脂构成。

5.  根据权利要求1所述的塑料成形品，其中，该塑料成形品为容器。

6.  一种成膜方法，所述成膜方法为通过向塑料基板上供给反应性气体的等离子CVD而在塑料基板表面形成蒸镀膜的方法，其中，该方法包括：
通过使用分子中不含氧的有机金属化合物的气体作为反应性气体的等离子CVD而在塑料基板表面形成第一蒸镀层的工序，
然后，通过使用不同的反应性气体的等离子CVD而在第一蒸镀层上形成第二蒸镀层的工序。

7.  根据权利要求6所述的成膜方法，在形成第二蒸镀层的工序中，使用所述有机金属化合物的气体与氧化性气体的混合气体作为反应性气体。

8.  根据权利要求6所述的制造方法，使用有机硅化合物作为所述有机金属化合物。

9.  根据权利要求8所述的制造方法，作为所述有机硅化合物，使用选自六甲基二硅烷、乙烯基三甲基硅烷、甲基硅烷、二甲基硅烷、三甲基硅烷、二乙基硅烷、丙基硅烷、苯基硅烷和硅氮烷所组成的组中的至少一种。

10.  根据权利要求6所述的成膜方法，在形成第二蒸镀层的工序中，使用分子中含氧的有机金属化合物的气体与氧化性气体的混合气体作为反应性气体。

11.  根据权利要求10所述的成膜方法，使用硅氧烷作为分子中含氧的有机金属化合物。

12.  根据权利要求6所述的成膜方法，使用生物降解性树脂基板作为所述塑料基板。

13.  根据权利要求6所述的成膜方法，使用塑料容器作为所述塑料基板。

14.  根据权利要求13所述的成膜方法，所述塑料容器为瓶。

具有通过等离子CVD法形成的蒸镀膜的塑料成形品
技术领域
本发明涉及一种具有通过等离子CVD法形成的蒸镀膜的塑料瓶等塑料成形品及成膜方法。
背景技术
以往，为了改善各种基体的特性，进行在其表面形成通过等离子CVD法形成的蒸镀膜。例如，公知在包装材料领域中，对容器等塑料基材通过等离子CVD法形成蒸镀膜，从而提高气体隔断性。
例如，已知一种塑料容器的制造方法，其特征在于，至少使用有机硅化合物和氧气或具有氧化能力的气体，在利用等离子CVD法在塑料容器的至少一侧上形成阻隔层(蒸镀层)，其中，所述阻隔层含有硅氧化物和至少1种由碳、氢、硅和氧中的至少1种或2种以上的元素构成的化合物，此时，使有机硅化合物的浓度变化(参照专利文献1)。
专利文献1：日本特开2000-255579号公报
发明内容
但是，用专利文献1的方法形成的蒸镀膜虽然对氧气等各种气体的阻隔效果优异，但存在产生臭气的问题，特别是在如聚乳酸那样的生物降解性塑料的表面形成蒸镀膜的情况下，该趋势更大。为此，在塑料容器的内表面形成上述蒸镀膜时，有使容器内容物的风味保持性降低的顾虑，因此正寻求其改善。
因此，本发明的目的在于提供一种塑料成形品及成膜方法，该塑料成形品具有不仅阻气性良好、且还可有效防止臭气产生的通过等离子CVD法形成的蒸镀膜。
根据本发明，提供一种塑料成形品，所述塑料成形品包含塑料基板和通过等离子CVD法形成于该塑料基板表面的蒸镀膜，其特征在于，
所述蒸镀膜具有形成于所述塑料基板表面侧的第一蒸镀层和形成于该第一蒸镀层上的第二蒸镀层，
所述第一蒸镀层为不含有氧作为构成元素的有机金属蒸镀层。
在本发明的塑料成形品中，优选为：
(1)所述第二蒸镀层是氧化物蒸镀层，
(2)所述有机金属蒸镀层由有机硅聚合物构成，
(3)所述塑料基板由生物降解性树脂、特别是聚乳酸构成，
(4)该塑料成形品是容器。
根据本发明，提供一种成膜方法，所述成膜方法为通过向塑料基板上供给反应性气体的等离子CVD而在塑料基板表面形成蒸镀膜的方法，其中，该方法包括：
通过使用分子中不含氧的有机金属化合物的气体作为反应性气体的等离子CVD而在塑料基板表面形成第一蒸镀层的工序，
