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1、(10)申请公布号 CN 103149796 A(43)申请公布日 2013.06.12CN103149796A*CN103149796A*(21)申请号 201210558404.3(22)申请日 2012.12.0610-2011-0129648 2011.12.06 KRG03F 7/00(2006.01)(71)申请人三星电子株式会社地址韩国京畿道水原市灵通区三星路129(72)发明人赵暎泰 朴银儿 李性勋 李淳源(74)专利代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司 11219代理人刘光明 穆德骏(54) 发明名称纳米压印平版印刷设备和方法(57) 摘要本发明公开纳米压印平版印刷设备和。
2、方法。一种纳米压印平版印刷设备包括印模，该印模包括主体，该主体具有第一表面和第二表面，该第一表面具有要在衬底上压印的图案，并且该第二表面具有至少一个极子和至少一个致动器，该至少一个致动器被配置为向该至少一个极子施加力，以将该主体变形。该设备包括固定级，该固定级被配置为支撑被从印模转印图案的衬底。该设备进一步包括控制器，该控制器被配置为驱动该至少一个致动器以向该至少一个极子施加力，以将该印模变形，并且校正该印模和该衬底之间的对齐误差。(30)优先权数据(51)Int.Cl.权利要求书2页 说明书8页 附图8页(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请权利要求书2页 说明书8页 附图。
3、8页(10)申请公布号 CN 103149796 ACN 103149796 A1/2页21.一种纳米压印平版印刷设备，包括：印模，所述印模包括主体，所述主体具有第一表面和第二表面，所述第一表面具有要在衬底上压印的图案，并且所述第二表面具有至少一个极子和至少一个致动器，所述至少一个致动器被配置为向所述至少一个极子施加力，以将所述主体变形；固定级，所述固定级被配置为支撑被从所述印模转印图案的所述衬底；以及控制器，所述控制器被配置为驱动所述至少一个致动器以向所述至少一个极子施加力以将所述印模变形，并且校正所述印模和所述衬底之间的对齐误差。2.根据权利要求1所述的纳米压印平版印刷设备，其中，所述主体。
4、和所述至少一个极子包括透光材料。3.根据权利要求1所述的纳米压印平版印刷设备，其中，所述至少一个致动器是气动型致动器、液压型致动器、电机驱动型致动器和压电元件中的至少一个。4.根据权利要求1所述的纳米压印平版印刷设备，其中，所述控制器被配置为控制所述至少一个致动器，以产生所述印模的变形水平，以校正所述印模和所述衬底之间的对齐误差。5.一种纳米压印平版印刷方法，所述方法包括：加载印模和衬底；执行第一对齐以调整所述印模和所述衬底的相对位置；通过向在所述印模的主体上设置的至少一个极子施加力以便将所述印模变形来执行第二对齐以校正所述印模和所述衬底之间的对齐误差；对于已经被完成所述第一对齐和所述第二对齐。
5、的所述衬底执行至少一个主处理；以及卸载所述印模和已经被完成所述主处理的所述衬底。6.根据权利要求5所述的纳米压印平版印刷方法，其中，通过向连接到所述至少一个极子的至少一个致动器施加力，在所述主体上设置的图案的变形与所述主体的变形同时发生。7.根据权利要求5所述的纳米压印平版印刷方法，其中，所述对齐误差是由所述印模的一部分和所述衬底的对应部分之间在大小和形状上的不重合引起的局部误差。8.根据权利要求5所述的纳米压印平版印刷方法，其中，所述对齐误差是由所述印模和所述衬底之间在总的大小上的不重合引起的尺度误差。9.根据权利要求5所述的纳米压印平版印刷方法，其中，所述主处理的执行包括：向所述衬底的表面。
