一步法制作低反射玻璃的方法 技术领域 本发明涉及一种玻璃表面处理材料的化学组成和制备方法， 特别涉及一步法制作 低反射玻璃的方法， 属于低反射玻璃制作技术领域。
背景技术 低反射玻璃又称减反射玻璃、 无反射玻璃或防眩光玻璃， 是一种与普通玻璃相比 具有较低的光反射比， 使光的反射率降低到 2％以下， 透光率达到 90% 以上。 目前， 低反射玻 璃已广泛应用于电子工业， 高档镜框装裱， 仪表工业等各个领域。
用化学蚀刻方法使玻璃表面的硅氧结构发生改变、 并达到永久性降低光反射比是 制作低反射玻璃的公知技术。 由于该方法简单、 操作容易、 适合于处理大面积玻璃和大规模 生产而倍受关注。
但是， 根据本发明人多年来对蚀刻法制作低反射玻璃技术的研究及实践， 只有在 蚀刻玻璃表面形成均匀的微蜂窝状形貌时， 才能使玻璃对光的捕获能力大大增强， 从而达 到低反射的效果。 但现有的蚀刻制作低反射玻璃方法， 只能在玻璃表面形成粒径较大、 且不
规则的三角锥状小晶体， 必须通过二次抛光等处理， 才能形成具备较小直径的蜂窝状蚀后 形貌。
中国专利 ZL01126227 和 CN101531464A 分别介绍了两种通过玻璃表面蒙砂制作低 反射玻璃的方法。其中前一种方法通过配制的蒙砂膏制作的低反射玻璃技术， 因不能增强 玻璃透光率已被弃用。而后一份中国专利 CN101531464A 介绍的一种低反射玻璃的制备方 法， 操作步骤较多， 蒙砂后形成的玻璃表面形貌， 达不到均匀微蜂窝状态， 不能直接使玻璃 表面达到低反射效果， 不仅需要通过抛光处理才能达到理想的低反射效果， 还必须在蒙砂 处理后用多种强酸配制的透光液进行后期透光处理。因此， 整个制作低反射玻璃的至少三 个独立工艺， 显得比较繁琐、 影响生产效率。为此， 本发明人通过深入的探讨以后， 认识到 CN101531464A 介绍的一种低反射玻璃的制备方法， 之所以存在上述使用效果， 其主要原因 是制作蒙砂液的蒙砂粉的组方还不够科学合理， 正是组方上的不合理， 导致最终在使用这 种蒙砂液进行低反射玻璃制作的工艺繁琐， 达不到均匀微蜂窝状态的重要原因。 发明内容
本发明的目的 ： 旨在提供一步法制作低反射玻璃的方法， 不仅能达到较为理想的 低反射透光功能， 同时也能提高制作效率。
这种一步法制作低反射玻璃的方法， 其特征是 ： 包括蒙砂粉的配制、 与酸反应得 到具有低反射蒙砂能力的蒙砂液、 将玻璃直接放入蒙砂液中进行蚀刻处理三个连续工艺过 程。
所述的蒙砂粉包括基础原料 ： 无机氟化物、 助剂、 填充剂、 表面活性剂、 阻垢剂， 其 组成物的百分比含量分别是 ： 无机氟化物 15~90%、 助剂 10~60%、 填充剂 1~30%、 表面活性剂 0.1~10%、 阻垢剂 1~15% ；所述的蒙砂液由所述蒙砂粉组成物在旋转反应釜内密封搅拌 10~40 分钟后与无机强 酸按 1:0.1~1:1 的重量比进行化学反应， 10-200 小时即成制作低反射玻璃的蒙砂液。
所述的蚀刻处理过程为 ： 将平板玻璃直接浸于蒙砂液中反应 3~200 秒 ； 而后用水 洗净、 晾干后即可得到透光率大于 90%、 反射率小于 2% 的低反射玻璃。
所述蒙砂粉化学组成中包含的无机氟化合物 ： 为氟化铵、 氟化氢铵、 氟化氢钾、 氟 化氢钠、 氟硼酸钾、 氟硼酸钠、 氟化钾、 氟化钠中的任一种， 或者是一种以上的组合物。
所述蒙砂粉化学组成中包含的助剂 ： 为氟化铝、 氟化钙、 氟化钡、 氟化镁、 氟硅酸 钠、 氟硅酸铝、 氟硅酸镁、 淀粉中的任一种， 或者是一种以上的组合物。
所述蒙砂粉的化学组成中包含的填充剂 ： 为膨润土、 重晶石粉、 高岭土、 硫酸镁、 硫 酸钾、 硫酸钡、 硫酸铝、 硫酸铵、 磷酸钾的任一种， 或者是一种以上的组合物。
