用于掩膜板的框架和掩膜板.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201510047911.4

申请日:

2015.01.29

公开号:

CN104611668A

公开日:

2015.05.13

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法律详情:

授权|||实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/04申请日:20150129|||公开

IPC分类号:

C23C14/04; C23C14/24

主分类号:

C23C14/04

申请人:

京东方科技集团股份有限公司

发明人:

马利飞; 李周炫

地址:

100015北京市朝阳区酒仙桥路10号

优先权:

专利代理机构:

北京天昊联合知识产权代理有限公司11112

代理人:

彭瑞欣; 陈源

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内容摘要

本发明公开了一种用于掩膜板的框架和掩膜板,所述框架包括框架本体、以及沿厚度方向贯穿所述框架本体的框架通孔,所述框架本体上形成有用于设置掩膜的第一凹槽,所述第一凹槽具有连续的底面,所述第一凹槽的内侧设置有第二凹槽,所述第二凹槽的底面低于所述第一凹槽的底面,所述第二凹槽用于设置遮挡膜,以使得所述遮挡膜的位置对应于相邻所述掩膜之间的空隙的位置。本发明使掩膜的多条边缘和各个角部均固定在框架上,避免了掩膜边角的悬空状态,从而减少了掩膜的翘边和褶皱不良,提升了掩膜板的品质,提高了蒸镀良率。

权利要求书

权利要求书
1.  一种用于掩膜板的框架,包括框架本体、以及沿厚度方向贯 穿所述框架本体的框架通孔,所述框架本体上形成有用于设置掩膜的 第一凹槽,其特征在于,所述第一凹槽具有连续的底面,所述第一凹 槽的内侧设置有第二凹槽,所述第二凹槽的底面低于所述第一凹槽的 底面,所述第二凹槽用于设置遮挡膜,以使得所述遮挡膜的位置对应 于相邻所述掩膜之间的空隙的位置。

2.  根据权利要求1所述的框架,其特征在于,所述框架还包括 至少一个支撑部,所述支撑部形成在所述第二凹槽上,所述支撑部的 位置对应于相邻所述掩膜之间的空隙的位置,且所述支撑部的上表面 与所述第一凹槽的底面相平齐,以使得所述掩膜的靠近所述空隙的边 缘固定在所述支撑部上。

3.  根据权利要求2所述的框架,其特征在于,所述框架上沿每 个所述空隙的延伸方向设置有一个所述支撑部,所述支撑部上设置有 下凹部,所述下凹部用于容纳所述遮挡膜,并且使所述遮挡膜与所述 支撑部共同遮挡所述空隙。

4.  根据权利要求2所述的框架,其特征在于,所述框架上沿每 个所述空隙的延伸方向设置有两个所述支撑部,两个所述支撑部之间 具有间隔,所述间隔用于容纳所述遮挡膜,并且使所述遮挡膜与所述 支撑部共同遮挡所述空隙。

5.  一种掩膜板,其特征在于,包括权利要求1至4中任意一项 所述的框架、设置在所述第一凹槽中的掩膜、以及设置在所述第二凹 槽中的遮挡膜,所述掩膜的图形包括掩膜通孔,所述掩膜通孔位于所 述框架通孔限定的区域内,所述遮挡膜的位置对应于相邻所述掩膜之 间的空隙的位置。

6.  根据权利要求5所述的掩膜板,其特征在于,所述框架还包 括至少一个支撑部,所述支撑部形成在所述第二凹槽上,所述支撑部 的位置对应于相邻所述掩膜之间的空隙的位置,且所述支撑部的上表 面与所述第一凹槽的底面相平齐,所述掩膜的靠近所述空隙的边缘固 定在所述支撑部上,所述掩膜的其他边缘固定在所述第一凹槽的底面 上。

7.  根据权利要求6所述的掩膜板,其特征在于,所述框架上沿 每个所述空隙的延伸方向设置有一个所述支撑部,所述支撑部上设置 有下凹部,所述遮挡膜的一部分位于所述下凹部中,并且所述遮挡膜 与所述支撑部共同遮挡所述空隙。

8.  根据权利要求6所述的掩膜板,其特征在于,所述框架上沿 每个所述空隙的延伸方向设置有两个所述支撑部,两个所述支撑部之 间具有间隔,所述遮挡膜的一部分位于所述间隔中,并且所述遮挡膜 与所述支撑部共同遮挡所述空隙。