6、施加抗蚀剂；通过在所述印模与所述抗蚀剂的接触后向所述印模施加压力来将在所述印模上形成的图案转印到在所述衬底的表面上的所述抗蚀剂；将所述抗蚀剂硬化；以及将所硬化的抗蚀剂从所述衬底分离。10.根据权利要求1所述的纳米压印平版印刷设备，其中，所述至少一个致动器能够从所述至少一个极子分离。11.一种纳米压印平版印刷设备，包括：印模，所述印模包括至少一个极子和至少一个致动器，所述至少一个极子连接到所述至少一个致动器，并且，所述印模包括要在衬底上压印的图案；以及权 利 要 求 书CN 103149796 A2/2页3控制器，所述控制器被配置为驱动连接到所述至少一个极子的所述至少一个致动器，以将所述印模变形。
7、，并且校正所述印模和所述衬底之间的对齐误差。12.根据权利要求11所述的设备，进一步包括：固定级，所述固定级包括所述印模和所述衬底之一；以及可移动级，所述可移动级包括所述印模和所述衬底中的另一个。13.根据权利要求12所述的设备，其中，所述可移动级连接到至少一个位置调整单元，所述至少一个位置调整单元被配置为响应于由所述控制器产生的至少一个控制信号来调整所述印模和所述衬底的相对位置。14.根据权利要求11所述的设备，其中，所述至少一个极子包括贯穿所述印模均匀地分布的多个极子，并且所述至少一个致动器包括多个致动器，所述多个致动器中的每个连接到所述多个极子中的对应的一个。15.根据权利要求14所述的。
8、设备，其中，所述控制器被配置为驱动连接到所述多个极子的所述多个致动器，以将所述印模的仅一部分变形以校正所述对齐误差。16.根据权利要求15所述的设备，其中，通过膨胀和收缩中的至少一个来将所述印模的一部分变形。17.根据权利要求14所述的设备，其中，连接到所述至少一个极子的所述致动器被配置为使得所述印模整体变形以校正所述对齐误差。18.根据权利要求17所述的设备，其中，通过膨胀和收缩中的至少一个来将所述印模整体变形。19.根据权利要求11所述的设备，其中，所述至少一个致动器是气动型致动器、液压型致动器、电机驱动型致动器和压电元件中的至少一个。20.根据权利要求19所述的设备，其中，所述至少一个极。
9、子被配置为透光，并且能够可卸下地插入所述至少一个致动器内。权 利 要 求 书CN 103149796 A1/8页4纳米压印平版印刷设备和方法0001 相关申请的交叉引用0002 本申请要求在2011年12月6日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.2011-0129648的权益，其公开通过引用被包含在此。技术领域0003 至少一个示例实施例涉及纳米压印平版印刷设备和/或纳米压印平版印刷方法。背景技术0004 为了在半导体制造处理中处理衬底的表面以具有期望的图案，使用各种平版印刷技术。传统上，一般使用光刻，其中，使用光刻胶来涂敷衬底的表面，并且，通过使用光蚀刻光刻胶来形成图案。然而，通过光刻形。
10、成的图案的大小被光学衍射限制，并且图案的分辨率与所使用的光线的波长成比例。因此，当半导体元件的集成密度增大时，需要曝光技术，其中，使用短波长的光来形成微观图案。0005 当半导体元件的集成密度增大时，通过光学干涉来改变通过光刻形成的光刻胶图案的物理形状。具体地说，光刻胶图案的临界尺寸(CD)的不均匀的改变变为问题。当光刻胶的CD根据下膜的区域而变化时，使用作为掩模的光刻胶图案来形成的材料层的图案变形，并且因此，限制能够实现的线宽。而且，光刻胶对于在处理期间产生的杂质反应，并且可能被腐蚀，并且因此，可以改变光刻胶图案。光刻胶的腐蚀使得使用作为掩模的光刻胶图案形成的材料层的图案具有与期望的形状不同。
11、的形状。0006 因此，已经调查了下一代平版印刷技术，通过该技术，可以形成具有纳米级线宽的半导体集成电路。这些新一代平版印刷技术包括电子束平版印刷、离子束平版印刷、超紫外线平版印刷、接近X射线平版印刷和纳米压印平版印刷。0007 纳米压印平版印刷涉及一种方法，其中，在衬底上压印在具有较高强度的材料的表面上具有期望图案的印模(例如，模具)，以向衬底转印在印模上的图案。0008 在纳米压印平版印刷中，为了向衬底的期望部分转印图案，印模需要位于在衬底上的正确的位置处，并且因此，印模和衬底的对齐是在确定产品质量中的重要因素。因此，需要用于最小化印模和衬底之间的对齐误差的改进的对齐方法。发明内容0009。
