狭缝喷嘴前端的调整装置和调整方法.pdf

本发明的目的是提供一种狭缝喷嘴调整装置和使用所述调整装置的狭缝喷嘴调整方法，不发生狭缝喷嘴清洗不均匀，而且能够节约清洗液，结构紧凑。开有所定宽度的涂敷液喷出口的狭缝喷嘴前端的调整装置由清洗狭缝喷嘴的浸渍式清洗部、干燥清洗后的喷嘴的干燥部及调整狭缝喷嘴的喷出口的预混合部构成，而且设置在同一装置上。浸渍式清洗部在超过一定时间不使用狭缝喷嘴时兼作干燥防止部，保持浸渍狭缝喷嘴的前端。

权利要求书
1、  一种狭缝喷嘴调整装置，调整开有所定宽度的涂敷液喷出口的狭缝喷嘴前端，其特征在于该装置由清洗狭缝喷嘴的浸渍式清洗部、干燥清洗后的喷嘴的干燥部及调整狭缝喷嘴的喷出口的预混合部构成。

2、  根据权利要求1所述的狭缝喷嘴前端调整装置，其特征在于在邻近上述浸渍式清洗部一侧设计上述干燥部，在另一侧设计上述预混合部，而且上述浸渍式清洗部、干燥部和预混合部设置在同一装置上。

3、  根据权利要求1或2所述的狭缝喷嘴前端调整装置，其特征在于上述浸渍式清洗部在超过一定时间不使用狭缝喷嘴时兼作保持浸渍狭缝喷嘴前端的干燥防止部。

4、  根据权利要求1至3中任何一项所述的狭缝喷嘴前端调整装置，其特征在于如果供给上述浸渍式清洗部的清洗液超过一定量，就流出到相邻的预混合部。

5、  根据权利要求1至4中任何一项所述的狭缝喷嘴前端调整装置，其特征在于上述干燥部可以切换为清洗部，向狭缝喷嘴的前端吹送清洗液进行清洗。

6、  根据权利要求1至5中任何一项所述的狭缝喷嘴前端调整装置，其特征在于上述预混合部具有与循环路径相连的排出口和返回口。

7、  根据权利要求1至6中任何一项所述的狭缝喷嘴前端调整装置，其特征在于通过上述浸渍式清洗部上开口的排出口和预混合部上开口的排出口的升降调整液面。

8、  一种狭缝喷嘴前端调整方法，是使用权利要求1至7中任何一项所述的狭缝喷嘴前端调整装置调整狭缝喷嘴前端，其特征在于上述狭缝喷嘴在涂敷液供给被处理物表面之前在预混合部调整狭缝喷嘴前端。

9、  根据权利要求8所述的狭缝喷嘴前端调整方法，其特征在于上述狭缝喷嘴在经过多次处理或者一定时间之后，在浸渍式清洗部清洗狭缝喷嘴的前端，然后在干燥部干燥狭缝喷嘴的前端，最后在预混合部调整狭缝喷嘴的前端。

