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1、(10)申请公布号 CN 102442142 A(43)申请公布日 2012.05.09CN102442142A*CN102442142A*(21)申请号 201010298150.7(22)申请日 2010.09.30B44B 1/00(2006.01)B44B 1/06(2006.01)B44B 3/00(2006.01)B44B 3/06(2006.01)(71)申请人富泰华工业(深圳)有限公司地址 518109 广东省深圳市宝安区观澜街道大三社区富士康观澜科技园B区厂房4栋、6栋、7栋、13栋(I段)申请人鸿海精密工业股份有限公司(72)发明人杨国昌 陈松亚 赵东伟 陈群芳(54) 发。
2、明名称镭射雕刻机台(57) 摘要本发明提供一种镭射雕刻机台,包括一支撑部、一固定于支撑部上的镭射雕刻装置、一控制芯片及一固定于支撑部上的固定结构,该固定结构包括一支撑板及四个滑动连接于支撑板上的四个定位部件、四个分别控制定位部件移动的电机及至少两个不同方向上的测量仪;该支撑板上用于放置一待镭射雕刻的物体于四个定位部件之间,该至少两个测量仪用于分别测量支撑板上所放置的物体于X轴及Y轴方向上偏离支撑板中心的距离数据,并将该距离数据反馈于控制芯片,该控制芯片分析该距离数据,并根据分析的结果控制四个电机来驱动该四个定位部件在支撑板上相互移动,驱使待镭射雕刻的物体被移动至支撑板中心的位置。采用本发明,可。
3、以提高对待镭射雕刻物体的精确定位。(51)Int.Cl.(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请权利要求书 1 页 说明书 4 页 附图 4 页CN 102442156 A 1/1页21.一种镭射雕刻机台,包括一支撑部、一固定于支撑部上的镭射雕刻装置、一控制芯片及一固定于支撑部上的固定结构,其特征在于:该固定结构包括一支撑板及四个滑动连接于支撑板上的四个定位部件、四个分别控制定位部件移动的电机及至少两个不同方向上的测量仪;该支撑板上用于放置一待镭射雕刻的物体于四个定位部件之间,该至少两个测量仪用于分别测量支撑板上所放置的物体于X轴及Y轴方向上偏离支撑板中心的距离数据,并将该距离。
4、数据反馈于控制芯片,该控制芯片分析该距离数据,并根据分析的结果控制四个电机来驱动该四个定位部件在支撑板上相互移动,驱使待镭射雕刻的物体被移动至支撑板中心的位置。2.如权利要求1所述的镭射雕刻机台,其特征在于:该至少两个测量仪为红外线测量仪。3.如权利要求1所述的镭射雕刻机台,其特征在于:该支撑板沿相互垂直的两轴上分别形成有相互垂直但不连通的四个狭槽,每个定位部件包括一定位块、一连接部及一沿连接部延伸远离定位块的延伸部,该连接部穿过该狭槽,将该定位块和延伸部分别置于支撑板的两侧,从而将该定位部件滑动连接于该支撑板。4.如权利要求3所述的镭射雕刻机台,其特征在于:每个延伸部上包括一圆弧形的穿孔,每。
5、个定位部件还包括一转轴及两个限位件,该转轴的一端穿过该穿孔,通过两个限位件将该延伸部转动连接于该转轴上,另外一端固定于该电机上,从而限定该延伸部在电机的作用下,在转轴上来回移动。5.如权利要求1所述的镭射雕刻机台,其特征在于:该固定机构还包括四个支撑部件,该支撑板放置于该四个支撑部件的上方。6.如权利要求5所述的镭射雕刻机台,其特征在于:每个支撑部件上表面包括一收容孔,该收容孔中收容有一移动件,该固定机构还包括一转动部件,该转动部件包括一支撑架及一放置于支撑架上的转动球,该支撑板的中心紧贴该转动球,该镭射雕刻机台还包括一系列输入按键,用于接收用户的输入,该控制芯片根据输入按键所接收到的用户输入。