然后，通过使用不同的反应性气体的等离子CVD而在第一蒸镀层上形成第二蒸镀层的工序。
在本发明的成膜方法中，优选为：
(1)在形成第二蒸镀层的工序中，使用所述有机金属化合物的气体与氧化性气体的混合气体作为反应性气体。
(2)使用有机硅化合物作为所述有机金属化合物，
(3)作为所述有机硅化合物，使用选自六甲基二硅烷、乙烯基三甲基硅烷、甲基硅烷、二甲基硅烷、三甲基硅烷、二乙基硅烷、丙基硅烷、苯基硅烷和硅氮烷所组成的组中的至少一种，
(4)在形成第二蒸镀层的工序中，作为反应性气体，使用分子中含氧的有机金属化合物的气体与氧化性气体的混合气体，
(5)使用硅氧烷作为分子中含氧的有机金属化合物，
(6)使用聚乳酸基板作为所述塑料基板，
(7)使用塑料容器作为所述塑料基板，
(8)所述塑料容器为瓶。
在本发明的塑料成形品中，通过等离子CVD法在塑料基板表面形成的蒸镀膜，由位于基板表面侧的第一蒸镀层和形成于该第一蒸镀层上的第二蒸镀层构成，特别重要的特征是，上述第一蒸镀层是不含氧的有机金属蒸镀层，换言之，该第一蒸镀层是如下这样的：作为反应性气体使用不具有氧原子的有机金属化合物的气体且作为反应性气体不使用氧气，利用等离子CVD法来形成。具有这样结构的蒸镀膜的本发明的塑料成形品中，使密合于塑料基板表面的有机金属蒸镀层(第一蒸镀层)成膜时，由于不存在氧，可以有效避免塑料基板表面的由氧导致的分解或氧化。另外，通过将这样的有机金属蒸镀层设置为第一蒸镀层，在其上使用例如包括氧气的反应性气体使氧化物蒸镀层成膜为第二蒸镀层时，有机金属蒸镀层起到作为保护膜的作用，且可以有效避免成膜时的由氧导致的塑料基板的分解和氧化。因此，本发明的塑料成形品可以有效抑制成膜时臭气的产生和由成膜导致的性能降低，将其作为例如包装容器使用时，可以有效防止由臭气的产生导致容器内容物的风味的减少。另外，通过形成氧化物蒸镀层作为第二蒸镀层，可以确保优异的阻气性。
另外，还已知在塑料基板表面通过蒸镀形成如类金刚石碳(DLC)的无机膜，形成这样的无机膜时，看不到臭气的产生。不过，这样的无机膜与硅氧化物膜不同，存在着色的问题，在要求例如透明性的包装材料等领域，其适用受到限制。另一方面，在本发明的塑料成形品中，作为第一蒸镀层的有机金属蒸镀层没有着色的问题，因此，形成作为第二蒸镀层的以硅氧化物蒸镀层为代表的氧化物蒸镀层的方案，也可以有效适用于要求透明性的包装材料领域。
并且，在本发明中，作为第一蒸镀层设置的有机金属蒸镀层，由于不含氧而挠性优异。因此，可确保蒸镀膜与塑料基板表面之间的高密合性，有效避免剥离和裂纹的发生等，并可以充分发挥形成于有机蒸镀金属层上的第二蒸镀层的特性，例如，在将氧化物蒸镀层设为第二蒸镀层时，可以稳定发挥高的阻气性。
附图说明
图1表示本发明的塑料成形品中蒸镀膜的层结构的代表例的截面图。
具体实施方式
参照图1，本发明的塑料成形品包含塑料基板1和形成于其表面的蒸镀膜3，另外，蒸镀膜3由形成于塑料基板1的表面侧的第一蒸镀层3a和形成于其上的第二蒸镀层3b构成。另外，在图1的例子中，仅在塑料基板1的一侧表面形成有蒸镀膜3，当然，这样的蒸镀膜3也可以形成于塑料基板1的两面。
(塑料基板1)