所述蒙砂粉的化学组成中包含的表面活性剂 ： 为聚丙烯酰胺、 阳离子淀粉醚、 阳离 子瓜尔胶、 十二烷基苯硫酸钙、 海藻酸钠、 羧甲基纤维素、 羧甲基纤维素钠、 羟甲基纤维素、 羟乙基纤维素的任一种， 或者是一种以上的组合物。
所述蒙砂粉化学组成中包含的阻垢剂 ： 为 三聚磷酸钠、 焦磷酸钠、 六偏磷酸钠、 羟基亚乙基二膦酸四钠、 羟基亚乙基二膦酸、 二乙烯三胺五亚甲基膦酸五钠、 乙二胺四亚甲 基膦酸、 乙二胺四亚甲基膦酸五钠、 氨基三亚甲基膦酸任一种， 或者是一种以上的组合物。
所述蒙砂粉组成物各颗粒原料的粒径小于 20 目。
所述蒙砂粉配制蒙砂液时用的无机强酸 ： 为质量浓度为 30~65% 的氢氟酸、 质量浓 度为 80~98% 的硫酸、 质量浓度为 20~36% 的盐酸、 质量浓度为 50~65% 的硝酸中的任一种， 或 者为上述两种以上酸的混合酸。
根据以上技术方案提出的这种一步法制作低反射玻璃的方法， 由于不仅采用了传 统蒙砂粉惯用的组成物料 ： 无机氟化物、 助剂、 填充剂和表面活性剂， 同时又添加了阻垢剂， 因此， 不仅使蒙砂处理后的玻璃表面一次性形成均匀微蜂窝状形貌， 同时也减少了蒙砂处 理工序， 蒙砂处理后不需再经过强酸混合透光溶液进行透光后处理， 使工艺更简单。 附图说明
图 1 为一步法制作低反射玻璃的工艺流程图。 具体实施方式
这种一步法制作低反射玻璃的方法， 它包括蒙砂粉的配制、 与酸反应得到具有低 反射蒙砂能力的蒙砂液、 将玻璃直接放入蒙砂液中进行蚀刻处理三个连续工艺过程。
所述的蒙砂粉包括基础原料 ： 无机氟化物、 助剂、 填充剂、 表面活性剂、 阻垢剂， 其 组成物的百分比含量分别是 ： 无机氟化物 15~90%、 助剂 10~60%、 填充剂 1~30%、 表面活性剂 0.1~10%、 阻垢剂 1~15%。
所述的蒙砂液由所述蒙砂粉组成物在旋转反应釜内密封搅拌 10~40 分钟后与无 机强酸按 1:0.1~1:1 的重量比进行化学反应， 10-200 小时即成制作低反射玻璃的蒙砂液。
所述的蚀刻处理过程为 ： 将平板玻璃直接浸于此蒙砂液中反应 3~200 秒 ； 而后用 水洗净、 晾干后即可得到透光率大于 90%、 反射率小于 2% 的低反射玻璃。
所述蒙砂粉化学组成中包含的无机氟化合物 ： 为氟化铵、 氟化氢铵、 氟化氢钾、 氟化氢钠、 氟硼酸钾、 氟硼酸钠、 氟化钾、 氟化钠中的任一种， 或者是一种以上的组合物。
所述蒙砂粉化学组成中包含的助剂 ： 为氟化铝、 氟化钙、 氟化钡、 氟化镁、 氟硅酸 钠、 氟硅酸铝、 氟硅酸镁、 淀粉中的任一种， 或者是一种以上的组合物。
所述蒙砂粉的化学组成中包含的填充剂 ： 为膨润土、 重晶石粉、 高岭土、 硫酸镁、 硫 酸钾、 硫酸钡、 硫酸铝、 硫酸铵、 磷酸钾的任一种， 或者是一种以上的组合物。
所述蒙砂粉的化学组成中包含的表面活性剂 ： 为聚丙烯酰胺、 阳离子淀粉醚、 阳离 子瓜尔胶、 十二烷基苯硫酸钙、 海藻酸钠、 羧甲基纤维素、 羧甲基纤维素钠、 羟甲基纤维素、 羟乙基纤维素的任一种， 或者是一种以上的组合物。
所述蒙砂粉化学组成中包含的阻垢剂 ： 为 三聚磷酸钠、 焦磷酸钠、 六偏磷酸钠、 羟基亚乙基二膦酸四钠、 羟基亚乙基二膦酸、 二乙烯三胺五亚甲基膦酸五钠、 乙二胺四亚甲 基膦酸、 乙二胺四亚甲基膦酸五钠、 氨基三亚甲基膦酸任一种， 或者是一种以上的组合物。
所述蒙砂粉组成物各颗粒原料的粒径小于 20 目。