说明书狭缝喷嘴前端的调整装置和调整方法
技术领域
本发明涉及调整狭缝喷嘴前端的调整装置和调整方法。
背景技术
以前，为了在半导体晶片或者玻璃基板等板状被处理物表面上涂敷抗蚀液等，从喷嘴向放置在旋转器上的被处理物中心部滴涂敷液，通过旋转器使被处理物旋转产生的离心力使涂敷液向外方扩散，但是在该方法中被处理物表面残留的涂敷液很少，几乎全部飞散了，被浪费了。因此，考虑代替旋转器涂敷，使喷嘴自身开有所定宽度的涂敷液喷出口，通过移动喷嘴在被处理物表面涂敷所定宽度的涂敷液。
如果使用如上所述具有所定宽度的涂敷液喷出口的狭缝喷嘴，虽然不发生涂敷液浪费，而且能够高效地涂敷，但是变宽部分喷嘴前端周边部分涂敷液蔓延量多，如果干燥成为产生异物的原因。因此，必须通过在涂敷之后清洗把喷嘴前端和它周边的涂敷液除去。
因此，记载有如下清洗装置，是清洗开有所定宽度的涂敷液喷出口的狭缝喷嘴的装置，设计有喷嘴放置台，上面形成有与狭缝喷嘴的宽度大致相等的清洗部，所述清洗部上开有与清洗液供给源连接的狭缝和与吸引装置连接的排气孔，从狭缝供给的清洗液溶解附着在喷嘴前端和它周边部分的涂敷液和及其干燥物等，而且把溶解涂敷液成分的清洗液从排气孔排出(参见专利文献1的第2页～第3页和图3)。
而且，记载有如下狭缝喷嘴清洗装置，同时设置狭缝喷嘴的清洗部和清洗液的蓄留部，在把狭缝喷嘴放置在清洗部状态下实质上形成密闭空间，而且，使气体供给管和清洗液供给管邻近清洗部的长度方向一端，气体排出管邻近另一端，从气体供给管供给的气体从气体排出管排出，在清洗部内部形成气流，来自清洗液供给管的清洗液顺着所述气流飞溅到狭缝喷嘴的表面，清洗狭缝喷嘴(参加专利文献2的第2页～第3页和图1)。
而且，记载有如下喷嘴清洗装置，在放置狭缝喷嘴状态下实质上形成密闭空间的清洗部内，沿着长度方向形成有多个清洗液喷出口，对着所述狭缝喷嘴前端，而且，使各个狭缝喷嘴的清洗液喷出口方向与垂直于狭缝喷嘴地方向具有一定角度(65°-75°)角度(参见专利文献3的第3页～第4页和图2)。
专利文献1：3381216号专利公报
专利文献2：平10-308338号发明专利公报
专利文献3：2000-288488号专利公报
因此，上述3381216号专利公报、平10-308338号发明专利公报和2000-288488号专利公报公开的喷嘴清洗装置全部是一边对着喷嘴前端供给清洗液一边流动清洗。在这种情况下存在的问题是不能均匀清洗喷嘴前端，同时需要大量清洗液。
而且，上述喷嘴清洗装置中，清洗完的喷嘴需要用设置在其他地方的干燥器干燥，在整个装置紧凑性方面存在问题。
除了清洗液流动清洗的形式之外，考虑把喷嘴前端浸渍在清洗液中的形式。可是在浸渍式情况下，在浸渍时清洗液从狭缝喷嘴的开口部浸入，涂敷液被稀释，最初液珠扩展时不均匀。
发明内容
本发明就是鉴于上述问题提出的，目的是提供一种狭缝喷嘴调整装置和使用所述调整装置的狭缝喷嘴调整方法，不发生狭缝喷嘴前端清洗不均匀，而且能够节约清洗液，结构紧凑。
解决上述课题的本发明的狭缝喷嘴的调整装置由干燥喷嘴的干燥部、清洗狭缝喷嘴的浸渍式清洗部和调整狭缝喷嘴喷出口的预混合部构成，而且上述干燥部和上述预混合部邻近上述浸渍式清洗部设计，而且设置在同一个装置上。
这样，由于邻近浸渍式清洗部具有干燥部和预混合部，清洗后的狭缝喷嘴前端被物理干燥，能够缩短到开始涂敷之前的时间，能够迅速且有效地调整狭缝喷嘴的前端。
浸渍式清洗狭缝喷嘴能够减少清洗液的使用量，清洗效果好，清洗后的喷嘴前端如果不容易干燥，则到开始涂敷之前需要过长时间，因此本发明邻近浸渍式清洗部设计有干燥部。
本发明能够在清洗狭缝喷嘴之后马上干燥，进行预混合，排出喷嘴前端被稀释的涂敷液，在开始涂敷时形成均匀的涂敷液珠。不限于浸渍式，虽然在清洗喷嘴前端时不能防止从开口部浸入清洗液，但是通过上述结构，能够获得均匀的涂敷液珠。