12、 至少一个示例实施例提供了一种具有新的印模结构的纳米压印平版印刷设备。0010 示例实施例的其它方面将部分在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中显而易见，或者可以通过实施示例实施例而了解。0011 根据至少一个示例实施例，一种纳米压印平版印刷设备包括印模，该印模包括主体，该主体具有第一表面和第二表面，该第一表面具有要在衬底上压印的图案，并且该第二表面具有至少一个极子和至少一个致动器，该至少一个致动器被配置为向该至少一个极子施加力，以将该主体变形。该设备包括固定级，该固定级被配置为支撑被从印模转印图案的说 明 书CN 103149796 A2/8页5衬底。该设备进一步包括控制器，该控制器被。
13、配置为驱动该至少一个致动器以向该至少一个极子施加力，以将该印模变形，并且校正该印模和该衬底之间的对齐误差。0012 根据至少一个示例实施例，该主体和该至少一个极子包括透光材料。0013 根据至少一个示例实施例，该至少一个致动器是气动型致动器、液压型致动器、电机驱动型致动器和压电元件中的至少一个。0014 根据至少一个示例实施例，该控制器被配置为控制该至少一个致动器，以产生该印模的变形水平，以校正该印模和该衬底之间的对齐误差。0015 根据至少一个示例实施例，一种纳米压印平版印刷方法包括：加载印模和衬底；执行第一对齐以调整该印模和该衬底的相对位置；通过向在该印模的主体上设置的至少一个极子施加力以。
14、便将该印模变形来执行第二对齐以校正该印模和该衬底之间的对齐误差；对于已经被完成该第一对齐和该第二对齐的该衬底执行至少一个主处理；以及，卸载该印模和已经被完成该主处理的该衬底。0016 根据至少一个示例实施例，通过向连接到该至少一个极子的至少一个致动器施加力，在该主体上设置的图案的变形与该主体的变形同时发生。0017 根据至少一个示例实施例，该对齐误差是由该印模的一部分和该衬底的对应部分之间在大小和形状上的不重合引起的局部误差。0018 根据至少一个示例实施例，该对齐误差是由该印模和该衬底之间在总的大小上的不重合引起的尺度误差。0019 根据至少一个示例实施例，该主处理的执行包括：向该衬底的表面。
15、施加抗蚀剂；通过在该印模与该抗蚀剂的接触后向该印模施加压力来将在该印模上形成的图案转印到在该衬底的表面上的抗蚀剂；将所述抗蚀剂硬化；以及，将该硬化的抗蚀剂从该衬底分离。0020 根据至少一个示例实施例，该至少一个致动器能够从该至少一个极子分离。0021 根据至少一个示例实施例，一种纳米压印平版印刷设备包括：印模，该印模包括至少一个极子和至少一个致动器，该至少一个极子连接到该至少一个致动器，并且，该印模包括要在衬底上压印的图案。该设备进一步包括控制器，该控制器被配置为驱动连接到该至少一个极子的该至少一个致动器，以将该印模变形，并且校正该印模和该衬底之间的对齐误差。0022 根据至少一个示例实施例。
16、，该设备进一步包括：固定级，该固定级包括该印模和该衬底之一；以及，可移动级，该可移动级包括该印模和该衬底中的另一个。0023 根据至少一个示例实施例，该可移动级连接到至少一个位置调整单元，该至少一个位置调整单元被配置为响应于由该控制器产生的至少一个控制信号来调整该印模和该衬底的相对位置。0024 根据至少一个示例实施例，该至少一个极子包括贯穿该印模均匀地分布的多个极子，并且该至少一个致动器包括多个致动器，该多个致动器中的每个连接到该多个极子中的对应的一个。0025 根据至少一个示例实施例，该控制器被配置为驱动连接到该多个极子的该多个致动器，以将该印模的仅一部分变形以校正该对齐误差。0026 根。
17、据至少一个示例实施例，通过膨胀和收缩中的至少一种来将该印模的该一部分变形。说 明 书CN 103149796 A3/8页60027 根据至少一个示例实施例，连接到该至少一个极子的该致动器被配置为使得该印模整体变形以校正该对齐误差。0028 根据至少一个示例实施例，通过膨胀和收缩中的至少一种来将该印模整体变形。0029 根据至少一个示例实施例，该至少一个致动器是气动型致动器、液压型致动器、电机驱动型致动器和压电元件中的至少一个。0030 根据至少一个示例实施例，该至少一个极子被配置为透光，并且能够可卸下地插入该至少一个致动器内。附图说明0031 通过下面结合附图的实施例的说明，示例实施例的这些和。