所述蒙砂粉配制蒙砂液时用的无机强酸 ： 为氢氟酸、 硫酸、 盐酸、 硝酸中的任一种， 为质量浓度为 30~65% 的氢氟酸、 质量浓度为 80~98% 的硫酸、 质量浓度为 20~36% 的盐酸、 质 量浓度为 50~65% 的硝酸中的任一种， 或者为上述两种以上酸的混合酸。 这种应用蒙砂技术一步法制作低反射玻璃的方法可归纳为 ： A、将配制的蒙砂粉混合、 搅拌溶解于无机强酸溶液中， 反应 10~200 小时后形成一种能制作低反射玻璃的蒙砂溶液。
B、将平板玻璃直接浸于此蒙砂溶液中进行蚀刻反应 3~200 秒。
C、 用水洗净， 晾干后即可得到透光率大于 90%、 反射率小于 2% 的低 反射玻璃。
以下结合工艺流程图， 进一步阐述本发明， 并给出发明的实例。
实施例 1 ： 参照附图流程进行， （1） 配制低反射玻璃蒙砂粉。
其中 ： 无机氟化物 ：氟化氢铵 4 千克， 氟化氢钾 1.5 千克 ； 助 剂： 氟化钙 1.5 千克 ； 填 充 剂 ： 硫酸铵 1.8 千克、 磷酸钾 0.5 千克 ； 表面活性剂 ： 海藻酸钠 0.5 千克 阻 垢 剂 ： 乙二胺四亚甲基膦酸五钠 0.2 千克 ； 将上述化合物在搅拌釜内混合均匀。
（2） 配制低反射玻璃蒙砂液。
将上述蒙砂粉组合物与盐酸以 1:0.1~1:1 的比例混合， 保持反应 10-200 小时。
（3） 制备低反射玻璃。将洗净的玻璃浸泡在蒙砂液中 3-200 秒， 取出洗净晾干即得 低反射玻璃。
实施例 2 ： 参照附图流程进行。
（1） 配制低反射蒙砂粉。
其中 ： 无机氟化物 ： 氟化铵 3 千克， 氟化氢钠 2 千克 ；
助 剂 ： 氟化钡 2 千克 ； 填 充 剂 ： 高岭土 2 千克 ； 表面活性剂 ： 羟乙基纤维素 0.5 千克 阻 垢 剂 ： 乙二胺四亚甲基膦酸 0.5 千克。
将上述化合物在搅拌釜内混合均匀。
（2） 配制低反射蒙砂液。
将上述蒙砂粉组合物与盐酸以 1:0.1~1:1 的比例混合， 保持反应 10-200 小时。
（3） 制备低反射玻璃。
将洗净的玻璃浸泡在蒙砂液中 3-200 秒， 取出洗净晾干即得低反射玻璃。
实施例 3 ： 参照附图流程进行。
（1） 配制低反射蒙砂粉。
其中 ： 无机氟化物 ： 氟化钠 3 千克， 氟化氢铵 4 千克 ； 助 剂 ： 氟硅酸钠 1 千克 ； 填 充 剂 ： 重晶石粉 1.5 千克 ； 表面活性剂 ： 羟甲基纤维素 0.3 千克 阻 垢 剂 ： 三聚磷酸钠 0.2 千克。 将上述化合物在搅拌釜内混合均匀。
（2） 配制低反射蒙砂液。
将上述蒙砂粉组合物与氢氟酸以 1:0.1~1:1 的比例混合， 保持反应 10-200 小时。
（3） 制备低反射玻璃。
将洗净的玻璃浸泡在蒙砂液中 3-200 秒， 取出洗净晾干即得低反射玻璃。
实施例 4 ： 参照附图流程进行。
（1） 配制低反射蒙砂粉。
其中 ： 无机氟化物 ： 氟化钾 2 千克， 氟硼酸钾 1 千克 ； 助 剂 ： 淀粉 4 千克 ； 填 充 剂 ： 膨润土 1.8 千克 ； 表面活性剂 ： 聚丙烯酰胺 0.4 千克 阻 垢 剂 ： 氨基三亚甲基膦酸 0.8 千克。
将上述化合物在搅拌釜内混合均匀。
（2） 配制低反射蒙砂液。
将上述蒙砂粉组合物与硫酸以 1:0.1~1:1 的比例混合， 保持反应 10-200 小时。
（3） 制备低反射玻璃。
将洗净的玻璃浸泡在蒙砂液中 3-200 秒， 取出洗净晾干即得低反射玻璃。
实施例 5 ： 参照附图流程进行。
（1） 配制低反射蒙砂粉。
其中 ： 无机氟化物 ： 氟化铵 2 千克， 氟硼酸钠 2 千克 ；
助 剂 ： 氟化镁 1 千克， 氟硅酸镁 2 千克 ； 填 充 剂 ： 硫酸铝 2.3 千克 ； 表面活性剂 ： 阳离子淀粉醚 0.1 千克 阻 垢 剂 ： 羟基亚乙基二膦酸四钠 0.6 千克 ； 。