在本发明中，作为应形成蒸镀膜3的塑料基板1，由其自身公知的热塑性树脂形成，例如由下述物质形成：低密度聚乙烯、高密度聚乙烯、聚丙烯、聚1-丁烯、聚(4-甲基)-1-戊烯、或者乙烯、丙烯、1-丁烯、4-甲基-1-戊烯等α-烯烃之间的无规或嵌段共聚物等聚烯烃，环状烯烃共聚物，乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-乙烯基醇共聚物、乙烯-氯乙烯共聚物、聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、氯乙烯-偏氯乙烯共聚物、聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯等乙烯系树脂，聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物、ABS、α-甲基苯乙烯-苯乙烯共聚物等苯乙烯系树脂，尼龙6、尼龙6-6、尼龙6-10、尼龙11、尼龙12等聚酰胺，聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚羟基丁酸酯(PHB)、3-羟基丁酸酯与3-羟基戊酸酯的无规共聚物(PHBHV)、3-羟基丁酸酯与3-羟基己酸酯的无规共聚物(PHBH)、聚(ε-己内酯)(PCL)、聚琥珀酸亚乙酯、聚琥珀酸亚丁酯(PBS)、聚琥珀酸亚丁酯-己二酸酯(PBAS)、聚对苯二甲酸乙二酯-己二酸酯(PETA)、聚对苯二甲酸丁二酯-己二酸酯(PBTA)等聚酯，聚碳酸酯，聚苯醚，聚乳酸(PLA)、聚乙醇酸(PGA)、乳酸-乙醇酸共聚物、醋酸纤维素等生物降解性树脂，及它们的混合物；等。
本发明中，使用由聚乳酸等生物降解性塑料构成的塑料基板1时，表现了最显著的效果。即，原因在于，在这样的生物降解性塑料基板上形成蒸镀膜时，臭气产生是最明显的，但本发明中使用这样的生物降解性塑料的情况下也可可靠地防止臭气产生。
塑料基板1的形态没有特别限制，可以是薄膜或薄片，还可以是瓶、杯、管等容器和其他的成形品的形状，可以是根据其用途具有适当形状的容器。当然，其成形方法等也没有限制，如双轴拉伸吹塑成形等。
另外，塑料基板1也可以是将上述热塑性树脂(优选烯烃系树脂)作为内外层、且在这些内外层之间具有氧吸收性层的阻气性的多层结构物。
(蒸镀膜3)
—第一蒸镀层3a—
本发明中，在蒸镀膜3中，形成于塑料基板1的表面的第一蒸镀层3a是不含氧的有机金属蒸镀层，是通过使用不含氧原子的有机金属化合物的气体作为反应气体并完全不使用氧气来进行等离子CVD而形成的层。即，由于在完全不存在或不产生氧的状态下进行成膜，所以可以可靠地抑制该成膜工序中的塑料基板1因氧导致的分解或氧化，可以可靠地避免臭气的发生和塑料基板1的性能降低。另外，该有机金属蒸镀层3a大量含有金属元素和碳元素，其结果是挠性提高，对塑料基板1的密合性也优异。
作为这种有机金属蒸镀层3a的形成中使用的有机金属化合物，只要是不含氧、且可通过在不存在氧的状态下的等离子反应而形成有机金属聚合膜的物质，就没有特别限制，例如，可以例示三烷基铝等有机铝化合物、四烷基钛等有机钛化合物、各种有机硅化合物等，尤其是从成膜性等的观点考虑，优选使用有机硅化合物。
作为这种不含氧原子的有机硅化合物的例子，其并没有限定，可以列举出六甲基二硅烷、乙烯基三甲基硅烷、甲基硅烷、二甲基硅烷、三甲基硅烷、乙基三甲基硅烷、三甲基乙烯基硅烷、二乙基硅烷、丙基硅烷、苯基硅烷、二甲基苯基硅烷等硅烷化合物和硅氮烷等。这种有机硅化合物可以单独使用，也可以并用2种以上。
另外，在有机金属蒸镀层3a的成膜时，如先前所述，不使用氧气等氧化性气体，但为了调整反应气体的浓度等，可以与上述有机金属化合物的气体一起适当使用氩气或氦气等惰性气体作为载气。