18、/或其他方面将变得清楚和更容易理解，在附图中：0032 图1图示了根据至少一个示例实施例的纳米压印平版印刷设备；0033 图2(a)至2(c)图示了将在图1中所示的印模的图案转印到衬底的处理；0034 图3(a)和3(b)图示了在图1中所示的纳米压印平版印刷设备的印模的结构；0035 图4图示了其中驱动在图3中所示的致动器以向极子施加力的状态；0036 图5是图示根据至少一个示例实施例的纳米压印平版印刷方法的流程图；0037 图6(a)至6(c)图示了根据至少一个示例实施例的使用纳米压印平版印刷设备的第二对齐的局部对齐；0038 图7(a)至7(c)图示了根据至少一个示例实施例的使用纳米压印平。
19、版印刷设备的第二对齐的局部对齐；0039 图8(a)至8(c)图示了根据至少一个示例实施例的使用纳米压印平版印刷设备的第二对齐的尺度对齐；以及0040 图9(a)至9(c)图示了根据至少一个示例实施例的使用纳米压印平版印刷设备的第二对齐的尺度对齐。具体实施方式0041 通过参考下面的详细说明和附图，将更容易地理解示例实施例。然而，示例实施例可以以许多形式被体现，并且不应当被解释为限于在此给出的那些。而是，这些示例实施例被提供使得本公开将是彻底和完整的。在至少一些示例实施例中，将不具体描述公知装置结构和公知技术，以便避免模糊的解释。0042 可以明白，当元件被称为“连接到”或“耦合到”另一个元件。
20、时，它可以直接在其他元件上、连接到其他元件或耦合到其他元件，或者可以存在介入中间的元件。相似的标号贯穿各处指示相似的元件。在此使用的词语“和/或”包括相关联的列出的项目的一个或多个的任何和全部组合。0043 可以明白，虽然在此可以使用词语第一、第二、第三等来描述各个元件、部件和/或部分，但是这些元件、部件和/或部分不应当被这些词语限制。这些词语仅用于将一个元件、部件和/或部分与另一个元件、部件和/或部分相区别。因此，在不偏离本发明的教导的情况下，下面描述的第一元件、部件和/或部分可以被称为第二元件、部件和/或部分。0044 在此使用的词语仅用于描述特定实施例的目的，并且不意欲是限制性的。在此使。
21、说 明 书CN 103149796 A4/8页7用的单数形式“a”、“an”和“the”意欲也包括复数形式，除非上下文清楚地另外指示。进一步可以明白，词语“包括”和/或“包含”当在本说明书中使用时指定所述部件、步骤、操作和/或元件的存在，但是不排除一个或多个其他部件、步骤、操作、元件和/或其组的存在或增加。0045 除非另外定义，在此使用的所有词语(包括科技术语)具有与这些示例实施例所属的领域内的普通技术人员通常理解者相同的含义。可以进一步明白，诸如在通常使用的词典中定义的那些的词语应当被解释为具有与它们在相关领域的上下文中的含义一致的含义，并且将不以理想化或过度正式的含义来被解释，除非在此明。
22、确地如此定义。0046 为了说明容易，在此使用诸如“下方”、“之下”、“下”、“之上”和“上”等的空间上的相对词语来描述如图所示的一个元件或特征与另一个(些)元件或特征的关系。可以明白，在空间上的相对词语意欲除了在附图中描述的方位之外，还涵盖在使用或运行中的装置的不同方位。例如，如果在附图中的装置被翻转，则被描述为在其他元件或特征“之下”或“下方”的元件然后被定位得在其他元件或特征“之上”。因此，示例性词语“之下”可以涵盖之上和之下的方位。可以以其他方式定位装置(旋转90度或在其他方位)，并且相应地解释在此使用的在空间上的相对描述符。0047 现在详细参考在附图中图示的示例实施例，其中，相似的。
23、附图标号贯穿各处指示相似的元件。0048 图1图示了根据至少一个示例实施例的纳米压印平版印刷设备。如图1中所示，纳米压印平版印刷设备100包括：用于支撑衬底110的固定级120；可移动级140，用于支撑印模130，以便能够转印；X-Y位置调整单元150和Z位置调整单元160，用于调整印模130的位置；以及，控制器170，用于控制纳米压印平版印刷设备100的整体操作。0049 X-Y位置调整单元150通过在X方向或Y方向上移位可移动级140而调整可移动级140在X-Y平面上的位置，并且，Z位置调整单元160通过在Z方向上移位可移动级140来调整可移动级140在Z方向上的位置(即，衬底110和印模。