6、控制该四个支撑部件上的移动件在收容孔中上下移动,从而配合该转动球使得该支撑板及其上待镭射雕刻的物体被旋转到预设的位置。7.如权利要求6所述的镭射雕刻机台,其特征在于:该四个支撑部件为气压顶杆,该控制芯片通过控制气压的变化来驱使该移动件在收容孔中上下移动。权 利 要 求 书CN 102442142 ACN 102442156 A 1/4页3镭射雕刻机台技术领域0001 本发明涉及一种雕刻机台,尤其涉及一种用于镭射时的雕刻机台。背景技术0002 现有技术下的镭射雕刻机台,通常都是首先将待镭射雕刻的物体固定于一定位装置上,接着通过人工的方式来调节镭射雕刻装置的位置使得其对准于待镭射雕刻的物体某一位置。
7、在进行镭射雕刻。然而,人工方式的调节必然会产生一些误差,从而无法满足用户对待镭射雕刻物体精确尺寸的定位要求。发明内容0003 本发明的主要目的在于提供一种镭射雕刻机台,通过机台自动调节待镭射雕刻的物体来提高精确度,从而解决上述的问题。0004 本发明提供一种镭射雕刻机台,包括一支撑部、一固定于支撑部上的镭射雕刻装置、一控制芯片及一固定于支撑部上的固定结构,该固定结构包括一支撑板及四个滑动连接于支撑板上的四个定位部件、四个分别控制定位部件移动的电机及至少两个不同方向上的测量仪;该支撑板上用于放置一待镭射雕刻的物体于四个定位部件之间,该至少两个测量仪用于分别测量支撑板上所放置的物体于X轴及Y轴方向。
8、上偏离支撑板中心的距离数据,并将该距离数据反馈于控制芯片,该控制芯片分析该距离数据,并根据分析的结果控制四个电机来驱动该四个定位部件在支撑板上相互移动,驱使待镭射雕刻的物体被移动至支撑板中心的位置。0005 本发明的镭射雕刻机台,通过一控制芯片控制固定机构来自动调节待镭射雕刻在镭射雕刻机台上的位置,从而提高对待镭射雕刻物体的精确定位。附图说明0006 图1为本发明镭射雕刻机台较佳实施方式的立体视图;0007 图2为本发明镭射雕刻机台省略掉支撑板后的立体视图;0008 图3为本发明镭射雕刻机台的部分放大视图;0009 图4为本发明镭射雕刻机台上的支撑板被旋转预定角度后的状态图。0010 主要元件。
9、符号说明0011 镭射雕刻机台 1支撑部 10镭射雕刻装置 20说 明 书CN 102442142 ACN 102442156 A 2/4页4固定机构 30控制芯片 31支撑板 32定位部件 33电机 34测量仪 35物体 2支撑部件 36收容孔 361移动件 362狭槽 321定位块 331连接部 332延伸部 333穿孔 334转轴 335限位件 336转动部件 37支撑架 371转动球 372输入按键 400012 具体实施方式0013 请参考图1至图3所示,该镭射雕刻机台1包括一支撑部10、一固定于支撑部10上的镭射雕刻装置20、一控制芯片31及一固定于支撑部10上的固定机构30。说 。
10、明 书CN 102442142 ACN 102442156 A 3/4页50014 该固定机构30包括一支撑板32及四个滑动连接于支撑板32上的四个定位部件33、四个分别控制定位部件33移动的电机34及至少两个测量仪35。该支撑板32上用于放置一待镭射雕刻的物体2于四个定位部件33之间。该至少两个测量仪35用于分别测量支撑板32上所放置的物体2于X轴及Y轴方向上偏离支撑板32中心的距离数据,并将该距离数据反馈于控制芯片31。该控制芯片31分析该距离数据,并根据分析的结果控制四个电机34来驱动该四个定位部件33在支撑板32上相互移动,直至该待镭射雕刻的物体2被四个定位部件33移动至支撑板32的中。
11、心。该镭射雕刻机20在待镭射雕刻的物体2被移动至支撑板32的中心时,对该物体2进行镭射雕刻。在本实施方式中,该控制芯片31可根据需要设置的镭射雕刻机台1的任何位置。0015 为了更好理解本发明,以下对本发明于一具体实施方式中各元件的具体结构和运动配合关系进行详细描述。0016 该固定机构30还包括四个支撑部件36,每个支撑部件36上表面包括一收容孔361,该收容孔361中收容有一移动件362。该移动件362在控制芯片31的作用下,可在收容孔361中上下移动。在本实施方式中,该四个支撑部件36为气压顶杆,该控制芯片31通过控制气压的变化来驱使该移动件362在收容孔361中上下移动。0017 该支。