而且，上述浸渍式清洗部在超过一定时间不使用狭缝喷嘴时，能够保持浸渍狭缝喷嘴的前端，兼作干燥防止部，不需要特别设计干燥防止部，实现了节约空间的效果。
而且，供给上述浸渍式清洗部的清洗液如果超过一定量，就流出到邻近的预混合部，不浪费清洗液，可以再利用。
而且，上述干燥部虽然吹送N2气体干燥狭缝喷嘴的前端，但是可以根据需要向狭缝喷嘴的前端吹送清洗液进行清洗，切换为清洗部。
而且，上述预混合部不仅具有从浸渍式清洗部溢出的清洗液，而且在预混合部设置有与循环路径相连的排出口和返回口，使预混合部内的清洗液通过循环用过滤器进行循环，长久保持清洗液，减少使用量。而且，预混合部设计有从供给箱供给新清洗液的供给口。
而且，最好能够通过上述浸渍式清洗部上开口的排出口和预混合部上开口的排出口的升降调整液面？。
而且，通常每次向浸渍式清洗部供给少量新的清洗液，不断补充清洗液，因此浸渍式清洗部保持一定程度的清洁度。虽然在预混合部清洗蒸溅辊，但是也可以并用蒸溅辊之外的其他物理手段(例如刮浆板)，因此清洗液不必达到浸渍式清洗部的清洁度。虽然在涂敷处理之前必须对被处理物进行预混合，但是喷嘴前端可以在处理多个之后或者经过一定时间之后进行清洗。
而且，使用上述狭缝喷嘴前端调整装置的狭缝喷嘴前端调整方法中，上述狭缝喷嘴最好在向被处理物供给涂敷液之前通过预混合部调整狭缝喷嘴前端。
而且，最好上述狭缝喷嘴经过多次处理之后或者一定时间之后，在浸渍式清洗部清洗狭缝喷嘴的前端，然后在干燥部干燥狭缝喷嘴前端，最后在预混合部调整狭缝喷嘴前端。
发明的技术效果如下：
如上所述，根据本发明，通过具有邻近浸渍式清洗部的干燥部和预混合部，使清洗后的狭缝喷嘴前端物理干燥，使涂敷开始之前的时间缩短，因此能够迅速而且有效地调整狭缝喷嘴的前端。
而且，在狭缝喷嘴清洗之后预混合，排出狭缝喷嘴前端被稀释的涂敷液，能够在开始涂敷时形成均匀的涂敷液珠。
而且，在超过一定时间不使用狭缝喷嘴时浸渍式清洗部兼作保持浸渍狭缝喷嘴前端的干燥防止部，不需要特别设置干燥防止部，能够实现节省空间的效果。
而且，如果供给浸渍式清洗部的清洗液超过一定量就流到邻近的预混合部，不浪费清洗液，实现再利用。
而且，干燥部吹送N2气干燥狭缝喷嘴的前端，能够根据需要向狭缝喷嘴的前端吹送清洗液进行清洗，切换为清洗部。
附图说明
图1是根据本发明的狭缝喷嘴前端调整装置的结构图；
图2是图1中的a-a截面图中预混合部的布管图；
图3中(a)是图2中的b-b截面图，(b)是图2中的c-c截面图；
图4是图1中的d-d截面图中的清洗部的布管图；
图5中(a)是预混合部的其他实施例，(b)是(a)中的e-e截面图。
符号说明
1调整装置  2浸渍式清洗部(兼作干燥防止部)  3预混合部
4用于循环液的过滤器  5溢出部  6蒸溅辊  7刮浆板  8干燥器
9干燥气体供给管(兼作清洗液供给管)  10排气部  (A)浸渍式清洗部上的清洗液供给口  (B)清洗液排出口  (C)预混合部上的清洗液供给口  (D)清洗液排出口  (E)循环路径上的排出口  (F)从循环路径返回的口  (G)从预混合部到费液箱的排出口
具体实施方式
下面根据附图说明本发明的实施例。其中，图1是根据本发明的狭缝喷嘴前端调整装置的结构图，图2是图1中的预混合部的布管图，图3中(a)和(b)分别是图2中的b-b截面图和c-c截面图，图4是图1中的d-d截面图中的清洗部的布管图，图5中(a)是预混合部的其他实施例，(b)是(a)中的e-e截面图。
如图1所示，狭缝喷嘴前端的调整装置1的中间设置有浸渍式清洗部2，所述浸渍式清洗部的底面设置有供给清洗液的供给口(A)和能够调节清洗液液面的排出口(B)(参照图3)。
而且，在调整装置1中设置有邻近浸渍式清洗部2的预混合部3。所述预混合部3的底面设计有供给新清洗液的供给口(C)和排出其费液的排出口(D)；设计有使清洗液循环的排出口(E)和使通过用于循环液的过滤器4净化的清洗液返回的返回口(F)(参照图3)，而且设计有能够调整清洗液液面的排出口(G)(调整排出口的高度实现液面调整)。