另外，在本发明中，如上所述的有机金属蒸镀层3a，其厚度优选为塑料基板1的表面粗糙度(Ra)以上，特别优选该表面粗糙度(Ra)+5nm以上。若该厚度比塑料基板1的表面粗糙度薄，则以下所述的第二蒸镀层3b的成膜工序中，该有机金属蒸镀层3a作为保护膜的功能不充分，其结果是容易产生臭气的发生和塑料基板1的性能低下等。另外，由于通常塑料基板1的表面粗糙度(Ra)有界限，所以通常只要有机金属蒸镀层3a的厚度为0.1nm以上、尤其是0.5nm以上，就可以满足上述条件。进而，即使有机金属蒸镀层3a厚度形成较厚在需要以上，也没有更多的效果，反而在成本上是不利的，因此，有机金属蒸镀层3a的厚度将在上述范围内作为条件，优选50nm以下的范围。
另外，塑料基板1的表面粗糙度(Ra)是以JIS B 0601-1994规定的算术平均粗糙度(十点平均粗糙度)。
—第二蒸镀层3b—
本发明中，形成于上述有机金属蒸镀层3a上的第二蒸镀层3b，可以是根据塑料成形品(基板1)的用途具有适当特性的层，可以是用于提高阻气性的氧化物蒸镀层，还可以是用于提高耐水性等的烃系蒸镀层。
氧化物蒸镀层是通过将有机金属化合物的气体与氧化性气体一起作为反应气体使用的等离子CVD来形成的层。
作为这种氧化物蒸镀层形成中使用的有机金属化合物，可以使用具有氧原子的物质和不具有氧原子的物质的任一种。作为不具有氧原子的有机金属化合物的例子，可以举例有机金属蒸镀层3a的形成中使用的物质，另外，作为具有氧原子的有机金属化合物的例子，可以列举出烷氧基钛等有机钛化合物、硅氧烷化合物例如甲基三乙氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷等有机硅烷化合物，八甲基环四硅氧烷、1，1，3，3-四甲基二硅氧烷、六甲基二硅氧烷等有机硅氧烷化合物等。这些有机金属化合物可以单独使用，也可以2种以上并用。
另外，在本发明中，在成膜作为第二蒸镀层3b的氧化物蒸镀层的过程中，可以使用成膜有机金属蒸镀层3a过程中所用的反应气体，从成膜工序简便的观点考虑，可以优选使用在有机金属蒸镀层3a的成膜中使用的不含氧原子的有机金属化合物。
另外，作为氧化物蒸镀层成膜中使用的氧化性气体，可以使用氧气或NO_x。当然，在这样的成膜氧化物蒸镀层的工序中，也可以将前述的惰性气体适当地作为载气使用。
本发明中，该氧化物蒸镀层理想的是具有MO_x(M：有机金属化合物所具有的金属原子)的组成，在该膜中，也可以含有源自有机金属化合物的有机基团的碳(C)成分。例如，通过在有机金属蒸镀层3a(第一蒸镀层)侧的区域较多分布碳(C)成分，可以提高与有机金属蒸镀层3a的密合性，另外，通过使表面侧区域较多分布碳(C)成分，从而可提高耐水性。通常，以金属(M)、氧(O)和碳(C)这三元素为基准，在确保优异的阻气性方面，优选以4nm以上的厚度形成碳(C)浓度为5％以下的区域。另外，在提高耐水性、抑制金属(M)向水中溶出方面，优选以上述三元素为基准，在外表面侧(与塑料基板1相反的表面侧)以0.2nm以上的厚度形成碳(C)浓度为15原子％以上的区域。
另外，氧化物蒸镀层由于其厚度越厚越显示高的阻气性，所述根据用途，设定为显示目标阻气性那样的厚度。通常在容器的领域，特别是由聚乳酸等生物降解性树脂构成的塑料容器(尤其是瓶)等要求特别高的阻气性，因此，其厚度可以设定在5nm以上，特别是可以设定在10～50nm左右的范围。
另外，烃系蒸镀层作为所谓的DLC(类金刚石碳)是公知的，所述层通过使用各种烃气体作为反应性气体的等离子CVD来成膜。作为可用作反应性气体的烃，并没有特别限制，从气化容易的观点出发，优选不饱和脂肪族烃和芳香族烃，具体地，作为不饱和脂肪族烃，可以列举出，乙烯、丙烯、丁烯、戊烯等烯烃类，乙炔、甲基乙炔等炔烃类，丁二烯、戊二烯等二烯烃类，环戊烯、环己烯等环烯烃类，作为芳香族烃，可以列举出苯、甲苯、二甲苯、茚、萘、菲等，优选不饱和脂肪族烃，特别优选乙烯、乙炔。