24、130之间的距离)。响应于来自控制器170的控制信号而操作X-Y位置调整单元150和Z位置调整单元160，并且因此X-Y位置调整单元150和Z位置调整单元160调整可移动级140的位置。因为印模130被固定到可移动级140，所以印模130与可移动级140一起移动。因此，控制器170可以控制可移动级140和印模130的位置。0050 虽然图1将衬底110图示为被固定级120支撑并且将印模130图示为被可移动级140支撑以便能够转印，但是可以由可移动级140支撑衬底110使得能够转印，并且可以由固定级120支撑印模130。0051 图2(a)至2(c)图示了将在图1中所示的印模的图案转印到衬底的处。
25、理。在图2(a)至2(c)中，省略了在图1中所示的纳米压印平版印刷设备100的一些元件，并且因此将参考图1来描述它们。0052 如图2(a)中所示，控制器170驱动X-Y位置调整单元150来改变可移动级140在X-Y平面上的位置，并且因此实现在可移动级140上的印模130和在固定级120上的衬底110之间的第一对齐。0053 如图2(b)中所示，控制器170驱动Z位置调整单元160以将可移动级140在-Z方向上(在由图2(b)的箭头所示的方向上)向衬底110转印，并且因此，使得在印模130上说 明 书CN 103149796 A5/8页8的图案135接触薄膜115，并且向薄膜115按压图案13。
26、5，由此向薄膜115转印图案135的形状。0054 如图2(c)中所示，控制器170驱动Z位置调整单元160以将可移动级140在+Z方向上(在由图2(c)的箭头所示的方向上)转印，并且因此，将印模130从衬底110分离，由此将图案135从薄膜115分离。0055 通过在图2(a)至2(c)中所示的处理，向薄膜115转印包括未按压区域115a和按压区域115b的图案135的形状。0056 如在图2(a)至2(c)中所示，执行第一对齐，其中，在纳米压印平版印刷的转印处理期间调整印模130和衬底110的相对位置。因为第一对齐是其中仅通过移动可移动级140的整体来调整可移动级140相对于固定级120的。
27、相对位置的一般对齐，所以可能需要局部对齐以校正印模130的一部分和衬底110的一部分之间的误差。即，如果仅印模130的一部分和衬底110的一部分之间存在误差，则不校正这样的局部误差，即使移动印模130的整体。而且，如果印模130的大小大于或小于衬底110的大小(即，印模130的尺度与衬底110的尺度不同)，则不校正尺度误差，即使移动了印模130的整体。用于校正局部误差和尺度误差的印模130和衬底110之间的对齐可以以下被称为第二对齐。可以使用视觉系统或光学传感器来检测印模130和衬底110之间的局部和/或尺度误差。0057 印模130和衬底110之间的“对齐”可以指的是在印模130上形成的图案。
28、135和图案135将被转印到的衬底110的对应的区域之间在位置和/或大小上的重合。0058 图3(a)和3(b)图示在图1中所示的纳米压印平版印刷设备的印模的结构。如图3(a)中所示，在印模130的主体302的上表面上树立至少一个极子202，该上表面即与其上形成图案135的主体302的表面(第一表面)相对的主体302的表面(第二表面)，并且，致动器204连接到极子202。致动器204用于向极子202施加力，并且可以是气动型致动器、液压型致动器、电机驱动型致动器或压电元件之一。极子202可以与印模130一体地形成，或者可以分离地制造并且附接或机械地连接到印模130。而且，极子202可以具有柱状或。
29、其他形状，它可以经由通过致动器204的驱动施加的力而将印模130变形。而且，主体302和极子202由透光材料形成，以便容易地透光，诸如紫外(UV)线。当通过致动器204的驱动向极子202施加力时，印模130在向极子202施加的力的方向上变形，并且可以通过印模130的变形来校正印模130和衬底110之间的局部误差和/或尺度误差。致动器204可以被配置来能够从极子202分离，由此减轻(或替代地，防止)当在纳米压印平版印刷处理期间辐射诸如紫外线的光时因为致动器204导致的光的干涉。0059 参考图3(b)，以均匀的间隔贯穿印模130的上表面均匀地分布9个极子202。在此，可以根据印模130的大小和形。