9.  根据权利要求5至8中任意一项所述的掩膜板,其特征在于, 所述框架、所述掩膜和所述遮挡膜均由殷钢或殷钢合金制成,所述掩 膜焊接在所述第一凹槽中,所述遮挡膜焊接在所述第二凹槽中。

10.  根据权利要求7或8所述的掩膜板,其特征在于,所述遮 挡膜的延伸方向与所述空隙的延伸方向垂直。

说明书

说明书用于掩膜板的框架和掩膜板
技术领域
本发明涉及显示面板制造领域,尤其涉及一种用于掩膜板的框 架、以及包括该框架的掩膜板。
背景技术
在半导体制造工艺中,经常需要用到蒸镀技术。以有机发光二 极管(OLED)显示屏的制备为例,需要采用高精度金属掩膜板(Fine  Metal Mask,FMM),将蒸镀材料在其下方加热,使材料向上蒸发 或升华,并透过掩膜板设计好的开口沉积或溅射到待蒸镀基板的表 面,以形成所需要的膜层图案。
图1和图2是现有蒸镀用掩膜板的结构示意图,所述掩膜板通 常包括框架11、掩膜12、遮挡膜13等,掩膜12和遮挡膜13均焊接 在承载它们的框架11上。其中,多个掩膜12需要与框架11实现组 合,即张网,遮挡膜13需要焊接在相邻掩膜12之间的空隙14处, 起到遮挡空隙14的作用,以防止材料从空隙14中蒸发到基板上造成 混色。
在张网过程中,先把遮挡膜13焊接到框架11上,然后再焊接 掩膜12,框架11上会预留放置掩膜12以及遮挡膜13的凹槽,为了 保证整个掩膜板的平整度,框架11上留给遮挡膜13的凹槽会比留给 掩膜12的凹槽深,如图2所示。
通常,掩膜12的厚度非常薄,在图2所示的现有技术中,掩膜 12靠近空隙14的边缘和角部没有框架11的支撑,也没有焊接到框 架11上,这样容易使掩膜12在该处发生翘边、卷曲等不良现象。并 且,在焊接掩膜12时,需要在掩膜12上施加张力,以将掩膜12展 平,同时利用焊接工具进行焊接,如果焊接时张力不合适,还会使掩 膜12发生褶皱,从而使蒸镀良率下降。
发明内容
本发明的目的在于提供一种用于掩膜板的框架和掩膜板,以防 止掩膜边缘处产生翘曲或者褶皱,提高蒸镀良率。
为解决上述技术问题,作为本发明的第一个方面,提供一种用 于掩膜板的框架,包括框架本体、以及沿厚度方向贯穿所述框架本体 的框架通孔,所述框架本体上形成有用于设置掩膜的第一凹槽,所述 第一凹槽具有连续的底面,所述第一凹槽的内侧设置有第二凹槽,所 述第二凹槽的底面低于所述第一凹槽的底面,所述第二凹槽用于设置 遮挡膜,以使得所述遮挡膜的位置对应于相邻所述掩膜之间的空隙的 位置。
优选地,所述框架还包括至少一个支撑部,所述支撑部形成在 所述第二凹槽上,所述支撑部的位置对应于相邻所述掩膜之间的空隙 的位置,且所述支撑部的上表面与所述第一凹槽的底面相平齐,以使 得所述掩膜的靠近所述空隙的边缘固定在所述支撑部上。
优选地,所述框架上沿每个所述空隙的延伸方向设置有一个所 述支撑部,所述支撑部上设置有下凹部,所述下凹部用于容纳所述遮 挡膜,并且使所述遮挡膜与所述支撑部共同遮挡所述空隙。
优选地,所述框架上沿每个所述空隙的延伸方向设置有两个所 述支撑部,两个所述支撑部之间具有间隔,所述间隔用于容纳所述遮 挡膜,并且使所述遮挡膜与所述支撑部共同遮挡所述空隙。
作为本发明的第二个方面,还提供一种掩膜板,所述掩膜板包 括本发明所提供的上述框架、设置在所述第一凹槽中的掩膜、以及设 置在所述第二凹槽中的遮挡膜,所述掩膜的图形包括掩膜通孔,所述 掩膜通孔位于所述框架通孔限定的区域内,所述遮挡膜的位置对应于 相邻所述掩膜之间的空隙的位置。
优选地,所述框架还包括至少一个支撑部,所述支撑部形成在 所述第二凹槽上,所述支撑部的位置对应于相邻所述掩膜之间的空隙 的位置,且所述支撑部的上表面与所述第一凹槽的底面相平齐,所述 掩膜的靠近所述空隙的边缘固定在所述支撑部上,所述掩膜的其他边 缘固定在所述第一凹槽的底面上。
优选地,所述框架上沿每个所述空隙的延伸方向设置有一个所 述支撑部,所述支撑部上设置有下凹部,所述遮挡膜的一部分位于所 述下凹部中,并且所述遮挡膜与所述支撑部共同遮挡所述空隙。