12、撑板32被放置于四个支撑部件36的上方。该支撑板32沿X轴及Y轴方向上分别形成有相互垂直但不连通的四个狭槽321。0018 每个定位部件33包括一定位块331、一连接部332及一沿连接部332延伸远离定位块331的弧形延伸部333。该连接部332穿过该狭槽321,将定位块331及延伸部333分别置于支撑板32的两侧,从而使得该定位部件33滑动连接于该支撑板32上。该延伸部333上包括一圆弧形的穿孔334。每个定位部件33还包括一转轴335及两个限位件336,该转轴335穿过将穿孔334,两个限位件336限定该延伸部333于转轴335上。0019 该四个电机34分别与四个转轴335的另外一端对准。
13、,并且每个转轴335远离延伸部333的一端固定于该电机34上。该电机34在控制芯片31的作用下,可驱使该延伸部333在转轴335上移动,从而控制定位块331在支撑板32上移动。0020 该至少两个测量仪35分别与其中两个相互垂直的定位块331对准,用于测量该支撑板32上所放置的待镭射雕刻的物体2于X轴及Y轴方向上偏离支撑板32中心的距离数据,并将该距离数据反馈于控制芯片31。在本实施方式中,该测量仪35的数量为四个,且该四个测量仪35为红外线测量仪。0021 该固定机构30还包括一转动部件37,该转动部件37包括一支撑架371及一放置于支撑架371上转动球372。该支撑板32的中心紧贴该转动球。
14、372上,并且在四个支撑部件36的配合下,可绕该转动球372转动。0022 当待镭射雕刻的物体2被用户放置于支撑板32上的四个定位块331之间时,四个测量仪35分别测量该物体2于X轴及Y轴正负方向上偏离支撑板32中心的距离数据,并将该距离数据反馈于控制芯片31。该控制芯片31分析该距离数据,并根据分析结果控制该四个电机34分别驱使四个延伸部333在转轴335上移动,从而带动四个定位块331在支撑板32上相对移动,直至该四个定位块331将待镭射雕刻的物体2移动至支撑板32的中心。此时,该四个测量仪35测量该物体2于X轴及Y轴正负方向上偏离支撑板32中心的距离数据为零,并将该数值反馈于控制芯片31。
15、。该控制芯片31分析该数值,并根据分析结果控说 明 书CN 102442142 ACN 102442156 A 4/4页6制该电机34来停止延伸部333的移动,从而该待镭射雕刻的物体2固定于该支撑板32的中心。接着,用于可以根据需要对待镭射雕刻的物体2进行镭射雕刻。0023 如图4所示,当用户需要将待镭射雕刻的物体2旋转至一预设的角度时,首先,根据上述的步骤先将待镭射雕刻的物体2于水平移动至支撑板32的中心。接着用户通过镭射雕刻机台1上的一系列输入按键40输入一指令如旋转的度数、方向等至该控制芯片31,该控制芯片31根据输入的指令控制四个支撑部件36中的移动件362相应的在收容孔361中上下移。
16、动,从而使得该待镭射雕刻的物体2及该支撑板32同时绕着该转动球372相应的旋转到预设的角度。由于该定位块331滑动连接于该支撑板32,所以在支撑板32旋转的过程中,其中两个转轴335将在对应的延伸部333的穿孔334中滑动,另外的两个延伸部333将沿另外两个转轴335移动。说 明 书CN 102442142 ACN 102442156 A 1/4页7图1说 明 书 附 图CN 102442142 ACN 102442156 A 2/4页8图2说 明 书 附 图CN 102442142 ACN 102442156 A 3/4页9图3说 明 书 附 图CN 102442142 ACN 102442156 A 4/4页10图4说 明 书 附 图CN 102442142 A。