而且，在浸渍式清洗部2和预混合部3之间设计有溢出部5，从浸渍式清洗部2溢出的清洗液流入预混合部3再利用。
而且，预混合部3中设置有蒸溅辊6，而且还设计有物理清洗所述蒸溅辊6的刮浆板7。
而且，调整装置1中在浸渍式清洗部2附近设计有干燥狭缝喷嘴的干燥部8。所述干燥部8在两侧设计有干燥气体供给管9，在下方设计有排气部10。
如图4所示，浸渍式清洗部2上开有通常以20cc/min流量供给新清洗液的供给口(A)，开有把费液排出到费液箱的排出口(B)。所述排出口(B)具有通过升降调整液面的功能，不仅用于调整液面，而且在通过浸渍式清洗部2完成狭缝喷嘴的清洗之后排出全部清洗液，把漂浮在液面的异物排出。
而且，如图2所示，预混合部3的底面开有从图中未示出的供给箱供给新清洗液的供给口(C)和全部排出预混合部3内的清洗液的排出口(D)。从浸渍式清洗部2经过溢出部5溢出的清洗液流入预混合部3，被再利用。而且，预混合部3的底部设置有清洗液循环路径，从所述循环路径上的排出口(E)排出的清洗液通过用于循环液的过滤器4过滤异物，再供给返回口(F)。因此，清洗液通过用于循环液的过滤器4能够延长清洗液的使用期间。而且，预混合部3的底面设计有把清洗液排出到费液箱的液面调整用排出口(G)，所述液面调整用排出口(G)能够调整排出口的高度进行液面调整。
而且，如图1至图3所示，在预混合部3中设计有蒸溅辊6和刮浆板7。所述刮浆板7物理清洗附着在蒸溅辊6上的涂敷液。而且，液面调整用排出口(G)调整成刮浆板7没于水中的程度。物理清洗蒸溅辊6不限于刮浆板7，刷子也可以，象气刀这样的强力吹送气体或液体的装置也可以。
这样，在浸渍式清洗部2清洗完狭缝喷嘴之后，在干燥部8从干燥气体供给管9吹送N2气干燥狭缝喷嘴的前端和侧面，最后在预混合部3进行预备喷出，开始在基板上涂敷。通常以20cc/min流量向浸渍式清洗部2供给新清洗液，超过溢出部5的清洗液流入预混合部3，被再利用。
图5(a)是3(a)和(b)的其他实施例，循环液返回口(F)不位于预混合部3的底面，而且位于更靠近蒸溅辊6的位置。通过从该位置供给循环液，可能使附着在蒸溅辊6上的涂敷液通过液流的力量下落。
图5(b)是(a)中的e-e截面图，示出循环液返回口(F)的长度与蒸溅辊6的长度几乎相同。
担心浸渍式清洗装置中一度脱离喷嘴的涂敷液再次附着，本发明中清洗液通常流动，因此一度脱离的涂敷液不会再次附着到喷嘴上。
即，为了使用狭缝喷嘴向被处理基板供给涂敷液时，开始涂敷部分不厚，预先通过预混合部3的蒸溅辊6进行预先喷出，使狭缝喷嘴前端均匀。所述处理必须在涂敷被处理基板时进行。因此在反复供给涂敷液过程中涂敷液附着在狭缝喷嘴的侧面，如果剥落则成为异物。因此，一定期间或者多次供给涂敷液之后，把狭缝喷嘴的前端浸渍在浸渍式清洗部2中，不仅清洗狭缝喷嘴的前端，也清洗狭缝喷嘴的侧面。此时，担心清洗液从狭缝喷嘴的喷出口浸渍到内部，供给涂敷液到狭缝喷嘴的前端附近，在涂敷基板时必须预混合，因此不受清洗液的影响。
以前从喷出口向狭缝喷嘴前端喷射清洗液的清洗类型中，难以从与狭缝喷嘴的长度几乎相同的清洗部上开设的多个喷射口以均匀压力均匀地供给清洗液，发生清洗不均匀。而且由于清洗液是流动的，需要大量清洗液，如果狭缝喷嘴长则清洗部也变长，喷射口也必须增加，加工困难。因此，本发明的浸渍式清洗装置能够节约清洗液，而且清洗装置本身紧凑，成本降低。
而且在浸渍式清洗部2长期不清洗狭缝喷嘴情况下，浸渍式清洗部2可以作为干燥防止部使用。此时，通过浸渍狭缝喷嘴的前端防止狭缝喷嘴干燥。而且，干燥部8通常吹送N2气体干燥狭缝喷嘴的前端，能够根据需要吹送清洗液，切换使用。
产业的应用
本发明的浸渍式清洗装置能够提供缩短开始涂敷之前的时间和结构紧凑的装置，因此在半导体制造工厂等，能够节约清洗液，而且清洗装置本身也结构紧凑，降低成本。