将上述化合物在搅拌釜内混合均匀。
（2） 配制低反射蒙砂液。
将上述蒙砂粉组合物与硫酸以 1:0.1~1:1 的比例混合， 保持反应 10-200 小时。
（3） 制备低反射玻璃。
将洗净的玻璃浸泡在蒙砂液中 3-200 秒， 取出洗净晾干即得低反射玻璃。
实施例 6 ： 参照附图流程进行。
（1） 配制低反射蒙砂粉。
其中 ： 无机氟化物 ： 氟化氢铵 3 千克 ； 助 剂 ： 氟硅酸铝 5 千克 ； 填 充 剂 ： 硫酸钾 1.1 千克 ； 表面活性剂 ： 十二烷基苯硫酸钙 0.2 千克 阻 垢 剂 ： 二乙烯三胺五亚甲基膦酸五钠 0.7 千克。 将上述化合物在搅拌釜内混合均匀。
（2） 配制低反射蒙砂液。
将上述蒙砂粉组合物与盐酸以 1:0.1~1:1 的比例混合， 保持反应 10-200 小时。
（3） 制备低反射玻璃。
将洗净的玻璃浸泡在蒙砂液中 3-200 秒， 取出洗净晾干即得低反射玻璃。
实施例 7 ： 参照附图流程进行。
（1） 配制低反射蒙砂粉。
其中 ： 无机氟化物 ： 氟化铵 4 千克， 氟化钠 1 千克， 氟硼酸钾 1 千克 ； 助 剂 ： 淀粉 1 千克， 氟化钙 1 千克 ； 填 充 剂 ： 硫酸钡 0.5 千克， 硫酸镁 0.5 千克 ； 表面活性剂 ： 阳离子瓜尔胶 0.6 千克 ； 阻 垢 剂 ： 六偏磷酸钠 0.4 千克。
将上述化合物在搅拌釜内混合均匀。
（2） 配制低反射蒙砂液。
将上述蒙砂粉组合物与盐酸以 1:0.1~1:1 的比例混合， 保持反应 10-200 小时。
（3） 制备低反射玻璃。
将洗净的玻璃浸泡在蒙砂液中 3-200 秒， 取出洗净晾干即得低反射玻璃。
实施例 8 ： 参照附图流程进行。
（1） 配制低反射蒙砂粉。
其中 ： 无机氟化物 ： 氟化氢钠 2 千克， 氟化钠 1 千克， 氟化铵 5 千克 ；
助 剂： 氟化钡 1 千克 ； 填 充 剂 ： 硫酸钡 0.5 千克 ； 表面活性剂 ： 羧甲基纤维素 0.4 千克 ； 阻 垢 剂 ： 焦磷酸钠 0.1 千克。
将上述化合物在搅拌釜内混合均匀。
（2） 配制低反射蒙砂液。
将上述蒙砂粉组合物与盐酸以 1:0.1~1:1 的比例混合， 保持反应 10-200 小时。
（3） 制备低反射玻璃。
将洗净的玻璃浸泡在蒙砂液中 3-200 秒， 取出洗净晾干即得低反射玻璃。
实施例 9 ： 参照附图流程进行。
（1） 配制低反射蒙砂粉。
其中 ： 无机氟化物 ： 氟化铵 2.5 千克， 氟化氢钾 1.5 千克 ； 助 剂 ： 淀粉 3 千克， 氟硅酸钠 1 千克 ； 填 充 剂 ： 高岭土 1 千克， 硫酸钾 0.6 千克 ； 表面活性剂 ： 羧甲基纤维素钠 0.2 千克 阻 垢 剂 ： 羟基亚乙基二膦酸四钠 0.2 千克。
将上述化合物在搅拌釜内混合均匀。
（2） 配制低反射蒙砂液。
将上述蒙砂粉组合物与硝酸以 1:0.1~1:1 的比例混合， 保持反应 10-200 小时。
（3） 制备低反射玻璃。
将洗净的玻璃浸泡在蒙砂液中 3-200 秒， 取出洗净晾干即得低反射玻璃。
应用本发明技术， 可直接使玻璃表面晶粒数增加， 平均粒径减小， 最终导致玻璃表 面蜂窝状形貌的形成， 增强玻璃对光的捕捉能力。与以往玻璃蒙砂技术相比， 由于对蒙砂 粉的组成料进行更为合理的科学调配， 尤其是在普通惯用的蒙砂粉组合中添加了阻垢剂， 因此在低反射玻璃制作中可以省去透光处理工序， 蒙砂处理后不需再经过强酸混合溶液处 理， 使工艺更简单实现了一步法制作低反射玻璃。
在实际应用中， 可以通过所选择无机强酸种类的选择、 浓度的调配， 掌控蒙砂液的 制作过程中时间的长短。