这种烃系蒸镀层虽然存在着色的问题，但具有耐水性优异的特性，因此，在不要求透明性而特别要求耐水性的用途中适用塑料成形品的情况下，在第一蒸镀层3a上以适宜的厚度设置第二蒸镀层3b。
另外，在本发明中，还可以由前述的氧化物蒸镀层和烃系蒸镀层形成第二蒸镀层3b。此时，优选在第一蒸镀层3a上形成氧化物蒸镀层，进一步优选在其上形成烃系蒸镀层，由此，不仅可以确保优异的阻气性和耐水性，而且也可以可靠地防止金属成分从氧化物蒸镀层溶出。
<蒸镀>
本发明中，利用等离子CVD的蒸镀膜3的形成，除了使用前述反应气体以外，可以使用其本身公知的方法，例如通过利用由微波和高频波的辉光放电的等离子CVD，可以成膜上述第一蒸镀层3a和第二蒸镀层3b。
具体地，可在保持为规定真空度的腔室(chamber)内配置应成膜的塑料基板1，通过向该基板1的成膜面侧供给规定的反应气体，并且以规定的功率供给微波，从而成膜。在高频波的情况下，可将上述基板1保持在一对电极之间，与上述同样，通过边供给反应气体、边以规定的功率施加高频波，从而成膜。
因此，首先使用不含氧的有机金属化合物的气体作为反应气体，边供给该反应气体和根据需要的载气、边进行通过等离子CVD的成膜，从而形成第一蒸镀层(有机金属蒸镀层)3a，然后，边供给前述反应性气体和根据需要的载气、边进行通过等离子CVD的成膜，从而形成第二蒸镀层3b(氧化物蒸镀层或烃系蒸镀层)即可。
并且，形成作为第二蒸镀层3b的氧化物蒸镀层时，如先前所述将氧气等氧化性气体与不含氧的有机金属化合物的气体(例如第一蒸镀层3a的成膜工序中使用的有机金属化合物的气体)或分子中含氧的有机金属化合物的气体作为反应性气体使用。
另外，形成氧化物蒸镀层时，通过提高辉光放电功率，从而降低膜中的碳浓度，并且，通过提高氧气等氧化性气体的浓度，可以提高膜中的氧浓度。因此，利用此可以调整膜中碳浓度和氧浓度，或者可以在厚度方向形成浓度梯度。
进而，在烃系蒸镀层的情形中，与氧化物蒸镀层相比可以以比较低的辉光放电功率成膜。
另外，上述第一蒸镀层3a和第二蒸镀层3b的厚度可根据成膜时间来调整。
这样形成的本发明的塑料成形品，因为形成有作为第一蒸镀层3a的有机金属蒸镀层，所以可以防止成膜时臭气的产生或成膜导致的塑料基板1的性能降低，特别是在塑料容器中适用本发明时，可有效避免容器内容物的风味的下降。另外，形成了作为第二蒸镀层3b的氧化物蒸镀层的成形品，对氧气等气体的阻隔性优异，这样的塑料成形品特别优选适用于瓶状这样的塑料容器，最优选的是蒸镀膜3形成于容器的内表面。
实施例
用以下的例子说明本发明，但本发明从任何意义上来说都不限定于以下的例子。
(实验方法)
将由作为生物降解性树脂的聚乳酸(PLA)形成的容器(容器内表面的表面粗糙度Ra＝5nm、透氧量0.5cc/瓶/天)设置于腔室内后，将容器内外进行真空排气，并在蒸镀时导入必要的反应性气体后，达到规定的压力时，导入2.45GHz的微波并进行等离子蒸镀，蒸镀工序中连续进行形成由有机硅聚合膜形成的第一蒸镀层以及形成由氧化硅膜或烃系蒸镀膜形成的第二蒸镀层。
另外，容器的表面粗糙度Ra是根据JIS B0601-1994使用表面粗糙度计AFM(Digital Instruments公司制造的Nano ScopeIII)进行测定，并以算术平均粗糙度表示。
以下的实施例1～4和比较例中，第二蒸镀层的形成中使用六甲基二硅氧烷(HMDSO)与氧气的混合气体(混合容积比＝1:10)作为反应性气体，第一蒸镀层的形成中变换了各种反应性气体。
所得蒸镀膜的特性中风味保持性和阻隔性用以下方法进行评价，另外蒸镀膜的厚度用以下方法进行测定。
