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本发明公开了一种替代化学电镀的多弧离子物理镀涂料，其特征在于：按重量百分比，由以下原料组成：有机硅树脂30-38%，羟基丙烯酸树脂15-22%，聚四氟乙烯液体树脂8-13%，磷硅锆酸钠3-8%，氟碳流平助剂0.5%，有机溶剂30-40%。本发明与现有技术相比的优点是：本发明的涂料解决了多弧离子镀以往存在的缺陷，使物理多弧离子镀工艺完全替代了传统的化学电镀工艺，保护了环境。

1.  一种替代化学电镀的多弧离子物理镀涂料，其特征在于：按重量百分比，由以下原料组成：有机硅树脂30-38%，羟基丙烯酸树脂15-22%，聚四氟乙烯液体树脂8-13%，磷硅锆酸钠3-8%，氟碳流平助剂0.5%，有机溶剂30-40%。

2.  根据权利要求1所述的一种替代化学电镀的多弧离子物理镀涂料，其特征在于：按重量百分比，由以下原料组成：有机硅树脂32-36%，羟基丙烯酸树脂18-20%，聚四氟乙烯液体树脂10-12%，磷硅锆酸钠5-7%，氟碳流平助剂0.5%，有机溶剂31-38%。

3.  根据权利要求1所述的一种替代化学电镀的多弧离子物理镀涂料，其特征在于：按重量百分比，由以下原料组成：有机硅树脂32%，羟基丙烯酸树脂20%，聚四氟乙烯液体树脂10%，磷硅锆酸钠6.5%，氟碳流平助剂0.5%，有机溶剂31%。

一种替代化学电镀的多弧离子物理镀涂料
技术领域
本发明涉及一种涂料，尤其涉及一种替代化学电镀的多弧离子物理镀涂料。 
背景技术
目前，化学电镀在工业中应用已久，但由于在电镀过程中有三废排放对环境污染严重。随着真空技术的发展，采用物理原理的真空多弧离子镀膜势必替代传统的化学电镀。离子镀是在真空室中，利用弧光放电和被蒸发物质离子化，在气体离子和被蒸发物质粒子轰击作用的同时，将蒸发物沉积在基材上形成镀膜，其特点是入射粒子能量高，成膜致密度高，附着力特强等优点，其缺陷在离子镀的膜层不能过厚，过厚将影响附着力，所以制约了多弧离子镀替代化学镀的工艺。 
发明内容
本发明为了解决现有技术的上述不足，提供了一种替代化学电镀的多弧离子物理镀涂料。 
本发明的上述目的通过以下的技术方案来实现：一种替代化学电镀的多弧离子物理镀涂料，其特征在于：按重量百分比，由以下原料组成：有机硅树脂30-38%，羟基丙烯酸树脂15-22%，聚四氟乙烯液体树脂8-13%，磷硅锆酸钠3-8%，氟碳流平助剂0.5%，有机溶剂30-40%。 
本发明配方中的有机硅树脂提供了耐高温1000度及硬度＞6H，羟基丙烯酸树脂提供对金属底材的附着力，聚四氟乙烯提供了热稳定性，磷硅锆酸钠是一种固体电解质提供了表面阳离子，氟碳流平剂提高表面扩张力并可重涂不影响弧气体离化的带阴极的金属离子与漆膜表面带阳极的离子沉积。 
本发明的涂料喷涂在金属基材上固化后经多弧离子镀成的产品饱满度，金属亮度高，硬度达到5-6H，100度水煮，180分钟不掉膜，5%NaCl水浸泡不掉膜，可多弧离子镀铬耙、钛合金耙、镍合金耙。 
本发明与现有技术相比的优点是：本发明的涂料解决了多弧离子镀以往存在的缺陷，使物理多弧离子镀工艺完全替代了传统的化学电镀工艺，保护了环境。 
具体实施方式
下面结合实施例对本发明进一步详述。 
实施例1：一种替代化学电镀的多弧离子物理镀涂料，其特征在于：按重量百分比，由以下原料组成：有机硅树脂30%，羟基丙烯酸树脂15%，聚四氟乙烯液体树脂8%，磷硅锆酸钠6.5%，氟碳流平助剂0.5%，有机溶剂40%。 
实施例2：一种替代化学电镀的多弧离子物理镀涂料，其特征在于：按重量百分比，由以下原料组成，有机硅树脂32%，羟基丙烯酸树脂20%，聚四氟乙烯液体树脂10%，磷硅锆酸钠6.5%，氟碳流平助剂0.5%，有机溶剂31%。 
实施例3：一种替代化学电镀的多弧离子物理镀涂料，其特征在于：按重量百分比，由以下原料组成，有机硅树脂38%，羟基丙烯酸树脂15%，聚四氟乙烯液体树脂13%，磷硅锆酸钠3.5%，氟碳流平助剂0.5%，有机溶剂30%。 
上述的具体实施方式只是示例性的，是为了更好的使本领域技术人员能够理解本专利，不能理解为是对本专利包括范围的限制；只要是根据本专利所揭示精神的所作的任何等同变更或修饰，均落入本专利包括的范围。