优选地,所述框架上沿每个所述空隙的延伸方向设置有两个所 述支撑部,两个所述支撑部之间具有间隔,所述遮挡膜的一部分位于 所述间隔中,并且所述遮挡膜与所述支撑部共同遮挡所述空隙。
优选地,所述框架、所述掩膜和所述遮挡膜均由殷钢或殷钢合 金制成,所述掩膜焊接在所述第一凹槽中,所述遮挡膜焊接在所述第 二凹槽中。
优选地,所述遮挡膜的延伸方向与所述空隙的延伸方向垂直。
本发明使掩膜的多条边缘和各个角部均固定在框架上,避免了 掩膜边角的悬空状态,从而减少了掩膜的翘边和褶皱不良,提升了掩 膜板的品质,提高了蒸镀良率。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一 部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本发明,但并不构成对本 发明的限制。
图1是现有掩膜板的结构示意图;
图2是图1中沿A-A方向的剖视图;
图3是本发明实施例提供的框架的结构示意图之一;
图4是本发明实施例提供的框架的结构示意图之二;
图5是本发明实施例提供的框架的结构示意图之三;
图6是本发明实施例提供的掩膜板的结构示意图之一;
图7是图6中沿B-B方向的剖视图;
图8是图6中沿C-C方向的剖视图;
图9是本发明实施例提供的掩膜板的结构示意图之二。
在附图中,11:现有技术中的框架;12:掩膜;121:掩膜通孔; 13:遮挡膜;14:空隙;21:本发明中的框架;211:框架本体;212: 框架通孔;213:第一凹槽;214:支撑部;215:第二凹槽;51:下 凹部;52:间隔。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理 解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明,并不 用于限制本发明。
本发明首先提供一种用于掩膜板的框架,如图3所示,框架21 包括框架本体211、以及沿厚度方向贯穿框架本体211的框架通孔 212,框架本体211上形成有用于设置掩膜的第一凹槽213,第一凹 槽213具有连续的底面,第一凹槽213的内侧设置有第二凹槽215, 第二凹槽215的底面低于第一凹槽213的底面,第二凹槽215用于设 置遮挡膜,以使得所述遮挡膜的位置对应于相邻所述掩膜之间的空隙 的位置。
与现有技术相比,本发明使掩膜的多条边缘和各个角部均能够 固定在第一凹槽213上,避免了掩膜边缘的悬空状态,从而减少了掩 膜边角的翘边和褶皱不良,提高了蒸镀良率。
进一步地,如图4所示,框架21还包括至少一个支撑部214, 支撑部214形成在第二凹槽215上,支撑部214的位置对应于相邻所 述掩膜之间的空隙的位置,且支撑部214的上表面与第一凹槽214 的底面相平齐,以使得所述掩膜的靠近所述空隙的边缘固定在支撑部 214上。
在本发明中,支撑部214的设置使得掩膜的各个边缘均能够固 定在框架21上,进一步防止了掩膜边缘的翘边和褶皱不良,提高了 蒸镀良率。
图4是框架21中设置有支撑部214的第一种实施方式,框架21 上沿每个所述空隙的延伸方向设置有一个支撑部214(为了便于理 解,这里以每个框架21承载两个掩膜为例进行说明,两个所述掩膜 之间具有一个空隙,因此图4中示出一个支撑部214),支撑部214 上设置有下凹部51,下凹部51用于容纳所述遮挡膜,并且使所述遮 挡膜与支撑部214共同遮挡所述空隙。
图5是框架21中设置有支撑部214的第二种实施方式,如图5 所示,框架21上沿每个所述空隙的延伸方向设置有两个支撑部214 (为了便于理解,这里以每个框架21承载两个掩膜为例进行说明, 两个所述掩膜之间具有一个空隙,因此图5中示出相对应于该空隙的 两个支撑部214),两个支撑部214之间具有间隔52,间隔52用于 容纳所述遮挡膜,并且使所述遮挡膜与支撑部214共同遮挡所述空 隙。
以上仅是本发明的优选实施方式,在本发明中,对应于相邻掩 膜之间的每个空隙的支撑部214的个数也可以是两个以上,相应地, 遮挡膜的个数也可以是多个,只要能够满足遮挡相邻掩膜之间的空隙 防止蒸镀过程中发生混色即可。