30、状与压印形状来确定极子202的位置和数量以及极子202之间的间隔。例如，当印模130的大小(例如，面积)大时，极子202的数量增大，并且当印模130的大小(例如，面积)小时，极子202的数量减小。而且，根据印模130的期望的变形形状，可以在印模130的中心处安装较小数量的极子202，并且可以在印模130的边缘处安装较大数量的极子202，使得在印模130的边缘处产生较大量的变形。而且，可以在印模130的边缘处安装较小数量的极子202，并且可以在印模130的中心处安装较大数量的极子202，使得在印模130的中心处产生较大量的变形。以这种方式，基于印模130的期望的变形形状来确定极子202的位置和数。
31、量以及极子202之间的间隔。说 明 书CN 103149796 A6/8页90060 图4是图示其中在图3中所示的致动器204被驱动以向极子202施加力的状态的视图。如图4中所示，当驱动致动器204以在由箭头所示的方向上向极子202施加力时，极子202在所施加的力的方向上膨胀或收缩。在此，印模130的膨胀意味着印模130在从印模130的中心向印模130的边缘的方向上的变形，使得印模130的大小(例如，面积)在对应的方向上增大。印模130的收缩意味着印模130在从印模130的边缘向印模130的中心的方向上的变形，使得印模130的面积在对应的方向上减小。而且，致动器204可以被驱动来在Z方向上向印。
32、模130的上表面施加力。而且，如果致动器204被驱动来在每个方向上向印模130的上表面施加力，则可以改变由相应的致动器204施加的力的强度。为了这个目的，可以在极子202和致动器204之间安装力传感器(例如，负荷传感器)，并且，控制器170可以通过反馈来接收由力传感器检测到的力的强度。因此，控制器170驱动致动器204以调整向极子202施加的力的强度。在控制器170向致动器204发送控制信号时，致动器204向控制器170发送力传感器的检测信号。0061 图5是图示根据至少一个示例实施例的纳米压印平版印刷方法的流程图。如图5中所示，加载印模130和衬底110(操作502)。例如，可以将印模130。
33、加载到可移动级140，并且可以将衬底110加载到固定级120。当已经完成印模130和衬底110的加载时，执行第一对齐，其中，调整印模130和衬底110的相对位置(操作504)。在第一对齐中，使用视觉系统或光学传感器检测印模130和衬底110之间的相对位置误差，并且调整印模130的位置以校正这样的误差。0062 当已经完成印模130和衬底110之间的第一对齐时，执行印模130和衬底110之间的第二对齐(操作506)。印模130和衬底110之间的第二对齐用于在调整印模130和衬底110的相对位置的条件下校正印模130和衬底110之间的局部误差和/或尺度误差。即，如果印模130的一部分和衬底110的。
34、一部分之间存在大小和/或形状误差，或者，如果在印模130和衬底110的总的大小(即，尺度)之间有差别，则通过局部对齐或尺度对齐来精确地对齐印模130和衬底110。为了这个目的，根据至少一个示例实施例，通过下述方式来将印模130的形状变形：使用极子202和致动器204来膨胀或缩小印模130的一部分或整体。由此，可以校正印模130和衬底110之间的局部误差或尺度误差。根据需要，可以通过一个对齐处理来一起执行第一对齐和第二对齐。0063 当已经完成印模130和衬底110之间的第一对齐和第二对齐时，执行对于衬底110的一个或多个主处理(操作508)。在此，该一个或多个主处理可以对应于对于衬底110执行。