(风味保持性)
向蒸镀膜形成后的瓶中填充水，在37℃经过4周后由小组讨论的风味保持四分评定法进行实施，评价结果的评分如下。
1：瓶内的水无味。
2：瓶内的水稍微有味。(仔细品味时有区别)
3：瓶内的水有味。(入口的瞬间有区别)
4：瓶内的水相当有味。(明显带味)
(阻隔性)
使用MOCON公司制造的氧气阻隔性试验机OX-TRAN(37℃)测定透氧量，由该透过量评价阻隔性。
(蒸镀膜的厚度)
使用Phillips Co.制造的X射线衍射装置(X’Pert Pro MRD)，利用X射线反射率法测定各蒸镀层的厚度。
(实施例1)
准备三甲基乙烯基硅烷(TMVS)作为不具有氧原子的有机金属化合物。仅使用该TMVS作为反应性气体，以500W功率使微波振荡2秒钟，形成作为第一蒸镀层的有机金属蒸镀层，然后，使用六甲基二硅氧烷(HMDSO)与氧气的混合气体，以微波功率为500W的功率使微波振荡8秒钟，形成成为第二蒸镀层的氧化物蒸镀层。
在所得的蒸镀膜中，有机金属蒸镀层的厚度为8nm，氧化物蒸镀层的厚度为20nm。另外，蒸镀时没有臭气，且风味保持性也良好。氧气阻隔性能为0.03cc/瓶/天，是良好的。这些结果示于表1。
(实施例2)
准备乙基三甲基硅烷(ETMS)作为不具有氧原子的有机金属化合物。仅使用该ETMS作为反应性气体，与实施例1同样操作形成作为第一蒸镀层的有机金属蒸镀层，然后与实施例1完全同样操作形成成为第二蒸镀层的氧化物蒸镀层。
在所得的蒸镀膜中，有机金属蒸镀层的厚度为8nm，氧化物蒸镀层的厚度为20nm。另外，蒸镀时没有臭气，且风味保持性也良好。氧气阻隔性能为0.03cc/瓶/天，是良好的。这些结果示于表1。
(比较例1)
准备六甲基二硅氧烷(HMDSO)作为具有氧原子的有机金属化合物。仅使用该HMDSO作为反应性气体，与实施例1同样操作形成作为第一蒸镀层的有机金属蒸镀层，然后与实施例1完全同样操作形成成为第二蒸镀层的氧化物蒸镀层。
在所得蒸镀膜中，有机金属蒸镀层的厚度为8nm，氧化物蒸镀层的厚度为20nm。另外，蒸镀时产生臭气，且风味保持性也降低。氧气阻隔性能为0.03cc/瓶/天，是良好的。这些结果示于表1。
(实施例3)
准备由聚对苯二甲酸乙二酯(PET)形成的容器(容器内表面的表面粗糙度Ra＝1nm，透氧量0.05cc/瓶/天)。
使用该PET瓶，仅使用TMVS作为反应性气体，以500W功率使微波振荡1秒钟，形成第一蒸镀层(有机金属蒸镀层)，除此以外，与实施例1完全同样操作，形成第二蒸镀层(氧化物蒸镀层)。
在所得蒸镀膜中，有机金属蒸镀层的厚度为3nm，氧化物蒸镀层的厚度为20nm。另外，蒸镀时没有臭气，且风味保持性也良好。氧气阻隔性能为0.002cc/瓶/天，是良好的。这些结果示于表1。
(实施例4)
仅使用TMVS作为反应性气体，以500W功率使微波振荡1秒钟，第一蒸镀层(有机金属蒸镀层)的厚度替换为3nm，除此以外，与实施例1相同，在聚乳酸制容器(内表面表面粗糙度Ra＝5nm)的内表面形成第一蒸镀层(有机金属蒸镀层)和第二蒸镀层(氧化物蒸镀层：厚度20nm)。该结果为，在蒸镀时稍微产生臭气，但没有达到比较例1的程度。另外，风味保持性与实施例1比较稍有降低，但比比较例1要好。
(实施例5)
与实施例1同样操作形成作为第一蒸镀层的有机金属蒸镀层，然后，作为第二蒸镀层使用乙炔气体作为反应性气体并形成烃系蒸镀层(厚30nm)。在所得蒸镀膜中，有机金属蒸镀层的厚度为8nm，氧化物蒸镀层的厚度为20nm。另外，蒸镀时没有臭气，且风味保持性也良好。氧气阻隔性能为0.03cc/瓶/天，是良好的。这些结果示于表1。
表1