本发明还提供了一种掩膜板,如图6所示,所述掩膜板包括本 发明所提供的上述框架21、设置在第一凹槽213中的掩膜12、以及 设置在第二凹槽215中的遮挡膜13,掩膜12的图形包括掩膜通孔 121,掩膜通孔121位于框架通孔限定的区域内,遮挡膜13的位置对 应于相邻掩膜12之间的空隙14的位置。
图7和图8分别是图6沿B-B和C-C方向的剖视图,从图7和 图8中可以看出,与现有技术相比,本发明中掩膜12的多条边缘和 各个角部均能够固定在框架21上,从而降低了掩膜12的边角发生翘 边和褶皱不良的概率,提升了掩膜板的质量,提高了蒸镀良率。
进一步地,如图9所示,框架21还包括至少一个支撑部214, 支撑部214形成在第二凹槽215上,支撑部214的位置对应于相邻掩 膜12之间的空隙14的位置,且支撑部214的上表面与第一凹槽213 的底面相平齐,掩膜12的靠近空隙14的边缘固定在支撑部214上, 掩膜12的其他边缘固定在第一凹槽213的底面上。
本发明增大了掩膜12与框架21的接触面积,使掩膜12的各条 边缘均能够搭接在框架21上,降低了掩膜12发生翘曲和褶皱的概率, 提升了掩膜板的质量。
相应地,当所述掩膜板采用图4所示的框架时,框架21上沿每 个空隙14的延伸方向设置有一个支撑部214,支撑部214上设置有 下凹部51,遮挡膜13的一部分位于下凹部51中,并且遮挡膜13与 支撑部214共同遮挡空隙14。
当所述掩膜板采用图5所示的框架时,框架21上沿每个空隙14 的延伸方向设置有两个支撑部214,两个支撑部214之间具有间隔52, 遮挡膜13的一部分位于间隔52中,并且遮挡膜13与支撑部214共 同遮挡空隙14。以上两种实施方式最终形成的掩膜板可以参考图9。
优选地,框架21、掩膜12和遮挡膜13均由殷钢或殷钢合金制 成,掩膜12通过焊接的方法设置在第一凹槽213中,遮挡膜13也通 过焊接的方法设置在第二凹槽215中。
通常,掩膜12和遮挡膜13的厚度在几十微米量级,上述掩膜 板的制作流程包括:首先,对遮挡膜13进行张网焊接,一边拉伸一 边将遮挡膜13焊接在第二凹槽215中;然后对掩膜12进行张网焊接, 一边拉伸一边将掩膜12焊接在第一凹槽213中。当掩膜板的框架21 具有支撑部214时,需要将掩膜12的靠近空隙14的边缘焊接在支撑 部214上,以进一步提高掩膜板的焊接质量,防止掩膜12发生卷曲 等不良现象。
为了降低加工制造的难度,遮挡膜13的延伸方向优选与空隙14 的延伸方向垂直,如图9所示。
本发明使掩膜12的各个边角均能够固定在框架21上,从而降 低了掩膜12的边角发生翘曲和褶皱不良的概率,提升了掩膜板的品 质。
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而 采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的 普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做 出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

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本发明公开了一种用于掩膜板的框架和掩膜板,所述框架包括框架本体、以及沿厚度方向贯穿所述框架本体的框架通孔,所述框架本体上形成有用于设置掩膜的第一凹槽,所述第一凹槽具有连续的底面,所述第一凹槽的内侧设置有第二凹槽,所述第二凹槽的底面低于所述第一凹槽的底面,所述第二凹槽用于设置遮挡膜,以使得所述遮挡膜的位置对应于相邻所述掩膜之间的空隙的位置。本发明使掩膜的多条边缘和各个角部均固定在框架上,避免了掩膜边。

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