35、的所有其他处理。例如，该一个或多个主处理可以包括：向衬底110的表面施加抗蚀剂；通过在印模130与抗蚀剂的接触后向印模130施加压力来将在印模130上形成的图案转印到在衬底110的表面上的抗蚀剂；通过向抗蚀剂施加热量或紫外(UV)线来将抗蚀剂硬化；以及，然后将硬化的抗蚀剂从衬底110分离。0064 当已经完成对于衬底110的一个或多个主处理时，卸载印模130和衬底110(操作510)。如果存在将被执行处理的任何衬底，则加载这样的衬底，并且重复图5的操作502至510。0065 图6(a)至6(c)和图7(a)至7(c)图示了根据至少一个示例实施例的使用纳米压印平版印刷设备的第二对齐的局部对齐。。
36、印模130和衬底110之间的“对齐”可以指的是在印模130上形成的图案135的区域和在将被转印图案135的衬底110的对应的区域之间说 明 书CN 103149796 A7/8页10在位置和/或大小上的重合。虽然在纳米压印平版印刷设备100中的印模130的变形程度小至大约几十至几百nm，但是为了说明方便，图6(a)至6(c)和图7(a)至7(c)夸大了印模130的变形程度。0066 0067 图6(a)至6(c)图示了根据至少一个示例实施例的使用纳米压印平版印刷设备的第二对齐的局部对齐。图6(a)图示了一种状态，其中，虽然已经执行了印模130和衬底110之间的第一对齐(例如，相对位置对齐)，但。
37、是印模130的右区域的上部(通过实线所示)不与衬底(通过虚线所示)重合，因此，由于印模130的一部分小于衬底110，需要局部对齐。为了对于衬底110执行进一步的处理，需要膨胀(例如，延伸)印模130的右区域的上部，以便通过执行局部对齐来与衬底110重合。0068 为了这个目的，如图6(b)中所示，在由箭头所示的方向上(例如，在向印模130的边缘的方向上)向位于印模130的右区域的上部处的三个极子202a、202b和202c施加力，使得将印模130位移。由此，将印模130变形，使得在与向三个极子202a、202b和202c施加的力的方向相同的方向上膨胀(例如，延伸)印模130的右区域的上部。00。
38、69 通过印模130的这样的变形，执行印模130和衬底110之间的完全对齐，如图6(c)中所示。通过图6(b)和6(c)的虚线所示的极子202的位置是极子202在第二对齐之前的原始位置，并且，通过实线所示的极子202的位置是通过第二对齐改变的极子202的位置。0070 0071 图7(a)至7(c)图示了根据至少一个示例实施例的使用纳米压印平版印刷设备的第二对齐的局部对齐；图7(a)图示了一种状态，其中，虽然已经执行了印模130和衬底110之间的第一对齐(例如，相对位置对齐)，但是通过实线所示的印模130的右区域的上部不与以虚线所示的衬底重合，因此，由于印模130的一部分大于衬底110，需要局。
39、部对齐。为了对于衬底110执行进一步的处理，需要收缩(例如，缩小)印模130的右区域的上部，以便通过执行局部对齐来与衬底110重合。0072 为了这个目的，如图7(b)中所示，在由箭头所示的方向上(例如，在向印模130的中心的方向上)向位于印模130的右区域的上部处的三个极子202a、202b和202c施加力，使得将印模130位移。由此，将印模130变形，使得在与向三个极子202a、202b和202c施加的力的方向相同的方向上收缩(例如，缩小)印模130的右区域的上部。0073 通过印模130的这样的变形，执行印模130和衬底110之间的完全对齐，如图7(c)中所示。通过图7(b)和7(c)的。
40、虚线所示的极子202的位置是极子202在第二对齐之前的原始位置，并且，通过实线所示的极子202的位置是通过第二对齐改变的极子202的位置。0074 图8(a)至8(c)和图9(a)至9(c)图示根据至少一个示例实施例的使用纳米压印平版印刷设备的第二对齐的尺度对齐。印模130和衬底110之间的“对齐”可以指的是在印模130上形成的图案135的区域和在将被转印图案135的衬底110的对应的区域之间在位置和/或大小上的重合。虽然在纳米压印平版印刷设备100中的印模130的变形程度小至大约几十至几百nm，但是为了说明方便，图8(a)至8(c)和图9(a)至9(c)夸大了印模130的变形程度。0075 0076 图8(a)至8(c)图示了根据至少一个示例实施例的使用纳米压印平版印刷设备的说 明 书CN 103149796 A10。